公开(公告)号：CN105593503B

公开(公告)日：2019-04-26

申请号：CN201480053721.7

申请日：2014-09-01

Applicant: 株式会社理研

Inventor： 本多启二 ,  辻胜启 ,  诸贯正树 ,  关矢琢磨

IPC: F02F5/00 ,  C23C14/06 ,  F16J9/26

Abstract: 本发明提供相对于作为对象材料的铝合金制的汽缸或汽缸套的耐磨性优异、并且也能够降低对象材料的磨损的活塞环。其是在外周面(10a)上形成有硬质碳皮膜(14)的活塞环(10)，其中，硬质碳皮膜含有0.5原子％以上且低于5原子％的W。

公开(公告)号：CN115003936B

公开(公告)日：2025-01-17

申请号：CN202180009792.7

申请日：2021-01-21

Applicant: 株式会社理研

Inventor： 齐藤弘树 ,  本多启二 ,  岛祐司

IPC: F16J9/26 ,  F02F5/00

Abstract: 本发明的活塞环的制造方法包括(A)对活塞环的基材的表面进行清洗的工序、以及(B)在腔室内以覆盖基材的表面的至少一部分的方式通过物理气相沉积法形成含有Si和N的被膜的工序，在(B)工序中，为了形成满足以下条件的被膜，将腔室内的压力设定在2～6Pa的范围内，并且将偏置电压设定在‑5～‑18V的范围内。＜被膜的条件＞·Si量为1.1～7.5原子％的范围。·微晶尺寸为10～30nm的范围。·压缩残余应力为400～800MPa。

公开(公告)号：CN115003936A

公开(公告)日：2022-09-02

申请号：CN202180009792.7

申请日：2021-01-21

Applicant: 株式会社理研

Inventor： 齐藤弘树 ,  本多启二 ,  岛祐司

IPC: F16J9/26 ,  F02F5/00

Abstract: 本发明的活塞环的制造方法包括(A)对活塞环的基材的表面进行清洗的工序、以及(B)在腔室内以覆盖基材的表面的至少一部分的方式通过物理气相沉积法形成含有Si和N的被膜的工序，在(B)工序中，为了形成满足以下条件的被膜，将腔室内的压力设定在2～6Pa的范围内，并且将偏置电压设定在‑5～‑18V的范围内。＜被膜的条件＞·Si量为1.1～7.5原子％的范围。·微晶尺寸为10～30nm的范围。·压缩残余应力为400～800MPa。

公开(公告)号：CN119907884A

公开(公告)日：2025-04-29

申请号：CN202380036034.3

申请日：2023-08-29

Applicant: 株式会社理研

Inventor： 高桥纯也 ,  本多启二

IPC: F02F5/00

Abstract: 活塞环具备：活塞环基材，具有开口部；及皮膜，覆盖所述活塞环基材的至少外周面，所述皮膜的热阻值为2.0×10‑6～12.0×10‑6m2・K/W。

公开(公告)号：CN105593503A

公开(公告)日：2016-05-18

申请号：CN201480053721.7

申请日：2014-09-01

Applicant: 株式会社理研

Inventor： 本多启二 ,  辻胜启 ,  诸贯正树 ,  关矢琢磨

IPC: F02F5/00 ,  C23C14/06 ,  F16J9/26

CPC classification number: F16J9/26 ,  C23C14/024 ,  C23C14/0605 ,  C23C14/0635 ,  F02F5/00 ,  F16J10/04

Abstract: 本发明提供相对于作为对象材料的铝合金制的汽缸或汽缸套的耐磨性优异、并且也能够降低对象材料的磨损的活塞环。其是在外周面(10a)上形成有硬质碳皮膜(14)的活塞环(10)，其中，硬质碳皮膜含有0.5原子％以上且低于5原子％的W。