公开(公告)号：CN103962938B

公开(公告)日：2016-09-28

申请号：CN201410043742.2

申请日：2014-01-29

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 梅本正雄 ,  曾根忠一 ,  小菅隆一 ,  相泽英夫

IPC: B24B37/04 ,  B24B53/017

CPC classification number: B24B37/34 ,  B24B37/105 ,  B24B53/017

Abstract: 一种研磨装置，具有：研磨台(5)，其对具有研磨面(3a)的研磨件(3)进行支承；研磨头(4)，其具有用于将基板(W)按压到研磨面(3a)的顶环(15)；研磨头罩壳(50)，其覆盖研磨头(4)；第1清洗液供给机构(54)，其将清洗液供给到研磨头罩壳(50)的外周面(50a)；以及第2清洗液供给机构(61)，其将清洗液供给到研磨头罩壳(50)的内周面(50b)。采用本发明，可防止研磨液附着在研磨头上，进而可防止干燥了的研磨液落到研磨面上。

公开(公告)号：CN103962938A

公开(公告)日：2014-08-06

申请号：CN201410043742.2

申请日：2014-01-29

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 梅本正雄 ,  曾根忠一 ,  小菅隆一 ,  相泽英夫

IPC: B24B37/04 ,  B24B53/017 ,  H01L21/304

CPC classification number: B24B37/34 ,  B24B37/105 ,  B24B53/017

Abstract: 一种研磨装置，具有：研磨台(5)，其对具有研磨面(3a)的研磨件(3)进行支承；研磨头(4)，其具有用于将基板(W)按压到研磨面(3a)的顶环(15)；研磨头罩壳(50)，其覆盖研磨头(4)；第1清洗液供给机构(54)，其将清洗液供给到研磨头罩壳(50)的外周面(50a)；以及第2清洗液供给机构(61)，其将清洗液供给到研磨头罩壳(50)的内周面(50b)。采用本发明，可防止研磨液附着在研磨头上，进而可防止干燥了的研磨液落到研磨面上。

公开(公告)号：CN101262982A

公开(公告)日：2008-09-10

申请号：CN200680033457.6

申请日：2006-09-12

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 小林卓二 ,  相泽英夫 ,  梅本正雄 ,  曾根忠一 ,  鸟居弘臣 ,  高桥信行 ,  都筑隆

IPC: B24B37/04 ,  H01L21/304

CPC classification number: B24B37/16

Abstract: 本发明提供一种抛光台板，其无需很大的力来从抛光台板的上表面移除抛光垫并且因此能相对地易于从其上移除抛光垫。本发明还提供一种具有这种抛光台板的抛光装置。根据本发明的抛光台板(12)包括抛光垫附着在其上面的表面。抛光台板(12)的所述表面包括第一表面(20)以及表面粗糙度与第一表面(20)不同的第二表面(21)的组合。

公开(公告)号：CN110497307A

公开(公告)日：2019-11-26

申请号：CN201910404342.2

申请日：2019-05-15

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 梅本正雄 ,  小菅隆一 ,  镰田修一 ,  吉田健人

IPC: B24B37/20 ,  B24B37/34 ,  B24B53/017 ,  B24B49/10

Abstract: 本发明提供一种不受时间经过的影响，而能够使用研磨头准确地对研磨垫的研磨面进行检测的方法以及研磨装置。该方法一边从研磨头(1)向研磨垫(3)施加推力，一边使研磨头(1)向与研磨垫(3)的研磨面(3a)垂直的方向移动，在研磨头(1)的移动过程中，利用应变传感器(55)对头臂(12)的挠曲进行检测，该头臂支承研磨头(1)，确定与来自应变传感器(55)的输出信号达到预先设定的阈值的时间点对应的研磨头(1)的位置。

公开(公告)号：CN103786090B

公开(公告)日：2017-05-31

申请号：CN201310533355.2

申请日：2013-10-31

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 梅本正雄 ,  曾根忠一 ,  相泽英夫 ,  小菅隆一 ,  江里口正晃

IPC: B24B37/04 ,  B24B37/27 ,  B24B37/34

CPC classification number: B24B53/017 ,  B24B37/04

Abstract: 一种研磨装置具有：用于支撑具有研磨面(10a)的研磨块(10)的研磨台(12)；具有顶环(14)的顶环头(16)；包围顶环头(16)的顶环头罩壳(24)；具有砂轮修整工具(20)的砂轮修整工具头(22)；包围所述砂轮修整工具头的砂轮修整工具头罩壳(30a、30b、30c)；当顶环处于基板交接位置时将清洗液喷雾到顶环的上表面及顶环头罩壳的外表面的喷雾喷嘴(58、60、62)；以及当砂轮修整工具处于退让位置时将清洗液喷雾到砂轮修整工具头罩壳(30a、30b、30c)的外表面的喷雾喷嘴(62、64、66)。本发明可防止在研磨基板时向研磨台周围飞散的研磨液附着在研磨台周围的各种构成部件表面上并干燥。

公开(公告)号：CN103786090A

公开(公告)日：2014-05-14

申请号：CN201310533355.2

申请日：2013-10-31

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 梅本正雄 ,  曾根忠一 ,  相泽英夫 ,  小菅隆一 ,  江里口正晃

IPC: B24B37/04 ,  B24B37/27 ,  B24B37/34

CPC classification number: B24B53/017 ,  B24B37/04 ,  B24B37/102 ,  B24B37/32 ,  B24B37/34

Abstract: 一种研磨装置具有：用于支撑具有研磨面(10a)的研磨块(10)的研磨台(12)；具有顶环(14)的顶环头(16)；包围顶环头(16)的顶环头罩壳(24)；具有砂轮修整工具(20)的砂轮修整工具头(22)；包围所述砂轮修整工具头的砂轮修整工具头罩壳(30a、30b、30c)；当顶环处于基板交接位置时将清洗液喷雾到顶环的上表面及顶环头罩壳的外表面的喷雾喷嘴(58、60、62)；以及当砂轮修整工具处于退让位置时将清洗液喷雾到砂轮修整工具头罩壳(30a、30b、30c)的外表面的喷雾喷嘴(62、64、66)。本发明可防止在研磨基板时向研磨台周围飞散的研磨液附着在研磨台周围的各种构成部件表面上并干燥。