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公开(公告)号：CN110998450A
公开(公告)日：2020-04-10
申请号：CN201880051589.4
申请日：2018-08-06
IPC: G03F7/20 , G02F1/13 , G02F1/1337
Abstract: 一种用于体现预倾角而进行倾斜曝光的光取向用曝光装置，其能够使用廉价的散射光源即体积光源，并且以紧凑的方式获得均匀的照度分布。通过对被照射面向一个方向进行扫描曝光来进行光取向处理的光取向用曝光装置(1)，其具备：光源(2)，朝向被照射面(10S)射出散射光；光学滤波器(3)，在从光源(2)射出的光中选择性地射出紫外线；及照射角度限制部件(4)，在从光学滤波器(3)射出的光中选择性地射出相对于扫描方向倾斜照射的光，在照射角度限制部件(4)中，使平板状的光方向限制板(40)相对于被照射面(10S)以一定角度倾斜并沿扫描方向按设定间隔平行排列多个。
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公开(公告)号：CN107407888B
公开(公告)日：2019-03-29
申请号：CN201680010209.3
申请日：2016-02-17
IPC: G03F7/20 , G02F1/1337
Abstract: 本发明提供一种扫描曝光装置。为了改善扫描曝光装置的生产节拍时间并提高吞吐量，在进行光源的高照度化和扫描速度的高速化时，防止在基板的端部附近的曝光不均。扫描曝光装置(1)具备：载物台(2)，在与载物台表面(2A)之间设置间隙(2S)而支撑基板(W)；光源单元(3)，向沿基板(W)上的一方向延伸设置的光照射区域(3L)照射光；及扫描装置(4)，使载物台(2)与光源单元(3)的一方或双方沿与一方向交叉的扫描方向(S)相对移动，在扫描装置(4)中设置有从载物台(2)及光源单元(3)静止的位置直至被载物台(2)支撑的基板(W)进入到光照射区域(3L)的加速区间(F)，载物台(2)在其端部具备覆盖载物台表面(2A)与基板(W)之间的间隙(2S)的遮光体(20)。
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公开(公告)号：CN113366380A
公开(公告)日：2021-09-07
申请号：CN201980090616.3
申请日：2019-12-06
IPC: G02F1/1337
Abstract: 本发明的课题在于提供一种光取向曝光装置，进行稳定地形成预倾角的倾斜曝光法，该光取向曝光装置中，能够使用廉价的散射光源(体积光源)，并且即使为紧凑的形态也能够进行均匀的光照射。本发明的光取向用曝光装置(1)，对成为光取向膜的被照射面进行偏振扫描曝光，其具备：光源(2)，朝向被照射面射出散射光；光学滤波器(3)，在从光源(2)射出的光中选择性地射出光取向膜的感光波长；及光限制部件(4)，将通过了光学滤波器(3)的光限制成在扫描方向(X)的前后方向上非对称，光学滤波器(3)具有如下波长透射特性：通过沿扫描方向(X)的照射角度相对于被照射面的法线方向为设定角度(θs)以上的倾斜曝光，感光波长的光的透射率成为峰值。
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公开(公告)号：CN107407888A
公开(公告)日：2017-11-28
申请号：CN201680010209.3
申请日：2016-02-17
IPC: G03F7/20 , G02F1/1337
CPC classification number: H04N1/0282 , G03F1/88 , H04N1/40056 , H04N1/401
Abstract: 本发明提供一种扫描曝光装置。为了改善扫描曝光装置的生产节拍时间并提高吞吐量，在进行光源的高照度化和扫描速度的高速化时，防止在基板的端部附近的曝光不均。扫描曝光装置(1)具备：载物台(2)，在与载物台表面(2A)之间设置间隙(2S)而支撑基板(W)；光源单元(3)，向沿基板(W)上的一方向延伸设置的光照射区域(3L)照射光；及扫描装置(4)，使载物台(2)与光源单元(3)的一方或双方沿与一方向交叉的扫描方向(S)相对移动，在扫描装置(4)中设置有从载物台(2)及光源单元(3)静止的位置直至被载物台(2)支撑的基板(W)进入到光照射区域(3L)的加速区间(F)，载物台(2)在其端部具备覆盖载物台表面(2A)与基板(W)之间的间隙(2S)的遮光体(20)。
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公开(公告)号：CN204101765U
公开(公告)日：2015-01-14
申请号：CN201420447592.7
申请日：2014-08-08
Applicant: 株式会社V技术
IPC: G02B5/30 , G02B27/28 , G02F1/1337
Abstract: 本实用新型提供一种偏光元件单元以及使用偏光元件单元的偏光照射装置，偏光元件单元能够防止未偏振光等泄露，并减少未偏振光照射于光取向膜用抗蚀剂，并减少曝光光的照射不均，还提供一种使用该单元的偏光照射装置。本实用新型提供的偏光照射装置(10)对取向膜用抗蚀剂(W1)照射偏振光，进行光取向，其特征在于，包括：光源部(11)，其用于对抗蚀剂(W1)照射光；以及偏光元件单元(1)，其由平行四边形的单位偏光元件构成，用于使来自该光源的光偏振成规定的偏振光。光源部(11)的光源(12)为平行于偏光元件单元(1)的单位偏光元件(2)的排列方向配置的线状光源。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115461834A
公开(公告)日：2022-12-09
申请号：CN202180030902.8
申请日：2021-05-31
Applicant: 株式会社V技术
IPC: H01J37/18 , H01J37/16 , H01J37/244 , H01J37/317
Abstract: 加工装置具备：差动排气装置，其在头部中的与被处理基板对置的面形成有多个环状槽，该多个环状槽围绕所述头部的中心，在比所述多个环状槽中的最内侧的所述环状槽靠内侧的区域设置有开口部，该开口部形成能够对所述被处理面进行处理的处理用空间，在多个所述环状槽中的至少一个所述环状槽连结真空泵，在使所述对置面与所述被处理面对置的状态下，通过来自所述环状槽的吸气作用将所述处理用空间设为高真空度；以及聚焦离子束柱状体，其具备与所述开口部连结而能够与所述处理用空间连通的镜筒，在所述镜筒内内置有聚焦离子束光学系统而使聚焦离子束穿过所述开口部内而射出，在最内侧的所述环状槽连结原料气体供给部，从该环状槽朝向所述被处理面喷出原料气体而能够使原料气体沿着该被处理面向所述处理用空间移动。
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公开(公告)号：CN111164502A
公开(公告)日：2020-05-15
申请号：CN201880063181.9
申请日：2018-11-08
Applicant: 株式会社V技术
IPC: G02F1/1337
Abstract: 提供一种光照射装置等，不需将照射光线的光照射部倾斜，而可以使膜带生成光对准。本发明的一实施形态之中的光照射装置是包含对膜带照射偏光光线的光照射装置、及多个的运送装置，被设置在对膜带的偏光光线的照射位置的前后，用于运送膜带，其中可以改变多个的运送装置的各运送装置相对于偏光光线的照射方向的位置。
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公开(公告)号：CN104412152B
公开(公告)日：2018-04-13
申请号：CN201380034672.8
申请日：2013-03-29
Applicant: 株式会社V技术
IPC: G02F1/1337 , G02F1/13
CPC classification number: G02F1/133788 , G02F1/133753 , G02F2001/133757
Abstract: 本发明提供一种光取向曝光方法及光取向曝光装置。将取向曝光方式适用于多域法时，消除单位图像区域的分割区域的边界附近的取向混乱。一种光取向曝光方法，其将液晶显示元件的各单位图像区域(Pa)分割为多个分割区域(Da1、Da2)，并分别向不同方向对各分割区域(Da1、Da2)的取向材料膜进行光取向，所述光取向曝光方法具有：第1曝光工序，相对于整个单位图像区域(Pa)的被曝光面以倾斜的光照射角度(θ1)照射光；及第2曝光工序，相对于分割区域(Da1、Da2)中的一个区域即第2分割区域(Da2)，用以与第1曝光工序中的光照射角度(θ1)不同的角度倾斜的光照射角度(θ2)照射光。第2曝光工序经由与分割区域(Da1、Da2)中的一个区域即第2分割区域(Da2)对应的掩模图案照射光，通过聚光机构(13)对掩模图案的透射光进行聚光并照射于所曝光的第2分割区域(Da2)。
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公开(公告)号：CN104395832A
公开(公告)日：2015-03-04
申请号：CN201380034909.2
申请日：2013-03-29
Applicant: 株式会社V技术
IPC: G03F7/20 , G02F1/1337
CPC classification number: G02F1/133788 , G02F1/1303 , G02F1/133753 , G02F2001/133757 , G03F7/201 , G03F7/70275 , G03F7/70283 , G03F7/70308 , G03F7/70325 , G03F7/70358
Abstract: 本发明提供一种光取向曝光装置及光取向曝光方法。将取向曝光方式适用于多域法时，消除单位图像区域的分割区域中的边界附近的取向混乱。一种光取向曝光装置(100)，其将液晶显示元件的各单位图像区域分割为多个分割区域，并分别向不同方向对各分割区域的取向材料膜进行光取向，所述光取向曝光装置具备：第1掩模(M1)及第1曝光装置(11)，用于单独接近式曝光第1分割区域(Da1)；第2掩模(M2)及第2曝光装置(12)，用于单独接近式曝光与第1分割区域(Da1)相邻的第2分割区域(Da2)；及第3掩模(M3)及第3曝光装置(13)，用于曝光第1分割区域(Da1)与第2分割区域(Da2)的边界附近的第1分割区域(Da1)侧的区域，第3曝光装置(13)相对于被曝光面Bs具备与第1曝光装置(11)或第2曝光装置(12)相同的光照射角度，在第3掩模(M3)的掩模开口与被曝光面(Bs)之间具备聚光机构(20)，其使掩模透射光聚光于边界附近的第1分割区域(Da1)侧的区域。
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公开(公告)号：CN103314328A
公开(公告)日：2013-09-18
申请号：CN201180064668.7
申请日：2011-10-24
Applicant: 株式会社V技术
CPC classification number: G03F7/20 , G03B27/10 , G03F7/70791 , G03F9/00 , Y10S430/146
Abstract: 在膜基材（20）上的曝光图案形成用区域形成有曝光材料膜（21）的膜（2）中，在其宽度方向上的两侧缘部的至少一方涂敷有色的烧结材料、有色的光固化性材料或有色的墨水而形成侧部涂敷膜（22），通过定位标记形成部（14）照射激光而形成定位标记（2a），使用该定位标记（2a）检测膜曲折，调整掩模（12）的位置。由此，在对膜基材上的曝光图案形成区域形成有曝光材料膜的膜进行连续曝光时，定位标记的形成及形成的定位标记的检测容易，能高精度地校正膜的曲折，能稳定地进行曝光。
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