光谱仪
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN108593108A

    公开(公告)日:2018-09-28

    申请号:CN201810474131.1

    申请日:2018-05-17

    IPC分类号: G01J3/28 G01J3/02

    摘要: 本发明涉及一种光谱仪。该光谱仪包括:准直元件,用于将宽带光束转变为平行光;色散设备,用于将平行光按波长分散成多束色散光;聚焦元件,用于将具有相同波长的色散光聚焦,且聚焦元件将具有不同波长的色散光聚焦在其焦平面上的不同位置处,且各色散光的聚焦光斑沿一直线顺序排列;以及探测设备,在焦平面上具有多个探测位置,探测设备用于探测多个不同预设波长的色散光;在平行光射入色散设备的入射角一定时,色散设备和聚焦元件相配合,使得多个不同预设波长的色散光的聚焦位置与多个探测位置一一对应匹配;不同预设波长的色散光中,任意两束相邻的色散光的波数差相等。上述光谱仪的成像过程中运算大大减少,节省了成像时间,提高了成像速度。

    光谱仪的装调装置及方法

    公开(公告)号:CN109297927A

    公开(公告)日:2019-02-01

    申请号:CN201810955664.1

    申请日:2018-08-21

    发明人: 孙竹 何云 杨旻蔚

    IPC分类号: G01N21/359 G01J3/42 G01J3/02

    摘要: 一种光谱仪的装调装置及方法,包括如下步骤:观察出射聚焦透镜后的光线不同位置处的光斑,固定准直透镜的位置;根据入射狭缝与线阵相机之间的角度关系,将反射镜与衍射光栅以预定角度进行相互固定;将反射镜及衍射光栅以同一轴线转动设置在壳体中,对反射镜及衍射光栅进行转动调节,直至衍射光栅的检测级所对应的衍射光会聚到线阵相机中;进行会聚透镜装调;及确定线阵相机的波长分布曲线。通过准直光线的主要部分经过反射镜后反射至衍射光栅;转动调节反射镜及衍射光栅,衍射光栅的检测级所对应的衍射光会聚到线阵相机中,从而避免了对反射镜及衍射光栅相对入射狭缝或线阵相机的角度进行重复调整,提高光谱仪在装调效率,有效提升光谱仪的产量。

    光谱仪的装调装置及方法

    公开(公告)号:CN109297927B

    公开(公告)日:2020-10-13

    申请号:CN201810955664.1

    申请日:2018-08-21

    发明人: 孙竹 何云 杨旻蔚

    IPC分类号: G01N21/359 G01J3/42 G01J3/02

    摘要: 一种光谱仪的装调装置及方法,包括如下步骤:观察出射准直透镜后的光线不同位置处的光斑,固定准直透镜的位置;根据入射狭缝与线阵相机之间的角度关系,将反射镜与衍射光栅以预定角度进行相互固定;将反射镜及衍射光栅以同一轴线转动设置在壳体中,对反射镜及衍射光栅进行转动调节,直至衍射光栅的检测级所对应的衍射光会聚到线阵相机中;进行会聚透镜装调;及确定线阵相机的波长分布曲线。通过准直光线的主要部分经过反射镜后反射至衍射光栅;转动调节反射镜及衍射光栅,衍射光栅的检测级所对应的衍射光会聚到线阵相机中,从而避免了对反射镜及衍射光栅相对入射狭缝或线阵相机的角度进行重复调整,提高光谱仪在装调效率,有效提升光谱仪的产量。

    包衣锅的监控方法及系统

    公开(公告)号:CN108775870A

    公开(公告)日:2018-11-09

    申请号:CN201810307361.9

    申请日:2018-04-08

    IPC分类号: G01B11/06 G01N21/31

    摘要: 本发明涉及一种包衣锅的监控系统。该监控系统包括光源、光分路设备、探头设备、光谱仪及处理器。所述光源发射初始光;所述光分路设备用于将所述初始光分为参考光和样品光;所述探头设备将所述样品光聚焦至所述包衣锅内的包衣上,并探测所述包衣反射的包衣反射光;所述参考光和所述包衣反射光发生干涉,形成干涉光;所述光谱仪采集并分析所述干涉光,得到干涉光谱信号;所述处理器处理所述干涉光谱信号,得到包衣信息数据。本发明还涉及一种包衣锅的监控方法。上述方法及系统可以实时监测包衣的情况,可以应用在包衣制剂生产过程中,给药系统的设计研发、释药制备工艺的优化等方面有着积极的意义。

    包衣锅的监控方法及系统

    公开(公告)号:CN108775870B

    公开(公告)日:2021-08-10

    申请号:CN201810307361.9

    申请日:2018-04-08

    IPC分类号: G01B11/06 G01N21/31

    摘要: 本发明涉及一种包衣锅的监控系统。该监控系统包括光源、光分路设备、探头设备、光谱仪及处理器。所述光源发射初始光;所述光分路设备用于将所述初始光分为参考光和样品光;所述探头设备将所述样品光聚焦至所述包衣锅内的包衣上,并探测所述包衣反射的包衣反射光;所述参考光和所述包衣反射光发生干涉,形成干涉光;所述光谱仪采集并分析所述干涉光,得到干涉光谱信号;所述处理器处理所述干涉光谱信号,得到包衣信息数据。本发明还涉及一种包衣锅的监控方法。上述方法及系统可以实时监测包衣的情况,可以应用在包衣制剂生产过程中,给药系统的设计研发、释药制备工艺的优化等方面有着积极的意义。

    共振隧穿二极管晶圆结构的制备方法

    公开(公告)号:CN108648997B

    公开(公告)日:2020-02-18

    申请号:CN201810488345.4

    申请日:2018-05-21

    IPC分类号: H01L21/329 H01L21/306

    摘要: 本发明涉及一种共振隧穿二极管晶圆结构的制备方法,包括如下步骤:提供衬底;在衬底上依次层叠沉积的第一重掺杂InGaAs层、InP层、第一AlAs势垒层、InGaAs势阱层、第二AlAs势垒层和第二重掺杂InGaAs层;在所述第二重掺杂InGaAs层上沉积金属图形,形成第二欧姆接触;在金属图形以外的区域,先用可刻蚀InGaAs材料和AlAs材料、但不刻蚀InP材料的第一刻蚀液从第二重掺杂InGaAs层刻蚀至InP层,再用可刻蚀InP材料、但不刻蚀InGaAs材料和AlAs材料的第二刻蚀液刻蚀至第一重掺杂InGaAs层;在经刻蚀处理后的第一重掺杂InGaAs层上沉积金属形成第一欧姆接触。

    共振隧穿二极管晶圆结构的制备方法

    公开(公告)号:CN108648997A

    公开(公告)日:2018-10-12

    申请号:CN201810488345.4

    申请日:2018-05-21

    IPC分类号: H01L21/329 H01L21/306

    摘要: 本发明涉及一种共振隧穿二极管晶圆结构的制备方法,包括如下步骤:提供衬底;在衬底上依次层叠沉积的第一重掺杂InGaAs层、InP层、第一AlAs势垒层、InGaAs势阱层、第二AlAs势垒层和第二重掺杂InGaAs层;在所述第二重掺杂InGaAs层上沉积金属图形,形成第二欧姆接触;在金属图形以外的区域,先用可刻蚀InGaAs材料和AlAs材料、但不刻蚀InP材料的第一刻蚀液从第二重掺杂InGaAs层刻蚀至InP层,再用可刻蚀InP材料、但不刻蚀InGaAs材料和AlAs材料的第二刻蚀液刻蚀至第一重掺杂InGaAs层;在经刻蚀处理后的第一重掺杂InGaAs层上沉积金属形成第一欧姆接触。