公开(公告)号：CN113678275A

公开(公告)日：2021-11-19

申请号：CN202080024618.5

申请日：2020-05-15

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 金智慧 ,  洪性佶 ,  洪玩杓 ,  李成宰 ,  琴水井

IPC: H01L51/50 ,  H01L51/54

Abstract: 本说明书提供了包括有机材料层的有机发光器件。

公开(公告)号：CN110785705A

公开(公告)日：2020-02-11

申请号：CN201880040313.6

申请日：2018-11-05

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 朴银石 ,  林敏映 ,  金智慧

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/033 ,  G03F7/028 ,  G03F7/11

Abstract: 本发明涉及光致抗蚀剂组合物和使用其的光致抗蚀剂膜，所述光致抗蚀剂组合物能够在形成精细图案期间实现优异的图案性能，并且能够制备具有优异的镀覆液化学稳定性的光致抗蚀剂膜。

公开(公告)号：CN119866476A

公开(公告)日：2025-04-22

申请号：CN202480003974.7

申请日：2024-05-03

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 金智慧 ,  成知兗 ,  朴贤旻 ,  田圣浩 ,  林敏映

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/075 ,  C08G73/10

Abstract: 本公开内容涉及光敏树脂组合物，并且提供了可溶于环境友好的水性溶剂、可用水性显影溶液显影并且能够提供具有优异的耐化学性、低介电常数特性、低介电损耗特性和机械特性的绝缘膜的光敏树脂组合物。

公开(公告)号：CN110325915B

公开(公告)日：2022-11-11

申请号：CN201880012894.2

申请日：2018-09-14

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 林敏映 ,  金智慧 ,  金容美

IPC: G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  C07D221/14

Abstract: 本发明涉及化学增幅型光致抗蚀剂组合物、由所述化学增幅型光致抗蚀剂组合物产生的光致抗蚀剂图案、以及用于制备化学增幅型光致抗蚀剂图案的方法，所述化学增幅型光致抗蚀剂组合物包含碱溶性树脂和具有预定结构的聚合物光致产酸剂。

公开(公告)号：CN110178086B

公开(公告)日：2022-09-16

申请号：CN201880006629.3

申请日：2018-10-25

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 林敏映 ,  金容美 ,  金智慧

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  G03F7/033

Abstract: 本公开内容涉及化学增幅型光致抗蚀剂组合物和使用其的光致抗蚀剂膜，所述化学增幅型光致抗蚀剂组合物能够使由所述组合物获得的光致抗蚀剂的开裂最小化并提高对基底的粘合性和感光度。

公开(公告)号：CN109791355A

公开(公告)日：2019-05-21

申请号：CN201880003820.2

申请日：2018-04-03

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 林敏映 ,  李泰燮 ,  金智慧

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  C07D221/14

Abstract: 本公开涉及光致产酸剂和包含其的用于厚膜的化学增幅型正性光致抗蚀剂组合物。所述光致产酸剂不仅可以表现出在光致抗蚀剂组合物的溶剂中的高溶解度，而且还可以表现出化学稳定性和热稳定性以及高感光度。具体地，所述光致产酸剂通过光分解而产生酸，同时可以表现出对金属基底的防腐蚀效果。

公开(公告)号：CN118742076A

公开(公告)日：2024-10-01

申请号：CN202410792847.1

申请日：2020-05-15

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 金智慧 ,  洪性佶 ,  洪玩杓 ,  李成宰 ,  琴水井

IPC: H10K50/12 ,  H10K85/60 ,  H10K71/70 ,  H10K101/30

Abstract: 本说明书提供了包括有机材料层的有机发光器件。

公开(公告)号：CN111699206B

公开(公告)日：2022-05-10

申请号：CN201980012719.8

申请日：2019-10-31

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 金智慧 ,  全成浩 ,  林敏映

IPC: C08F232/02 ,  C08F8/34 ,  G03F7/039

Abstract: 本公开内容涉及包含光致产酸剂的聚合物。

公开(公告)号：CN109429511B

公开(公告)日：2022-01-28

申请号：CN201880001512.6

申请日：2018-03-16

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 林敏映 ,  李泰燮 ,  金智慧

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明涉及正性光致抗蚀剂组合物、使用其的光致抗蚀剂图案和用于制造图案的方法，所述正性光致抗蚀剂组合物包含含有特定结构的重复单元的丙烯酸类树脂、和光敏酸产生化合物。

公开(公告)号：CN113677987A

公开(公告)日：2021-11-19

申请号：CN202080023555.1

申请日：2020-05-15

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 金智慧 ,  洪性佶 ,  金渊焕 ,  权大庆 ,  安希晟

IPC: G01N27/48 ,  B07C5/344

Abstract: 本说明书提供了用于选择有机发光器件用材料的方法，所述方法包括使用循环伏安法(CV)比较可逆性。