发明公开
- 专利标题: 高峰谷电流比的共振隧穿二极管晶圆结构及其制备方法
-
申请号: CN201810316297.0申请日: 2018-04-10
-
公开(公告)号: CN108550620A公开(公告)日: 2018-09-18
- 发明人: 张翠 , 丁庆 , 冯军正 , 杨旻蔚 , 刘荣跃 , 孙竹 , 许奔
- 申请人: 雄安华讯方舟科技有限公司 , 深圳市太赫兹科技创新研究院
- 申请人地址: 河北省保定市容城县容蠡路西侧华北机电城2号楼1号房
- 专利权人: 雄安华讯方舟科技有限公司,深圳市太赫兹科技创新研究院
- 当前专利权人: 雄安华讯方舟科技有限公司,深圳市太赫兹科技创新研究院
- 当前专利权人地址: 河北省保定市容城县容蠡路西侧华北机电城2号楼1号房
- 代理机构: 深圳中一专利商标事务所
- 代理商 官建红
- 主分类号: H01L29/20
- IPC分类号: H01L29/20 ; H01L21/329 ; H01L29/88
摘要:
一种共振隧穿二极管晶圆结构及制备方法。该共振隧穿二极管晶圆结构,包括层叠设置的收集层、双势垒量子阱结构和发射层,所述双势垒量子阱结构包括依次层叠设置的第一AlAs势垒层、第一InGaAs势阱层、第二InGaAs势阱层和第二AlAs势垒层,且所述第一InGaAs势阱层和所述第二InGaAs势阱层之间设置有InAs亚势阱层;其中,所述第一AlAs势垒层靠近所述收集层,所述第二AlAs势垒层靠近所述发射层;或所述第一AlAs势垒层靠近所述发射层,所述第二AlAs势垒层靠近所述收集层。该共振隧穿二极管晶圆结构在相同工作偏压下,有更多的电子实现迁移,电流响应更大,增加了峰谷电流比值。
IPC分类: