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公开(公告)号:CN104344921B
公开(公告)日:2017-04-12
申请号:CN201410381854.9
申请日:2014-08-05
Applicant: 横河电机株式会社
IPC: G01L9/00
CPC classification number: H01L41/083 , H01L41/331 , H03H3/0072 , H03H9/1057 , Y10T29/42
Abstract: 一种谐振换能器及其制作方法以及谐振换能器的多层结构,所述谐振换能器包括单晶硅衬底;被布置在单晶硅衬底上方的单晶硅谐振器;围绕谐振器并与谐振器具有一定间隙的由硅制成的壳体,该壳体与单晶硅衬底一起形成腔室;被配置为激发该谐振器的激发模块;被配置为检测传感器振动的振动检测模块;被布置在腔室上方的第一层,该第一层具有位于谐振器上方的通孔;被布置在第一层上方的第二层,该第二层覆盖了位于通孔上方并且与通孔连通的间隙;和覆盖了第一层和第二层的第三层,并且该第三层密封了间隙。
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公开(公告)号:CN108075032B
公开(公告)日:2022-12-20
申请号:CN201711120587.X
申请日:2017-11-14
Applicant: 横河电机株式会社
IPC: H01L41/09 , H01L41/047
Abstract: 一种振动换能器包括:硅衬底、形成在硅衬底上的第一氧化物膜、形成在第一氧化物膜上的活化层、形成在活化层上的第二氧化物膜、形成在第二氧化物膜上的多晶硅层、和衬底接触部。在活化层中形成振子、与振子电导通的振子电极、靠近振子的固定电极、和配置为环绕振子的真空室。多晶硅层形成壳体。衬底接触部被配置为将多晶硅层和硅衬底电导通,并形成为在活化层中的未形成活化层的振子、振子电极、和固定电极的区域内连续环绕真空室域内。
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公开(公告)号:CN104344921A
公开(公告)日:2015-02-11
申请号:CN201410381854.9
申请日:2014-08-05
Applicant: 横河电机株式会社
IPC: G01L9/00
CPC classification number: H01L41/083 , H01L41/331 , H03H3/0072 , H03H9/1057 , Y10T29/42
Abstract: 一种谐振换能器及其制作方法以及谐振换能器的多层结构,所述谐振换能器包括单晶硅衬底;被布置在单晶硅衬底上方的单晶硅谐振器;围绕谐振器并与谐振器具有一定间隙的由硅制成的壳体,该壳体与单晶硅衬底一起形成腔室;被配置为激发该谐振器的激发模块;被配置为检测传感器振动的振动检测模块;被布置在腔室上方的第一层,该第一层具有位于谐振器上方的通孔;被布置在第一层上方的第二层,该第二层覆盖了位于通孔上方并且与通孔连通的间隙;和覆盖了第一层和第二层的第三层,并且该第三层密封了间隙。
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公开(公告)号:CN108075032A
公开(公告)日:2018-05-25
申请号:CN201711120587.X
申请日:2017-11-14
Applicant: 横河电机株式会社
IPC: H01L41/09 , H01L41/047
CPC classification number: H03H9/02448 , B81B7/0041 , B81B2201/0271 , B81B2203/04 , B81C1/00182 , B81C1/00698 , H03H9/02259 , H03H9/02433 , H03H9/1057 , H03H9/2405 , H03H9/2463 , H03H2009/02472 , H01L41/09 , H01L41/047
Abstract: 一种振动换能器包括:硅衬底、形成在硅衬底上的第一氧化物膜、形成在第一氧化物膜上的活化层、形成在活化层上的第二氧化物膜、形成在第二氧化物膜上的多晶硅层、和衬底接触部。在活化层中形成振子、与振子电导通的振子电极、靠近振子的固定电极、和配置为环绕振子的真空室。多晶硅层形成壳体。衬底接触部被配置为将多晶硅层和硅衬底电导通,并形成为在活化层中的未形成活化层的振子、振子电极、和固定电极的区域内连续环绕真空室域内。
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