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公开(公告)号：CN116594265B
公开(公告)日：2025-03-21
申请号：CN202310650752.1
申请日：2023-06-02
Applicant: 浙江大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种光刻设备检测系统及其检测方法，包括模拟末端投影物镜、气体供给系统和采样检测系统，模拟末端投影物镜具有朝向浸没控制单元的镜侧面和朝向衬底的镜底面，镜侧面中设有呈环形分布且朝向浸没控制单元的多个侧开口；模拟末端投影物镜内设有注气流道和采样流道，注气流道一端与气体供给系统相连通，气体供给系统向注气流道供给难溶于浸液中的气体，注气流道另一端与侧开口相连通；采样流道一端与采样检测系统相连通，采样流道另一端贯穿镜底面。利用难溶性气体将浸没流场自由界面与环境气体相分隔，避免环境因素干扰，从而准确地检测浸液的洁净度，以评价浸没控制单元及其附属流路的洁净度质量。
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公开(公告)号：CN106787655A
公开(公告)日：2017-05-31
申请号：CN201611243160.4
申请日：2016-12-29
Applicant: 国网浙江省电力公司绍兴供电公司 , 国家电网公司 , 国网浙江省电力公司 , 浙江大学
IPC: H02M1/32
CPC classification number: H02M1/32
Abstract: 本发明公开一种限流式UPFC直流侧过压保护电路，其并联在限流式UPFC的直流电容两端，包括限流电阻、二极管、击穿二极管、滤波电阻、滤波电容、IGBT、IGBT驱动电路和放电电阻，过压保护电路由击穿二极管触发动作，IGBT作为放电支路的开关，击穿二极管与限流电阻串联，滤波电阻和滤波电容构成防止IGBT误触发的低通滤波支路，击穿二极管的阴极与控制器信号通过一个或门连接到IGBT驱动电路，放电电阻与IGBT相连。上述限流式UPFC直流侧过压保护电路，当短路故障发生后，所述过压保护电路在限流器的配合下能极大的减少直流电容承受的冲击电压幅值和上升速度，并且保护自动动作，没有时延。
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公开(公告)号：CN104965392B
公开(公告)日：2017-04-12
申请号：CN201510423584.8
申请日：2015-07-17
Applicant: 浙江大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种用于浸没式光刻机的垂直回收和气密封装置。在浸没单元基体上开有中心锥孔，底面开有垂直气液回收腔和注气腔，浸没单元基体开有水平注液口和、水平液体回收口、注气口和垂直气液回收口；浸没单元下端盖上开有中心通孔，浸没单元下端盖顶面开有垂直气液回收孔槽和气密封孔槽；垂直气液回收孔槽上开有垂直气液回收孔，气密封孔槽开有气密封孔，其个微孔均位于相邻道垂直回收孔中最紧邻的两个微孔中垂线上。本发明完成浸没式光刻系统中缝隙流场的密封功能，通过垂直回收的回收负压和气密封的气体流，约束浸没液体的流场边界，保证光刻机在高速运转过程中浸没液体不发生泄漏。
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公开(公告)号：CN105045046A
公开(公告)日：2015-11-11
申请号：CN201510479159.0
申请日：2015-08-03
Applicant: 浙江大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种用于浸没式光刻机的气密封及水平和垂直注液回收装置。在浸没式光刻机中的投影物镜组和硅片之间置有本发明装置；包括浸没单元下端盖、浸没单元基体、垂直注液孔板、焊接盖板和注气盖板，浸没单元下端盖、垂直注液孔板及注气盖板安装在浸没单元基体下表面，浸没单元基体上表面开有气和液的流道，流道通过焊接盖板密封覆盖。本发明能满足浸没式光刻系统中缝隙流场的密封、液体的注入回收、核心流场的流速均一以及缝隙流场稳定更新的要求；采用气密封结构和垂直注液回收结构实现缝隙流场的密封，采用特殊的水平注液及回收结构保证了核心流场的流速均一性要求并降低水平回收由于气液两相流产生的振动和噪声。
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公开(公告)号：CN103940873A
公开(公告)日：2014-07-23
申请号：CN201410186971.X
申请日：2014-05-05
Applicant: 浙江大学
IPC: G01N27/26 , G01N27/414 , B63B22/00
Abstract: 本发明公开了一种重金属监测的电化学与光电集成芯片及无线浮标传感系统，通过集成电化学传感器、光寻址电位传感器与对电极阵列于同一芯片上，实现了传感器的微型化与集成化，同时引入不同传感器的数据融合与校准，提高了集成芯片检测的准确度与抗干扰能力。无线浮标传感系统由搭载用浮标及固定在搭载用浮标内的重金属检测仪器组成，其中重金属检测仪器包括电化学与光电集成芯片、参比电极、泵阀水路模块、信号采集电路、光源调制电路、ARM控制板、测试腔和激励光源，以实现系统的自动取样、排样、自动检测与数据上传，实现了对湖水重金属的在线、实时监测，具有极大的应用前景。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102590149A
公开(公告)日：2012-07-18
申请号：CN201210051768.2
申请日：2012-03-01
Applicant: 浙江大学
Abstract: 本发明公开了一种虫草菌粉天冬氨酸含量快速检测方法，包括：取虫草菌粉，分别采集波长1483nm、1545nm、1639nm、1710nm、1783nm、1886nm、1922nm、1980nm、2011nm、2058nm、2089nm、2194nm和2201nm光波所对应的虫草菌粉的反射率；将各反射率转化为相应的吸光度；将各吸光度代入多元线性回归方程，计算得到虫草菌粉中天冬氨酸的含量。本发明通过少数特征波长进行多元线性回归分析，实现了虫草菌粉中天冬氨酸含量的快速、无损、准确检测，大大减少了操作步骤，缩短了检测时间，减少了环境污染，降低了检测成本。
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公开(公告)号：CN116594265A
公开(公告)日：2023-08-15
申请号：CN202310650752.1
申请日：2023-06-02
Applicant: 浙江大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种光刻设备检测系统及其检测方法，包括模拟末端投影物镜、气体供给系统和采样检测系统，模拟末端投影物镜具有朝向浸没控制单元的镜侧面和朝向衬底的镜底面，镜侧面中设有呈环形分布且朝向浸没控制单元的多个侧开口；模拟末端投影物镜内设有注气流道和采样流道，注气流道一端与气体供给系统相连通，气体供给系统向注气流道供给难溶于浸液中的气体，注气流道另一端与侧开口相连通；采样流道一端与采样检测系统相连通，采样流道另一端贯穿镜底面。利用难溶性气体将浸没流场自由界面与环境气体相分隔，避免环境因素干扰，从而准确地检测浸液的洁净度，以评价浸没控制单元及其附属流路的洁净度质量。
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公开(公告)号：CN104965392A
公开(公告)日：2015-10-07
申请号：CN201510423584.8
申请日：2015-07-17
Applicant: 浙江大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种用于浸没式光刻机的垂直回收和气密封装置。在浸没单元基体上开有中心锥孔，底面开有垂直气液回收腔和注气腔，浸没单元基体开有水平注液口和、水平液体回收口、注气口和垂直气液回收口；浸没单元下端盖上开有中心通孔，浸没单元下端盖顶面开有垂直气液回收孔槽和气密封孔槽；垂直气液回收孔槽上开有垂直气液回收孔，气密封孔槽开有气密封孔，其个微孔均位于相邻道垂直回收孔中最紧邻的两个微孔中垂线上。本发明完成浸没式光刻系统中缝隙流场的密封功能，通过垂直回收的回收负压和气密封的气体流，约束浸没液体的流场边界，保证光刻机在高速运转过程中浸没液体不发生泄漏。
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公开(公告)号：CN103969964A
公开(公告)日：2014-08-06
申请号：CN201410172815.8
申请日：2014-04-25
Applicant: 浙江大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种用于浸没式光刻机的气密封和微孔密封装置。在浸没式光刻机中的投影透镜组和硅片之间设置有气密封和微孔密封装置；气密封和微孔密封装置包括浸没单元基体、浸没单元上端盖、浸没单元下端盖和浸没单元气密封端盖；浸没单元基体上面与浸没单元上端盖接触，浸没单元基体下面依次与浸没单元下端盖和浸没单元气密封端盖接触紧固连接。本发明用来完成浸没式光刻系统中缝隙流场的密封和液体注入回收功能，采用气密封结构和微孔结构防止液体泄漏，在微孔上加上负压对液体进行回收并约束缝隙流场，通过气密封结构实现缝隙流场的密封，同时能够保证缝隙流场边缘的稳定性。通过大流量注液和回收实现缝隙流场内浸没液体的稳定更新。
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公开(公告)号：CN103268059A
公开(公告)日：2013-08-28
申请号：CN201310205734.9
申请日：2013-05-29
Applicant: 浙江大学
Abstract: 本发明公开了用于浸没式光刻机的多级负压回收密封和气密封装置。在浸没式光刻机中的投影物镜组和硅片之间装有由浸没单元上端盖和浸没单元下端盖组成的多级负压回收密封和气密封装置。本发明利用负压回收液体的同时，还能对液体实现密封。多级负压回收适应硅片较高的扫描速度，提高密封的效果；在浸没单元外侧采用气密封结构，在气体压力均布腔的作用下，密封气体能够很好的约束浸没液体，允许光刻系统具有更高的扫描和步进速度；负压回收密封和气密封结合使用能更好地约束浸没液体，防止浸没单元的内部液体在高速扫描时发生泄漏。
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