公开(公告)号：CN102263058A

公开(公告)日：2011-11-30

申请号：CN201110040222.2

申请日：2007-06-12

Applicant: 瑞萨电子株式会社

Inventor： 石桥健夫 ,  米仓和贤 ,  田所昌洋 ,  吉川和范 ,  小野良治

IPC: H01L21/768 ,  H01L21/311 ,  H01L21/3105 ,  H01L21/033

CPC classification number: H01L21/31144 ,  H01L21/0332 ,  H01L21/0337 ,  H01L21/31058 ,  H01L21/31155 ,  H01L21/76808 ,  H01L21/76825 ,  H01L21/76826

Abstract: 本发明涉及一种半导体装置的制造方法，其目的在于，降低被加工膜的加工性状的恶化及图案的皲裂，忠实于设计，且也可以适用于双嵌入式工序等。包括：通过在被加工膜(2)上进行膜的涂敷、加热硬化，形成至少由一个以上的膜构成的加工用掩模层(下层有机膜3及中间层5)，并对加工用掩模层中的至少一个膜进行硬化处理的加工用掩模层形成工序；在加工用掩模层上涂敷曝光用抗蚀膜，进行曝光显影，由此形成抗蚀图(6)，以该抗蚀图(6)为掩模蚀刻加工用掩模层的加工用掩模层蚀刻工序；以加工用掩模层蚀刻工序中形成的加工用掩模层的图案为掩模蚀刻被加工膜(2)的被加工膜蚀刻工序。

公开(公告)号：CN101090067B

公开(公告)日：2011-04-06

申请号：CN200710109002.4

申请日：2007-06-12

Applicant: 瑞萨电子株式会社

Inventor： 石桥健夫 ,  米仓和贤 ,  田所昌洋 ,  吉川和范 ,  小野良治

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/768 ,  G03F7/00

CPC classification number: H01L21/31144 ,  H01L21/0332 ,  H01L21/0337 ,  H01L21/31058 ,  H01L21/31155 ,  H01L21/76808 ,  H01L21/76825 ,  H01L21/76826

Abstract: 本发明涉及一种半导体装置的制造方法，其目的在于，降低被加工膜的加工性状的恶化及图案的皲裂，忠实于设计，且也可以适用于双嵌入式工序等。包括：通过在被加工膜(2)上进行膜的涂敷、加热硬化，形成至少由一个以上的膜构成的加工用掩模层(下层有机膜3及中间层5)，并对加工用掩模层中的至少一个膜进行硬化处理的加工用掩模层形成工序；在加工用掩模层上涂敷曝光用抗蚀膜，进行曝光显影，由此形成抗蚀图(6)，以该抗蚀图(6)为掩模蚀刻加工用掩模层的加工用掩模层蚀刻工序；以加工用掩模层蚀刻工序中形成的加工用掩模层的图案为掩模蚀刻被加工膜(2)的被加工膜蚀刻工序。

公开(公告)号：CN102263058B

公开(公告)日：2014-02-26

申请号：CN201110040222.2

申请日：2007-06-12

Applicant: 瑞萨电子株式会社

Inventor： 石桥健夫 ,  米仓和贤 ,  田所昌洋 ,  吉川和范 ,  小野良治

IPC: H01L21/768 ,  H01L21/311 ,  H01L21/3105 ,  H01L21/033

CPC classification number: H01L21/31144 ,  H01L21/0332 ,  H01L21/0337 ,  H01L21/31058 ,  H01L21/31155 ,  H01L21/76808 ,  H01L21/76825 ,  H01L21/76826

Abstract: 本发明涉及一种半导体装置的制造方法，其目的在于，降低被加工膜的加工性状的恶化及图案的皲裂，忠实于设计，且也可以适用于双嵌入式工序等。包括：通过在被加工膜(2)上进行膜的涂敷、加热硬化，形成至少由一个以上的膜构成的加工用掩模层(下层有机膜3及中间层5)，并对加工用掩模层中的至少一个膜进行硬化处理的加工用掩模层形成工序；在加工用掩模层上涂敷曝光用抗蚀膜，进行曝光显影，由此形成抗蚀图(6)，以该抗蚀图(6)为掩模蚀刻加工用掩模层的加工用掩模层蚀刻工序；以加工用掩模层蚀刻工序中形成的加工用掩模层的图案为掩模蚀刻被加工膜(2)的被加工膜蚀刻工序。

公开(公告)号：CN102809393A

公开(公告)日：2012-12-05

申请号：CN201210176894.0

申请日：2012-05-31

Applicant: 瑞萨电子株式会社

Inventor： 小野良治 ,  狩野治 ,  清水祥弘 ,  宫河义弘 ,  川尻洋之 ,  古川雄大

IPC: G01F1/60

CPC classification number: G01F1/075 ,  G01F15/068

Abstract: 一种电子式流量计，包括磁性传感器、相位A驱动器和相位B驱动器、相位A比较器、相位B比较器、二相位编码器、以及旋转速度计时器。二相位编码器基于分别由相位A和相位B比较器采样的事件信号确定叶轮旋转的正向/反向，根据所确定的正向/反向使计数器正计数或倒计数，从而输出事件计数信号。旋转速度计时器根据二相位编码器输出的事件计数信号计算叶轮的旋转频率，并根据所计算的叶轮的旋转频率设置在下次测量叶轮的旋转频率时相位A和相位B比较器的各自的采样信号的频率以及相位A和相位B驱动器的各自的驱动周期。