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公开(公告)号：CN115510939A
公开(公告)日：2022-12-23
申请号：CN202210516517.0
申请日：2022-05-11
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: G06K9/62 , G06F16/50 , G06V10/764
Abstract: 本发明提供一种图像识别系统。在对图像中包含的形状进行识别的图像识别系统中，即使在图像内映现有多个形状的情况下，也能够针对这些形状的单独的预测结果判定其成功与否的技术。本发明所涉及的图像识别系统按照在图像内识别出的每个对象形状并且按照特征量的每个种类，计算特征量的重要度，按照每个所述对象形状对所述重要度和特征量的每个种类的统计量进行比较，由此判定识别结果是否正确。
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公开(公告)号：CN115004248A
公开(公告)日：2022-09-02
申请号：CN202080094984.8
申请日：2020-11-06
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: G06V10/764
Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够生成适当的监督数据的图像分类装置及其方法。图像分类装置使用包含监督信息的分类对象类的图像和未被赋予监督信息的分类对象外类的图像进行图像分类，其特征在于，具备：图像组输入部，其输入属于分类对象类的图像组和属于分类对象外类的图像组；以及子类化部，其针对图像组的各图像提取特征量，针对属于分类对象外类的图像组，对图像的特征量进行聚类，分割为子类。
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公开(公告)号：CN113168687B
公开(公告)日：2025-02-25
申请号：CN201980077432.3
申请日：2019-10-11
Applicant: 株式会社日立高新技术
Abstract: 本发明提供一种图像评价装置和方法，能够检测未知缺陷，能够防止机器学习模型的误识别。本发明的图像评价装置，使用基于机器学习的识别器来识别电子器件的缺陷图像中的缺陷信息，其特征在于，包括：保存电子器件的缺陷图像的图像存储部；保存缺陷图像中的缺陷区域信息的缺陷区域存储部；通过机器学习来识别缺陷信息的识别器；在缺陷图像的识别处理的过程中提取识别器所关注的关注图像信息的图像提取部；和对关注图像信息与缺陷区域信息进行比较而评价缺陷图像的识别可能性的评价部。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN119096530A
公开(公告)日：2024-12-06
申请号：CN202380013063.8
申请日：2023-04-05
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: H04L67/2871 , H04L12/22 , H04L12/66 , H04L67/06
Abstract: 本发明的目的在于提供如下技术：从自据点访问其他据点而取得数据，仅取得必要的数据，取得包括自据点以外的半导体制造装置的装置群的可公开的数据。本发明的据点协作系统从配置第一计算机和第二计算机的第一据点访问与第一据点不同的第二据点而取得第二据点的公开的数据，到公开的数据为止的到达路径由第一计算机设定，对到达路径上的设备许可对公开的数据的通信，公开的数据被第二计算机访问，第一据点内的服务器具有保存公开的数据的区域，通过第二计算机，将公开的数据复制到区域，或者参照公开的数据，第一据点以外的据点与区域的通信被第一计算机禁止。
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公开(公告)号：CN113168687A
公开(公告)日：2021-07-23
申请号：CN201980077432.3
申请日：2019-10-11
Applicant: 株式会社日立高新技术
Abstract: 本发明提供一种图像评价装置和方法，能够检测未知缺陷，能够防止机器学习模型的误识别。本发明的图像评价装置，使用基于机器学习的识别器来识别电子器件的缺陷图像中的缺陷信息，其特征在于，包括：保存电子器件的缺陷图像的图像存储部；保存缺陷图像中的缺陷区域信息的缺陷区域存储部；通过机器学习来识别缺陷信息的识别器；在缺陷图像的识别处理的过程中提取识别器所关注的关注图像信息的图像提取部；和对关注图像信息与缺陷区域信息进行比较而评价缺陷图像的识别可能性的评价部。
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公开(公告)号：CN119895544A
公开(公告)日：2025-04-25
申请号：CN202380015613.X
申请日：2023-08-24
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: H01L21/3065
Abstract: 本发明目的在于，提供探测仅凭借从俯视图得到的平面的尺寸数据得不到的形状不良状况、准确地进行蚀刻参数的控制的技术。为此，本发明的服务器基于形成于试样的蚀刻形状的特征量和目标值的变化量、与半导体制造装置的蚀刻参数的相关数据来进行蚀刻参数的控制，以使得能得到所期望的半导体制造装置的处理结果，特征量使用从来自试样的表面的2次电子数据或来自试样的表面的干涉光数据得到的值。特征量有时是基于2次电子数据或干涉光数据从试样的蚀刻形状的尺寸得到的值。此外，作为特征量的变化量，有空间上或时间上的变化的值。
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公开(公告)号：CN118974880A
公开(公告)日：2024-11-15
申请号：CN202380013035.6
申请日：2023-03-13
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: H01L21/02
Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够应对从包括半导体制造装置的装置群等安全风险高的装置输出的数据，能够处理大容量的数据的技术。本发明的半导体装置制造系统之一在于，在具备经由网络与半导体制造装置连接的平台的半导体装置制造系统中，还具备：数据库服务器，将分配给各个所述半导体制造装置的装置ID和从各个所述半导体制造装置输出的数据的扩展名作为装置主机保存；变换连接装置，基于网络的认证信息或者所述平台的认证信息访问所述装置主机，由此取得所述数据；以及路径设定装置，将来自所述半导体制造装置的自发的数据的输出阻断。
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公开(公告)号：CN118302790A
公开(公告)日：2024-07-05
申请号：CN202180104385.4
申请日：2021-12-17
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: G06T7/00
Abstract: 提供示教数据作成辅助装置，对于在图像内映有多个缺陷的图像，通过以还考虑其周边区域的形式确定每个缺陷的对应的特征量并映射到低维度空间，能进行有效率的学习图像的收集/选择。特征在于，具备：图像识别部，其基于学习结果来对输入图像提取特征量，根据所述特征量进行图像处理，输出识别结果；特征量确定部，其将所述图像识别部的1个以上的预测结果或指定区域作为输入，确定每个所述预测结果或所述指定区域的相应的所述特征量；检查结果特征量数据库，其保存每个所述预测结果或每个所述指定区域的所述特征量；和维度削减部，其对保存于所述检查结果特征量数据库的所述特征量进行维度削减并投影到低维度空间，所述特征量确定部具有：重要区域算出部，其按每个所述预测结果或每个所述指定区域来求取保持包含所述预测结果的检测区域或所述指定区域的周边的区域信息的重要区域；和特征量提取部，其通过对所述图像识别部所提取的所述特征量以所述重要区域进行加权，来提取每个所述预测结果或每个所述指定区域的相应的所述特征量。
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