一种干涉系统
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN119065143B

    公开(公告)日:2025-03-18

    申请号:CN202411562866.1

    申请日:2024-11-05

    Abstract: 本申请公开了一种干涉系统,该干涉系统包括基准座、测量物镜、分光棱镜、第一调节组件、参考物镜、第二调节组件、反射镜安装座、参考反射镜和第三调节组件。测量物镜连接于基准座,分光棱镜活动设置于基准座内。第二调节组件活动设置于基准座,第二调节组件包括物镜转动调节件,参考物镜连接于物镜转动调节件,物镜转动调节件的一侧具有旋转弧面,物镜转动调节件能够围绕旋转弧面的圆心转动,并带动参考物镜转动,以调节参考物镜的朝向。物镜转动调节件通过旋转弧面实现了对参考物镜的转动自由度的调节,与传统的利用多个支撑点的位置变化来带动调节板旋转的方案相比,结构更加简洁和紧凑。

    干涉系统
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119065144A

    公开(公告)日:2024-12-03

    申请号:CN202411578151.5

    申请日:2024-11-07

    Abstract: 本申请公开了一种干涉系统,该干涉系统包括基准座、测量物镜、分光棱镜、第一调节组件、参考物镜、第二调节组件、反射镜安装座、参考反射镜和第三调节组件。第二调节组件包括物镜转动调节件,参考物镜连接于物镜转动调节件,物镜转动调节件具有至少两个调节层,相邻的调节层之间形成调节间隙,调节间隙具有相对设置的开口侧和形变侧,开口侧具有将相邻的调节层分离的开口,形变侧设有将相邻的调节层连接的形变部。形变部能够在外力作用下发生形变,以使相邻的调节层在开口侧相互靠近和远离,并带动参考物镜转动。通过形变部的受力形变使相邻的调节层在开口侧相互靠近和远离,以实现对参考物镜的转动自由度的调节。

    光学检测系统
    3.
    发明公开
    光学检测系统 审中-实审

    公开(公告)号:CN117433427A

    公开(公告)日:2024-01-23

    申请号:CN202310907344.X

    申请日:2023-07-21

    Abstract: 本发明实施例提供的一种光学检测系统,包括:光源、调整模块、第一检测模块、第二检测模块和采集模块。所述光源用于产生或引入测量用光。所述调整模块用于调整光线。所述第一检测模块和所述第二检测模块用于对光线进行扩束整形。并且第二检测模块的扩束整形能力强于所述第一检测模块的扩束整形能力。所述采集模块可以采集光学数据。本发明实施例具有测量精度高、倍率调节区间大的特点。

    干涉系统
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN119065144B

    公开(公告)日:2025-03-11

    申请号:CN202411578151.5

    申请日:2024-11-07

    Abstract: 本申请公开了一种干涉系统,该干涉系统包括基准座、测量物镜、分光棱镜、第一调节组件、参考物镜、第二调节组件、反射镜安装座、参考反射镜和第三调节组件。第二调节组件包括物镜转动调节件,参考物镜连接于物镜转动调节件,物镜转动调节件具有至少两个调节层,相邻的调节层之间形成调节间隙,调节间隙具有相对设置的开口侧和形变侧,开口侧具有将相邻的调节层分离的开口,形变侧设有将相邻的调节层连接的形变部。形变部能够在外力作用下发生形变,以使相邻的调节层在开口侧相互靠近和远离,并带动参考物镜转动。通过形变部的受力形变使相邻的调节层在开口侧相互靠近和远离,以实现对参考物镜的转动自由度的调节。

    光学测量方法、装置、系统及计算机可读介质

    公开(公告)号:CN119374476A

    公开(公告)日:2025-01-28

    申请号:CN202310905953.1

    申请日:2023-07-21

    Abstract: 本发明一个实施例提供一种光学测量方法、装置、系统及计算机可读介质,测量方法包括:参数确定步骤,根据待测物的尺寸参数确定参数信息;其中,参数信息包括目标干涉模式和目标光阑直径;干涉模式选自测量倍率互不相同的多种干涉模式;测量结果获取步骤,获取待测物根据参数信息进行测量得到的测量结果信息;测量效果判断步骤,根据测量结果信息对测量的效果进行判断,得到判断结果;判断结果处理步骤,当判断结果为测量结果有效时,根据测量结果信息确定待测物的实际尺寸参数;否则,重新确定目标光阑直径,返回至测量结果获取步骤。本发明实施例能兼容不同深宽比的TSV的测量,降低测量难度,提高测量效率。

    一种干涉系统
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119065143A

    公开(公告)日:2024-12-03

    申请号:CN202411562866.1

    申请日:2024-11-05

    Abstract: 本申请公开了一种干涉系统,该干涉系统包括基准座、测量物镜、分光棱镜、第一调节组件、参考物镜、第二调节组件、反射镜安装座、参考反射镜和第三调节组件。测量物镜连接于基准座,分光棱镜活动设置于基准座内。第二调节组件活动设置于基准座,第二调节组件包括物镜转动调节件,参考物镜连接于物镜转动调节件,物镜转动调节件的一侧具有旋转弧面,物镜转动调节件能够围绕旋转弧面的圆心转动,并带动参考物镜转动,以调节参考物镜的朝向。物镜转动调节件通过旋转弧面实现了对参考物镜的转动自由度的调节,与传统的利用多个支撑点的位置变化来带动调节板旋转的方案相比,结构更加简洁和紧凑。

    半导体处理设备
    7.
    实用新型

    公开(公告)号:CN214898337U

    公开(公告)日:2021-11-26

    申请号:CN202120308857.5

    申请日:2021-02-03

    Abstract: 本申请提供一种半导体处理设备。该半导体处理设备包括壳体、阻隔结构及进风装置。壳体设有第一腔及第二腔。阻隔结构设置在第一腔与第二腔之间,阻隔结构包括第一隔板及第二隔板,第一隔板及第二隔板间隔以形成气流通道,气流通道用于阻挡第二腔内的热量进入第一腔;阻隔结构还包括第一开口与第二开口,第一开口与第二开口均与气流通道连通;进风装置设于壳体的顶部,进风装置的出风方向指向第一开口,用于向气流通道吹风;第一开口用于供进风装置产生的气流进入气流通道,第二开口用于排出流经气流通道的气流。本申请的半导体处理设备利用第一隔板与第二隔板形成的气流通道能阻挡第二腔内的热量进入第一腔,实现第一腔的稳定控温,保证处理精度。

    光学检测系统
    8.
    实用新型

    公开(公告)号:CN221099631U

    公开(公告)日:2024-06-07

    申请号:CN202321948375.1

    申请日:2023-07-21

    Abstract: 本实用新型实施例提供的一种光学检测系统,包括:光源、调整模块、第一检测模块、第二检测模块和采集模块。所述光源用于产生或引入测量用光。所述调整模块用于调整光线。所述第一检测模块和所述第二检测模块用于对光线进行扩束整形。并且第二检测模块的扩束整形能力强于所述第一检测模块的扩束整形能力。所述采集模块可以采集光学数据。本实用新型实施例具有测量精度高、倍率调节区间大的特点。

    一种承载装置及量测设备

    公开(公告)号:CN220912329U

    公开(公告)日:2024-05-07

    申请号:CN202322636866.9

    申请日:2023-09-27

    Abstract: 本实用新型涉及承载装置及量测设备。一种承载装置,包括:第一框架,第一框架的顶部设有第一承载区域,第一承载区域用于支撑被承载物的边缘部位;第二框架,第二框架设置在第一框架围成的中空部分内,第二框架的顶部设有用于支撑被承载物的第二承载区域;以及连接体,连接体连接于第一框架与第二框架之间,用于使第一框架与第二框架保持相对固定;第一框架、第二框架和连接体的至少一个上设有避让通道,避让通道沿承载装置的承载支撑方向贯通,承载支撑方向为承载装置对被承载物形成支撑的方向。本实用新型主要解决晶圆进行中空测量时容易出现变形而影响量测结果的问题。

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