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公开(公告)号：CN118963061A
公开(公告)日：2024-11-15
申请号：CN202411203319.4
申请日：2024-08-30
Applicant: 武汉柔显科技股份有限公司 , 柔显(仙桃)光电半导体材料有限公司 , 湖北鼎龙控股股份有限公司
Abstract: 本发明提供种正型感光性树脂组合物固化膜及固化膜图案加工方法，包含碱溶性树脂，其中碱溶性树脂包含以下二胺化合物，其中该二胺化合物包含具有化学式(2)所示的结构；本发明中在感光树脂中引入含有丙烯酸侧基的二胺化合物，配合特定结构的热交联剂使用，可使得感光树脂组合物膜获得良好的耐热性，再配合以适量的酚是羟基二胺以及脂环族二酐化合物，在固化膜保持有良好耐热性的同时还可以获得适当的碱溶性，良好曝光敏感性以及较低的CTE。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN119200328A
公开(公告)日：2024-12-27
申请号：CN202411197091.2
申请日：2024-08-29
Applicant: 武汉柔显科技股份有限公司 , 湖北鼎龙控股股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种感光树脂组合物，包括：碱溶性树脂(A)、热交联剂(B)、光聚合引发剂(C)和有机溶剂(D)；所述碱溶性树脂(A)包括具有式(I)所示的结构和式(II)所示的结构；#imgabs0#式(I)和式(II)中，R1和R2各自独立地表示碳原子数2‑40的二价至六价的有机基团，R3表示氢原子、氰基、硝基、卤素、1～3个碳原子数的烷基和烷氧基，n表示1000～100000的整数，m表示100～10000的整数，p表示0～2的整数。本发明制备得到的感光树脂组合物成膜后的曝光剂量小、膜损失率低、热稳定性好，在显示器件领域具有较好的应用前景。
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公开(公告)号：CN116715851A
公开(公告)日：2023-09-08
申请号：CN202310773292.1
申请日：2023-06-28
Applicant: 武汉柔显科技股份有限公司 , 湖北鼎龙控股股份有限公司
Abstract: 为改善AMOLED显示品质，本发明通过聚酰亚胺材料来解决残像问题。本发明公开了一种聚酰亚胺前体，聚酰亚胺前体由二胺单体和二酐单体制备而成，本发明通过在二胺单体中引入0.1～6mol％的含氟二胺单体，在二酐单体中引入0～4mol％的含氟二酐单体，来降低聚酰亚胺前体固化后的介电常数；同时本发明公开了一种聚酰亚胺前体的制备方法，该方法通过控制反应体系的含水量进行高温水解反应，以达到控制胺基为端部和羧基为端部的比例，从而达到调节聚酰亚胺前体浆料粘度的效果。在含氟反应原料和高温水解反应结合的情况下，使聚酰亚胺前体浆料的粘度更为可控，聚酰亚胺薄膜的介电常数更低，膨胀系数更小，从而达到更好的改善残像的效果。
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公开(公告)号：CN117697619A
公开(公告)日：2024-03-15
申请号：CN202410038728.7
申请日：2024-01-11
Applicant: 湖北鼎汇微电子材料有限公司 , 湖北鼎龙汇盛新材料有限公司 , 湖北鼎龙控股股份有限公司
IPC: B24B37/20
Abstract: 本发明公开了一种抛光垫，包括抛光层，所述抛光层包括若干同心圆沟槽、若干第一径向沟槽和若干第二径向沟槽，所述第二径向沟槽设置于相邻两个所述第一径向沟槽之间，所述第一径向沟槽自所述抛光层中心径向延伸至所述抛光层边缘，所述第二径向沟槽自所述抛光层上的任意一点径向延伸至所述抛光层上的任意另外一点，若干第二径向沟槽的长度相等或不相等，所述抛光层的半径记为R，所述第二径向沟槽的内侧端位于0.15R～0.35R处，所述第二径向沟槽的外侧端位于0.68R～0.92R处。本发明结合长度相同的第一径向沟槽和长度不相同的第二径向沟槽，起到调节边缘研磨速率的作用，提高研磨均一性，解决了边缘效应的问题。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117754453A
公开(公告)日：2024-03-26
申请号：CN202311847910.9
申请日：2023-12-29
Applicant: 湖北鼎汇微电子材料有限公司 , 湖北鼎龙汇盛新材料有限公司 , 湖北鼎龙控股股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种化学机械抛光垫，包括抛光层，所述抛光层包括设置在所述抛光层中心的中心区域、设置在所述抛光层外周的外周区域、以及位于所述中心区域与所述外周区域之间的连接区域，所述连接区域包括同心设置的环形沟槽和环形间断沟槽，相邻两个环形沟槽之间设置一个或多个环形间断沟槽，相邻两个环形沟槽之间自所述环形间断沟槽的间断处连通，相邻两个所述环形沟槽形成的偶数圈区域和奇数圈区域内的所述环形间断沟槽的间断处交错设置。本发明提供一种新的沟槽设计，使抛光液具有不同的流场分布，以完成不同制程的研磨应用。本发明交错设置环形间断沟槽和环形沟槽，可使抛光液的保留时间和抛光层上抛光液的数量达到平衡，以实现更好的研磨效果。
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公开(公告)号：CN119556526A
公开(公告)日：2025-03-04
申请号：CN202411898423.X
申请日：2024-12-23
Applicant: 湖北鼎龙芯盛科技有限公司 , 鼎龙(潜江)新材料有限公司 , 湖北鼎龙控股股份有限公司
IPC: G03F7/004
Abstract: 本发明公开了一种光致抗蚀剂组合物，包括成膜树脂(A)和溶剂(B)；所述成膜树脂(A)包括第一聚合物和第二聚合物，所述第一聚合物具有如下式(I)所示的结构单元，所述第二聚合物具有如下式(II)所示的结构单元。本发明使用上述光致抗蚀剂组合物在基板上形成抗蚀剂膜，对所述抗蚀剂膜进行高能放射线曝光，显影并得到图案。本发明使用式(I)所示的结构单元的第一聚合物和式(II)所示的结构单元的第二聚合物，可以得到具有较好分辨率和线宽粗糙度的抗蚀剂膜。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN119330920A
公开(公告)日：2025-01-21
申请号：CN202310902434.X
申请日：2023-07-21
Applicant: 湖北鼎龙控股股份有限公司 , 湖北鼎龙芯盛科技有限公司
IPC: C07D307/88 , G03F7/004 , C07D311/76 , C07D411/04 , C07D411/12 , C07C381/12 , C07C303/32 , C07C309/12 , C07D333/76 , C07D335/12 , C07C17/35 , C07C25/18 , C07C41/18 , C07C43/225 , C07D327/08 , C07D339/08
Abstract: 本发明涉及光产酸剂、抗蚀剂组合物和图案形成方法。本发明提供在正型抗蚀剂材料和负型抗蚀剂材料中都为高灵敏度和低LWR的抗蚀剂组合物以及使用其的图案形成方法。抗蚀剂组合物包括成膜树脂和产酸剂，该产酸剂包含由下述式(1)表示的磺酸盐化合物。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN118226720A
公开(公告)日：2024-06-21
申请号：CN202410390874.6
申请日：2024-04-02
Applicant: 湖北鼎龙控股股份有限公司
IPC: G03G9/097
Abstract: 本发明公开了一种调色剂包含粘合剂树脂和着色剂的着色树脂颗粒以及外添加剂，所述外添加剂包含铈改性氧化铝颗粒，所述铈改性氧化铝颗粒为表面有孔隙结构的介孔材料，所述铈改性氧化铝颗粒比表面积介于120m2/g～150m2/g之间，孔径介于3nm～5nm之间，所述铈改性氧化铝中铈元素的含量与铝元素含量的摩尔比介于0.01～0.1之间，所述铈改性氧化铝颗粒的含量相对于所述着色树脂颗粒100质量份的1～3质量份；该调色剂具有稳定的带电性能，即使进行多张连续印刷也难以引起灰雾等导致的画质劣化，且具备优异的流动性。
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公开(公告)号：CN118210209A
公开(公告)日：2024-06-18
申请号：CN202410358022.9
申请日：2024-03-27
Applicant: 湖北鼎龙控股股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种调色剂，包括改性聚酯，所述改性聚酯由式(1)所示的交联剂与不饱和结晶性聚酯树脂反应而得；采用式(1)所示的交联剂，可以增加苯丙树脂和聚酯树脂分子基团的相容性，更加利于不饱和结晶性聚酯树脂在调色剂内部的均匀分布，在定影环节起到速融的良好效果，可以提高显影密度。式(1)结构所示交联剂改性的聚酯可以有效降低苯丙树脂的热力学参数，更加有利于低温定影的实现。所述式(1)所示的交联剂结构为：#imgabs0#
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