半导体装置的制造方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119856257A

    公开(公告)日:2025-04-18

    申请号:CN202380064824.2

    申请日:2023-09-11

    Abstract: 本发明涉及半导体装置的制造方法,其依次具有下述工序1及工序2,工序1包括对粘贴于该双面粘合片的支撑体进行磨削的支撑体磨削处理。工序1:制作依次具有支撑体、双面粘合片及加工对象物的层叠体的工序;工序2:在将所述层叠体的支撑体固定了的状态下对所述加工对象物进行磨削的工序。

    半导体加工用粘合片
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN109937245B

    公开(公告)日:2022-01-18

    申请号:CN201780070366.8

    申请日:2017-10-03

    Abstract: 本发明的半导体加工用粘合片依次具有基材、中间层及粘合剂层,其中,所述中间层是由中间层形成用组合物形成的层,并且所述粘合剂层为能量线固化性,所述中间层形成用组合物含有非能量线固化性的丙烯酸类聚合物(A)和重均分子量为5万~25万的能量线固化性的丙烯酸类聚合物(B),能量线固化后的中间层和粘合剂层在23℃下的弹性模量差为20MPa以下。

    粘着胶带及半导体装置的制造方法

    公开(公告)号:CN111868190A

    公开(公告)日:2020-10-30

    申请号:CN201980020569.5

    申请日:2019-02-27

    Abstract: 本发明提供一种即使在所谓的预切割法之后进行干式抛光时,也能够稳定地保持芯片等的粘着胶带。所述粘着胶带在对半导体晶圆表面形成有沟槽的半导体晶圆的背面进行磨削,并通过该磨削使半导体晶圆单颗化为半导体芯片后,进行干式抛光的工序中,贴附于半导体晶圆表面而进行使用,所述粘着胶带包含基材、及设置在该基材的一面的粘着剂层,60℃下的所述基材的拉伸储能模量为250Mpa以上。

    粘合片
    10.
    发明授权

    公开(公告)号:CN107001872B

    公开(公告)日:2020-04-07

    申请号:CN201580064807.4

    申请日:2015-12-17

    Abstract: 本发明的粘合片(10A)依次具备:基材(11)、中间层(12)及粘合剂层(13),其中,中间层(12)是将含有多官能化合物和单官能单体的中间层用组合物固化而成的,所述多官能化合物具有至少2个聚合性官能团,所述单官能单体至少包含具有碳原子数14~22的直链碳链的结晶性单体,在中间层用组合物中,含有相对于所述单官能单体多于25质量%的所述多官能化合物。

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