公开(公告)号：CN105045046B

公开(公告)日：2017-03-29

申请号：CN201510479159.0

申请日：2015-08-03

Applicant: 浙江大学

Inventor： 傅新 ,  简勇华 ,  陈文昱 ,  徐宁 ,  徐文苹

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明公开了一种用于浸没式光刻机的气密封及水平和垂直注液回收装置。在浸没式光刻机中的投影物镜组和硅片之间置有本发明装置；包括浸没单元下端盖、浸没单元基体、垂直注液孔板、焊接盖板和注气盖板，浸没单元下端盖、垂直注液孔板及注气盖板安装在浸没单元基体下表面，浸没单元基体上表面开有气和液的流道，流道通过焊接盖板密封覆盖。本发明能满足浸没式光刻系统中缝隙流场的密封、液体的注入回收、核心流场的流速均一以及缝隙流场稳定更新的要求；采用气密封结构和垂直注液回收结构实现缝隙流场的密封，采用特殊的水平注液及回收结构保证了核心流场的流速均一性要求并降低水平回收由于气液两相流产生的振动和噪声。

公开(公告)号：CN105045046A

公开(公告)日：2015-11-11

申请号：CN201510479159.0

申请日：2015-08-03

Applicant: 浙江大学

Inventor： 傅新 ,  简勇华 ,  陈文昱 ,  徐宁 ,  徐文苹

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明公开了一种用于浸没式光刻机的气密封及水平和垂直注液回收装置。在浸没式光刻机中的投影物镜组和硅片之间置有本发明装置；包括浸没单元下端盖、浸没单元基体、垂直注液孔板、焊接盖板和注气盖板，浸没单元下端盖、垂直注液孔板及注气盖板安装在浸没单元基体下表面，浸没单元基体上表面开有气和液的流道，流道通过焊接盖板密封覆盖。本发明能满足浸没式光刻系统中缝隙流场的密封、液体的注入回收、核心流场的流速均一以及缝隙流场稳定更新的要求；采用气密封结构和垂直注液回收结构实现缝隙流场的密封，采用特殊的水平注液及回收结构保证了核心流场的流速均一性要求并降低水平回收由于气液两相流产生的振动和噪声。