半导体器件
    1.
    发明公开
    半导体器件 审中-公开

    公开(公告)号:CN118053843A

    公开(公告)日:2024-05-17

    申请号:CN202311453266.7

    申请日:2023-11-03

    Abstract: 介电膜IF被设置在半导体衬底SB上,并且多个电熔丝部FU被设置在介电膜IF上。n型第一阱区WL1被设置在半导体衬底SB中以及半导体衬底SB的表面上。第一阱区WL1通过将位于多个电熔丝部FU中的每个电熔丝部FU下方的阱区WLa彼此整体地连接来形成。

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