公开(公告)号：CN104968472A

公开(公告)日：2015-10-07

申请号：CN201480000553.5

申请日：2014-01-29

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 小菅隆一 ,  曾根忠一 ,  矶部壮一 ,  樱井武史 ,  平井英治 ,  滨浦薰 ,  小仓大

IPC: B24B37/20 ,  B24B37/12 ,  H01L21/304

CPC classification number: B24B37/34 ,  B24B37/04 ,  B24B45/006 ,  Y10T29/4973 ,  Y10T29/49826

Abstract: 一种研磨装置(100)，具有研磨台(110)，该研磨台具有贴附用于研磨基板(102)的研磨垫(108)的贴附面(110a)。另外，研磨装置(100)具有设在研磨台(110)的贴附面(110a)上、且夹在研磨台(110)与研磨垫(108)之间的硅酮层(111)。通过夹有该硅酮层，可容易地对研磨垫(108)进行剥离、贴附。另外，由于将硅酮层(111)涂布在研磨台(110)上的热处理能用较低的温度进行，故可抑制热处理引起的研磨台(110)的热损伤，且容易进行研磨垫的更换操作。

公开(公告)号：CN104299930A

公开(公告)日：2015-01-21

申请号：CN201410345524.4

申请日：2014-07-18

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 樱井武史 ,  平井英治 ,  滨浦薰 ,  宫崎充 ,  丸山浩二

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/67046 ,  B08B1/007 ,  H01L21/67051

Abstract: 基板清洗机(1)具有：对基板进行保持的基板保持装置(10)；第1清洗装置(11)，其具有第1清洗部件(11a)，使该第1清洗部件与由基板保持装置(10)保持的基板(W)的第1面(WA)接触而对该面进行清洗；第2清洗装置(12)，其具有第2清洗部件(12a)，使该第2清洗部件与基板(W)的第1面(WA)接触而对该面进行清洗；以及控制装置(50)，其将第1、2清洗装置(11、12)控制成，当第1清洗部件(11a)及第2清洗部件(12a)中的一方对由基板保持装置(10)保持的基板(W)的第1面(WA)进行清洗时，使另一方处于离开基板(W)的位置。采用本发明，能用清洁的清洗部件进行清洗并能提高处理量。

公开(公告)号：CN108493134B

公开(公告)日：2022-03-29

申请号：CN201810258200.5

申请日：2014-07-18

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 樱井武史 ,  平井英治 ,  滨浦薰 ,  宫崎充 ,  丸山浩二

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明要求保护基板清洗装置。基板清洗机(1)具有：对基板进行保持的基板保持装置(10)；第1清洗装置(11)，其具有第1清洗部件(11a)，使该第1清洗部件与由基板保持装置(10)保持的基板(W)的第1面(WA)接触而对该面进行清洗；第2清洗装置(12)，其具有第2清洗部件(12a)，使该第2清洗部件与基板(W)的第1面(WA)接触而对该面进行清洗；以及控制装置(50)，其将第1、2清洗装置(11、12)控制成，当第1清洗部件(11a)及第2清洗部件(12a)中的一方对由基板保持装置(10)保持的基板(W)的第1面(WA)进行清洗时，使另一方处于离开基板(W)的位置。采用本发明，能用清洁的清洗部件进行清洗并能提高处理量。

公开(公告)号：CN104299930B

公开(公告)日：2018-09-25

申请号：CN201410345524.4

申请日：2014-07-18

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 樱井武史 ,  平井英治 ,  滨浦薰 ,  宫崎充 ,  丸山浩二

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02

Abstract: 基板清洗机(1)具有：对基板进行保持的基板保持装置(10)；第1清洗装置(11)，其具有第1清洗部件(11a)，使该第1清洗部件与由基板保持装置(10)保持的基板(W)的第1面(WA)接触而对该面进行清洗；第2清洗装置(12)，其具有第2清洗部件(12a)，使该第2清洗部件与基板(W)的第1面(WA)接触而对该面进行清洗；以及控制装置(50)，其将第1、2清洗装置(11、12)控制成，当第1清洗部件(11a)及第2清洗部件(12a)中的一方对由基板保持装置(10)保持的基板(W)的第1面(WA)进行清洗时，使另一方处于离开基板(W)的位置。采用本发明，能用清洁的清洗部件进行清洗并能提高处理量。

公开(公告)号：CN108493134A

公开(公告)日：2018-09-04

申请号：CN201810258200.5

申请日：2014-07-18

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 樱井武史 ,  平井英治 ,  滨浦薰 ,  宫崎充 ,  丸山浩二

IPC: H01L21/67

CPC classification number: H01L21/67046 ,  B08B1/007 ,  H01L21/67051

Abstract: 本发明要求保护基板清洗装置。基板清洗机(1)具有：对基板进行保持的基板保持装置(10)；第1清洗装置(11)，其具有第1清洗部件(11a)，使该第1清洗部件与由基板保持装置(10)保持的基板(W)的第1面(WA)接触而对该面进行清洗；第2清洗装置(12)，其具有第2清洗部件(12a)，使该第2清洗部件与基板(W)的第1面(WA)接触而对该面进行清洗；以及控制装置(50)，其将第1、2清洗装置(11、12)控制成，当第1清洗部件(11a)及第2清洗部件(12a)中的一方对由基板保持装置(10)保持的基板(W)的第1面(WA)进行清洗时，使另一方处于离开基板(W)的位置。采用本发明，能用清洁的清洗部件进行清洗并能提高处理量。