光学装置和光生成方法
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118613759A

    公开(公告)日:2024-09-06

    申请号:CN202380018688.3

    申请日:2023-01-16

    Abstract: 光学装置(1)具有光射出部(2)、相位调整部(3)以及光生成部(4)。光射出部(2)射出具有互不相同的偏振状态的第一光(L1)和第二光(L2)。光生成部(4)基于由相位调整部(3)调整了相位差的第一光(L1)和第二光(L2)生成第三光(L3)。使第一光(L1)和第二光(L2)入射到双折射元件(14)入射。控制部(15)控制双折射元件(14)的温度和向双折射元件(14)施加的电压中的至少一方。光生成部(4)包括基于第一光(L1)和第二光(L2)中的至少一方生成第三光(L3)的非线性光学元件(17)。使从双折射元件(14)射出的第一光(L1)和第二光(L2)入射到光生成部(4)的非线性光学元件(17)。

    激光放大装置
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN107112709B

    公开(公告)日:2019-06-18

    申请号:CN201680006190.5

    申请日:2016-01-13

    Abstract: 本发明所涉及的激光放大装置中的激光介质单元(10)具备多个激光介质(14)。在激光介质单元(10)的周围设置冷却介质流路(F1),从外侧冷却激光介质单元(10)。在激光介质(14)之间的密闭空间内填充气体或者液体,通过所涉及的密闭空间内的激光因为不会被在外侧进行流动的冷却介质干涉,所以被放大的激光的晃动等被抑制并且激光的稳定性和聚焦特性等的质量提高。

    空间光调制装置、加工装置和位置推定方法

    公开(公告)号:CN119032314A

    公开(公告)日:2024-11-26

    申请号:CN202380030782.0

    申请日:2023-02-06

    Abstract: 在空间光调制装置(10)中,检测部(7)检测在空间光调制部(3)调制后的光。推定部(35)基于检测部(7)的检测结果,推定光相对于空间光调制部(3)的入射位置(P2)。由图案设定部(31)设定的相位图案(P1)包含以由在该相位图案(P1)调制后的光在检测部(7)形成多个聚光点的方式构成的相位图案。检测部(7)检测上述聚光点的强度信息。推定部(35)基于在检测部(7)检测到的多个聚光点的强度信息的比较结果,推定光相对于空间光调制部(3)的入射位置(P2)。

    复合光学陶瓷元件的制造方法
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118284587A

    公开(公告)日:2024-07-02

    申请号:CN202280074390.X

    申请日:2022-10-18

    Abstract: 一种复合光学陶瓷元件的制造方法,所述复合光学陶瓷元件含有第1陶瓷部和与所述第1陶瓷部接合的第2陶瓷部,所述制造方法包括:第1工序,准备含有第1过渡元素且用于所述第1陶瓷部的第1粉末和所述第1过渡元素的浓度与所述第1粉末不同且用于所述第2陶瓷部的第2粉末;和第2工序,在所述第1工序之后,在第1区域配置所述第1粉末,并且在与所述第1区域相邻的第2区域配置所述第2粉末,在所述第1区域与所述第2区域的边界部分使所述第1粉末与所述第2粉末接触而形成接触状态。

    激光装置和激光装置的制造方法
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116057796A

    公开(公告)日:2023-05-02

    申请号:CN202180054293.X

    申请日:2021-08-19

    Abstract: 本发明的激光装置包括:沿第1方向延伸的杆状的激光介质;包含第1基座和安装在第1基座的多个激发光源的第1光源单元;在与第1方向交叉的第2方向上与第1光源单元并列设置,包含第2基座和安装在第2基座的多个激发光源的第2光源单元;和支撑激光介质、第1光源单元和第2光源单元的支撑件。第1基座和支撑件中的至少一个包含规定第1基座相对于支撑件的位置的第1规定部,第2基座和支撑件中的至少一个包含规定第2基座相对于支撑件的位置的第2规定部。

    激光放大装置
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN107112709A

    公开(公告)日:2017-08-29

    申请号:CN201680006190.5

    申请日:2016-01-13

    Abstract: 本发明所涉及的激光放大装置中的激光介质单元(10)具备多个激光介质(14)。在激光介质单元(10)的周围设置冷却介质流路(F1),从外侧冷却激光介质单元(10)。在激光介质(14)之间的密闭空间内填充气体或者液体,通过所涉及的密闭空间内的激光因为不会被在外侧进行流动的冷却介质干涉,所以被放大的激光的晃动等被抑制并且激光的稳定性和聚焦特性等的质量提高。

    激光装置及激光波形控制方法

    公开(公告)号:CN112740491B

    公开(公告)日:2025-05-09

    申请号:CN201980061175.4

    申请日:2019-07-02

    Abstract: 本发明提供一种激光装置(1A),其具备:半导体激光元件(5);波形运算部(3),其运算输入波形数据(Da);驱动电路(4),其将具有与输入波形数据(Da)相对应的时间波形的驱动电流(Id)提供给半导体激光元件(5);光放大器(7),其放大从半导体激光元件(5)输出的激光(La);以及光波形检测部(10),其检测从光放大器(7)输出的放大后的激光(Lb)的波形。波形运算部(3)将由光波形检测部(10)检测到的放大后的激光(Lb)的波形与目标波形进行比较,调整输入波形数据(Da)的时间波形,使放大后的激光(Lb)的波形接近目标波形。由此,可实现能够使装置尺寸小型化的激光装置和激光波形控制方法。

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