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公开(公告)号:CN117730482A
公开(公告)日:2024-03-19
申请号:CN202280050680.0
申请日:2022-03-30
Applicant: 株式会社村田制作所
IPC: H03H9/24
Abstract: 本发明缓和由于冲击在谐振子产生的应力。谐振装置具备:谐振子(10),包括基部(130)、多个振动臂(121A~121D)以及保持部(140),上述多个振动臂分别具有与基部连接的固定端侧的臂部(123A~123D)和形成于开放端侧的锤部(122A~122D),并且上述多个振动臂相互并列延伸且以面外弯曲振动模式为主振动进行振动,上述保持部配置于多个振动臂(121A~121D)的周围的至少一部分,构成为保持基部(130);下盖;上盖,在与下盖之间形成谐振子(10)的振动空间;以及突出部(50),从下盖或者上盖的内面向振动空间突出,保持部(140)具有突起(146a、146b),在俯视时,上述突起形成于与多个振动臂(121A~121D)中的至少一个振动臂的锤部(122A~122D)对置的位置。
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公开(公告)号:CN119256491A
公开(公告)日:2025-01-03
申请号:CN202380042704.2
申请日:2023-02-27
Applicant: 株式会社村田制作所
IPC: H03H9/24
Abstract: 本发明的谐振装置(1)具备:谐振器(10),具有:振动部(110);保持部(140),配置于振动部(110)周围的至少一部分;以及支承臂(150),连接振动部(110)和保持部(140);以及第一基板(20),具有第一底板(22)、第一侧壁(23)以及第一限制部(25),其中,上述第一底板(22)在厚度方向上与振动部(110)隔开间隔来设置,上述第一侧壁(23)从第一底板(22)的周缘部向保持部(140)延伸,厚度方向上的上述第一限制部(25)与谐振器(10)之间的距离小于谐振器(10)与第一底板(22)之间的距离的,在第一限制部(25)的在厚度方向上与谐振器(10)对置的前端部设置有作为吸气剂发挥功能的第一金属膜(M2)。
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公开(公告)号:CN119256490A
公开(公告)日:2025-01-03
申请号:CN202380042699.5
申请日:2023-02-28
Applicant: 株式会社村田制作所
Abstract: 本发明提供谐振装置及其制造方法。谐振装置(1)具备:谐振器(10),具有振动部(110)、配置于振动部(110)周围的至少一部分的保持部(140)以及连接振动部(110)与保持部(140)的支承臂(150);以及第一基板(30),具有第一底板(32)和第一侧壁(33),其中,第一底板在厚度方向上与振动部(110)隔开间隔来设置,该第一侧壁从第一底板(32)的周边部向保持部(140)延伸,振动部(110)具有构成为能够进行面外弯曲振动的振动臂(121A),振动臂(121A)的前端部(122A)具有:基端侧部分和前端侧部分,其中,基端侧部分通过金属膜(125A)设置与第一底板(32)对置的面,前端侧部分位于比基端侧部分靠近开放端侧且通过硅设置与第一底板(32)对置的面。
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公开(公告)号:CN118402181A
公开(公告)日:2024-07-26
申请号:CN202280083208.7
申请日:2022-08-08
Applicant: 株式会社村田制作所
IPC: H03H9/24
Abstract: 本发明提供能够抑制主模式的振动和寄生模式的振动的耦合的产生的谐振子以及谐振装置。谐振子(10)具备:振动部(110),包括多个振动臂(121)和基部(130),其中,上述多个振动臂(121)为三根以上且分别具有固定端,至少两根以不同的相位进行面外弯曲,上述基部(130)具有供多个振动臂(121)各自的固定端连接的一端和与该一端对置的另一端;保持部(140),构成为保持振动部(110);以及支承臂(151),一端与保持部(140)连接,另一端与基部(130)的另一端连接,支承臂(151)具有构成为使支承臂(151)的振动中的Q值降低的降低膜(LM)。
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公开(公告)号:CN116848782A
公开(公告)日:2023-10-03
申请号:CN202180091114.X
申请日:2021-10-01
Applicant: 株式会社村田制作所
IPC: H03H3/04
Abstract: 本发明涉及谐振装置及其制造方法。本发明提供一种谐振装置的制造方法,包括以下工序:准备谐振装置(1),上述谐振装置(1)具备下盖(20)、与下盖(20)接合的上盖(30)、以及具有振动臂(121A~121D)的谐振器(10),该振动臂(121A~121D)构成为在被设置于下盖(20)与上盖(30)之间的内部空间能够弯曲振动;和调整谐振器(10)的频率,调整频率的工序包括:使振动臂(121A~121D)弯曲振动,使振动臂(121A~121D)的末端部(122A~122D)的氧化硅以3.5×103μm/sec以上的碰撞速度碰撞到下盖(20)的硅。
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