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公开(公告)号：CN115461833B
公开(公告)日：2025-03-28
申请号：CN202180029913.4
申请日：2021-05-31
Applicant: 株式会社V技术
IPC: H01J37/18 , H01J37/16 , H01J37/28 , H01J37/305 , H01J37/317 , G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 差动排气装置将处理用空间设为高真空度，其中，所述差动排气装置具备：位移驱动部，其能够使头部或被处理基板进行位移来调整被处理面与所述头部的对置面的平行度及距离；间隙测定部，其沿着所述头部的所述对置面的周缘分别配置在至少三个部位以上，能够检测所述对置面与所述被处理面之间的距离；以及间隙控制部，其基于所述间隙测定部检测出的所述对置面与所述被处理面之间的距离信息来控制所述位移驱动部，以使得所述对置面与所述被处理面隔开规定的距离而成为平行。
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公开(公告)号：CN112518528A
公开(公告)日：2021-03-19
申请号：CN202010853633.2
申请日：2020-08-21
Applicant: 株式会社 V 技术
Abstract: 本发明提供一种研磨装置，其课题在于能够减少误检测并能够精度良好地检测滑出。对晶片从研磨头的飞出(滑出)进行检测的滑出传感器是静电电容型的接近传感器，设置于研磨头的外侧且设置于与研磨头的外周面相邻的位置中的平台的旋转方向下游侧。
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公开(公告)号：CN115461834A
公开(公告)日：2022-12-09
申请号：CN202180030902.8
申请日：2021-05-31
Applicant: 株式会社V技术
IPC: H01J37/18 , H01J37/16 , H01J37/244 , H01J37/317
Abstract: 加工装置具备：差动排气装置，其在头部中的与被处理基板对置的面形成有多个环状槽，该多个环状槽围绕所述头部的中心，在比所述多个环状槽中的最内侧的所述环状槽靠内侧的区域设置有开口部，该开口部形成能够对所述被处理面进行处理的处理用空间，在多个所述环状槽中的至少一个所述环状槽连结真空泵，在使所述对置面与所述被处理面对置的状态下，通过来自所述环状槽的吸气作用将所述处理用空间设为高真空度；以及聚焦离子束柱状体，其具备与所述开口部连结而能够与所述处理用空间连通的镜筒，在所述镜筒内内置有聚焦离子束光学系统而使聚焦离子束穿过所述开口部内而射出，在最内侧的所述环状槽连结原料气体供给部，从该环状槽朝向所述被处理面喷出原料气体而能够使原料气体沿着该被处理面向所述处理用空间移动。
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公开(公告)号：CN104169802B
公开(公告)日：2016-02-03
申请号：CN201380014388.4
申请日：2013-03-13
Applicant: 株式会社V技术
CPC classification number: G03F9/7088 , G03F1/42 , G03F9/7019
Abstract: 本发明提供一种校正用掩模及校正方法，能够容易地测定调整曝光装置的曝光位置的图像传感器的分辨率。本发明的校正用掩模及校正方法中，使光透过具有掩模部、玻璃面部和遮蔽线组的校正用掩模，接受除所述遮蔽线组外的透过的光，并从接受的光的上方转换图像信息，然后根据所述图像信息测定分辨率信息，其中，所述掩模部具有用于取得图像的图像取得窗，所述玻璃面部位于所述掩模部的下方侧，并由利用粘合层粘合在所述图像取得窗附近的玻璃材料构成，所述遮蔽线组为分别设置在所述图像取得窗及所述玻璃面部上的由遮蔽材料构成的遮蔽线。
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公开(公告)号：CN115461834B
公开(公告)日：2025-01-10
申请号：CN202180030902.8
申请日：2021-05-31
Applicant: 株式会社V技术
IPC: H01J37/18 , H01J37/16 , H01J37/244 , H01J37/317
Abstract: 加工装置具备：差动排气装置，其在头部中的与被处理基板对置的面形成有多个环状槽，该多个环状槽围绕所述头部的中心，在比所述多个环状槽中的最内侧的所述环状槽靠内侧的区域设置有开口部，该开口部形成能够对所述被处理面进行处理的处理用空间，在多个所述环状槽中的至少一个所述环状槽连结真空泵，在使所述对置面与所述被处理面对置的状态下，通过来自所述环状槽的吸气作用将所述处理用空间设为高真空度；以及聚焦离子束柱状体，其具备与所述开口部连结而能够与所述处理用空间连通的镜筒，在所述镜筒内内置有聚焦离子束光学系统而使聚焦离子束穿过所述开口部内而射出，在最内侧的所述环状槽连结原料气体供给部，从该环状槽朝向所述被处理面喷出原料气体而能够使原料气体沿着该被处理面向所述处理用空间移动。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN116235274A
公开(公告)日：2023-06-06
申请号：CN202180066953.6
申请日：2021-09-01
Applicant: 株式会社V技术
IPC: H01J37/317
Abstract: 提供一种提高能量束通过的处理空间的真空度而使得检查精度或处理精度高的聚焦能量束装置。所述聚焦能量束装置具备头部和聚焦能量束柱状体，在头部的对置面上形成有中央排气口和围绕所述中央排气口的外侧的至少一个以上的外侧排气槽，所述聚焦能量束柱状体及所述外侧排气槽与不同的真空泵连结来进行差动排气，其中，在所述头部中的所述中央排气口的周边，贯通地形成有副排气口。
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公开(公告)号：CN116034448A
公开(公告)日：2023-04-28
申请号：CN202180054193.7
申请日：2021-07-27
Applicant: 株式会社V技术
IPC: H01J37/18
Abstract: 提供一种聚焦能量束装置，其具备：支承部，其支承被处理基板；以及聚焦能量束柱状体，其具备差动排气装置且能够以与所述被处理基板的被处理面的任意区域对应的方式进行相对移动，其中，所述支承部在将所述被处理基板水平地配置的状态下仅支承所述被处理基板的周缘部，在由所述支承部支承的所述被处理基板的下方配置有正压腔室，所述正压腔室遍及所述被处理基板的被处理区域整体地施加正压，阻止所述被处理基板因自重产生的挠曲，在所述正压腔室内具备局部负压机构，所述局部负压机构维持与所述被处理基板的下表面不接触的状态来施加负压，来抵消所述差动排气装置的吸引力，所述局部负压机构维持隔着该被处理基板而与所述差动排气装置对置的状态，并且能够追随着所述差动排气装置而相对于被处理基板进行相对移动。
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公开(公告)号：CN115461833A
公开(公告)日：2022-12-09
申请号：CN202180029913.4
申请日：2021-05-31
Applicant: 株式会社V技术
IPC: H01J37/18 , H01J37/16 , H01J37/28 , H01J37/305 , H01J37/317 , G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 差动排气装置将处理用空间设为高真空度，其中，所述差动排气装置具备：位移驱动部，其能够使头部或被处理基板进行位移来调整被处理面与所述头部的对置面的平行度及距离；间隙测定部，其沿着所述头部的所述对置面的周缘分别配置在至少三个部位以上，能够检测所述对置面与所述被处理面之间的距离；以及间隙控制部，其基于所述间隙测定部检测出的所述对置面与所述被处理面之间的距离信息来控制所述位移驱动部，以使得所述对置面与所述被处理面隔开规定的距离而成为平行。
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公开(公告)号：CN104169802A
公开(公告)日：2014-11-26
申请号：CN201380014388.4
申请日：2013-03-13
Applicant: 株式会社V技术
CPC classification number: G03F9/7088 , G03F1/42 , G03F9/7019
Abstract: 本发明提供一种校正用掩模及校正方法，能够容易地测定调整曝光装置的曝光位置的图像传感器的分辨率。本发明的校正用掩模及校正方法中，使光透过具有掩模部、玻璃面部和遮蔽线组的校正用掩模，接受除所述遮蔽线组外的透过的光，并从接受的光的上方转换图像信息，然后根据所述图像信息测定分辨率信息，其中，所述掩模部具有用于取得图像的图像取得窗，所述玻璃面部位于所述掩模部的下方侧，并由利用粘合层粘合在所述图像取得窗附近的玻璃材料构成，所述遮蔽线组为分别设置在所述图像取得窗及所述玻璃面部上的由遮蔽材料构成的遮蔽线。
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公开(公告)号：CN204957798U
公开(公告)日：2016-01-13
申请号：CN201520550174.5
申请日：2015-07-27
Applicant: 株式会社V技术
Inventor： 松本隆德
IPC: B65G49/06 , B65G51/03 , H01L21/677
Abstract: 本实用新型提供一种搬运装置，即便支承构件的高度存在偏差，也能够稳定地搬运较薄的板状体。在使板状体从大致矩形形状的板状的支承构件的上表面浮起并沿着搬运方向搬运板状体时，在第一区域或者第二区域中向所述支承构件的方向抽吸板状体的力，与在第三区域中向支承构件的方向抽吸板状体的力不同，其中，该第一区域是支承构件的与搬运方向大致正交的边即第一边的附近的区域，该第二区域是与该第一边大致平行的第二边的附近的区域，该第三区域是支承构件的第一区域以及第二区域以外的区域。
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