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公开(公告)号：CN116699947A
公开(公告)日：2023-09-05
申请号：CN202310652690.8
申请日：2023-06-02
Applicant: 浙江大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种光刻设备检测系统及其检测方法，上密封件从浸没控制单元上方完全遮蔽其中心通孔，下密封件从浸没控制单元下方完全遮蔽其中心通孔，共同合围形成中心流室；下密封件中设下采样流道，下采样流道两端分别与中心通孔和洁净度检测器相连。对组装好的浸没控制单元及其附属流路进行浸液流路的洁净度检测，在检测过程中，封闭浸没控制单元中心通孔的上下两端，避免其内部容纳的浸液与环境气体接触，从而准确地检测浸液的洁净度，以评价浸没控制单元及其附属流路的洁净度质量。
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公开(公告)号：CN116594265B
公开(公告)日：2025-03-21
申请号：CN202310650752.1
申请日：2023-06-02
Applicant: 浙江大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种光刻设备检测系统及其检测方法，包括模拟末端投影物镜、气体供给系统和采样检测系统，模拟末端投影物镜具有朝向浸没控制单元的镜侧面和朝向衬底的镜底面，镜侧面中设有呈环形分布且朝向浸没控制单元的多个侧开口；模拟末端投影物镜内设有注气流道和采样流道，注气流道一端与气体供给系统相连通，气体供给系统向注气流道供给难溶于浸液中的气体，注气流道另一端与侧开口相连通；采样流道一端与采样检测系统相连通，采样流道另一端贯穿镜底面。利用难溶性气体将浸没流场自由界面与环境气体相分隔，避免环境因素干扰，从而准确地检测浸液的洁净度，以评价浸没控制单元及其附属流路的洁净度质量。
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公开(公告)号：CN116594265A
公开(公告)日：2023-08-15
申请号：CN202310650752.1
申请日：2023-06-02
Applicant: 浙江大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种光刻设备检测系统及其检测方法，包括模拟末端投影物镜、气体供给系统和采样检测系统，模拟末端投影物镜具有朝向浸没控制单元的镜侧面和朝向衬底的镜底面，镜侧面中设有呈环形分布且朝向浸没控制单元的多个侧开口；模拟末端投影物镜内设有注气流道和采样流道，注气流道一端与气体供给系统相连通，气体供给系统向注气流道供给难溶于浸液中的气体，注气流道另一端与侧开口相连通；采样流道一端与采样检测系统相连通，采样流道另一端贯穿镜底面。利用难溶性气体将浸没流场自由界面与环境气体相分隔，避免环境因素干扰，从而准确地检测浸液的洁净度，以评价浸没控制单元及其附属流路的洁净度质量。
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公开(公告)号：CN116699947B
公开(公告)日：2025-03-11
申请号：CN202310652690.8
申请日：2023-06-02
Applicant: 浙江大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种光刻设备检测系统及其检测方法，上密封件从浸没控制单元上方完全遮蔽其中心通孔，下密封件从浸没控制单元下方完全遮蔽其中心通孔，共同合围形成中心流室；下密封件中设下采样流道，下采样流道两端分别与中心通孔和洁净度检测器相连。对组装好的浸没控制单元及其附属流路进行浸液流路的洁净度检测，在检测过程中，封闭浸没控制单元中心通孔的上下两端，避免其内部容纳的浸液与环境气体接触，从而准确地检测浸液的洁净度，以评价浸没控制单元及其附属流路的洁净度质量。
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