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发明公开
光掩模、光掩模的制造方法、显示装置的制造方法审中-实审

公开(公告)号：CN114114827A

公开(公告)日：2022-03-01

申请号：CN202111051234.5

申请日：2021-09-08

申请人： 株式会社SK电子

发明人： 田中千惠 , 齐藤隆史 , 山田步实 , 森山久美子 , 福泉照夫

IPC分类号： G03F1/80 , G03F1/32 , G03F7/20

摘要： 本发明的目的在于使感光性抗蚀剂从中央向外侧缓缓地倾斜。光掩模(1A)在透明基板上具有多个图案形成区域A和透光部(7)，所述多个图案形成区域(A)通过所述半透过膜的图案与遮光膜的图案以部分重叠的方式层叠而形成且具有规定的形状，所述透光部(7)未形成有图案形成区域(A)。在将包含图案形成区域(A)的中央部的规定面积的区域设为第1区域(D1)、将图案形成区域(A)的外缘部中的规定面积的区域设为第2区域(D2)时，相比第1区域(D1)内的透过率，第2区域(D2)内的透过率高。