激光处理装置
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102834899A

    公开(公告)日:2012-12-19

    申请号:CN201180018247.0

    申请日:2011-04-08

    CPC classification number: H01L21/268 B23K26/127

    Abstract: 本发明提供一种不必在激光处理装置中设置加载互锁室等、能迅速地搬出、搬入被处理体,而且能在短时间内使处理室内的气氛稳定的激光处理装置。本发明的激光处理装置包括:处理室(2),该处理室(2)收纳被处理体(100),并在进行了调节的气氛下对被处理体(100)照射激光;以及光学系统,该光学系统将激光从外部导向处理室(2)内,处理室(2)具有用于将被处理体(100)从处理室(2)外部装入处理室(2)内部的、可开闭的装入口(7),在处理室(2)内部,包括与装入口(7)相连的加载区域(A)、及与加载区域(A)相连的激光照射区域(B),并具有分隔部,该分隔部将加载区域(A)分隔成装入口侧的空间(A1)和激光照射区域侧的空间(A2),分隔部能使被处理体(100)在装入口侧空间(A1)与激光照射区域侧空间(A2)之间移动。

    激光处理装置
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113631318A

    公开(公告)日:2021-11-09

    申请号:CN201980094158.0

    申请日:2019-11-29

    Abstract: 激光处理装置包括:载台(2),其可借由从表面喷射气体来悬浮搬运基板(3);激光振荡器,其将激光(20a)照射至基板(3);及气体喷射口,其用于喷射惰性气体,且配置于俯视下与激光(20a)的焦点位置重叠的位置。载台(2)的表面由上部结构(5a,5b)所构成,上部结构(5a,5b)配置为彼此分离且相对。于俯视下,上部结构(5a,5b)之间的间隙与激光(20a)的焦点位置重叠。填充组件(8)配置于上部结构(5a,5b)之间,且配置为填补上部结构(5a,5b)之间的间隙。

    被处理体搬送装置、半导体制造装置及被处理体搬送方法

    公开(公告)号:CN108352347B

    公开(公告)日:2022-05-03

    申请号:CN201680062296.7

    申请日:2016-10-25

    Abstract: 一种搬送被处理体的被处理体搬送装置,具有:搬送路径,被处理体在搬送路径中移动;在搬送路径上利用气体使被处理体浮起的气体浮起部;保持通过气体浮起部浮起的被处理体并与被处理体一起在搬送路径上移动的移动保持部;以及位于搬送路径上并具有对被处理体进行规定处理的处理区域的处理区域搬送路径,移动保持部沿着搬送路径的移动方向具有至少两个以上的保持部,各保持部能够在被处理体的移动过程中进行被处理体的保持解除和保持的切换,并进行在处理区域搬送路径中解除保持部对被处理体的保持,在处理区域搬送路径外的搬送路径中进行保持的动作。

    激光照射装置、半导体器件制造方法及激光照射装置操作方法

    公开(公告)号:CN109804457A

    公开(公告)日:2019-05-24

    申请号:CN201780061352.X

    申请日:2017-06-02

    Abstract: 一种实施方式的激光退火装置(1)包括用于生成激光束(L)的激光振荡器(4),用于将待由所述激光束(L)照射的工件(W)浮起并传送该工件的浮起型传送台(3),以及用于测量所述激光束(L)的光束轮廓的光束轮廓测量仪(7)。所述浮起型传送台(3)包括与所述工件(W)相对的传送表面(3a)以及与位于该传送表面(3a)相反一侧的下表面(3b)。所述光束轮廓测量仪(7)位于所述浮起型传送台(3)下表面(3b)下方。所述浮起型传送台(3)包括处于其一部分之内的可卸除部分(12)。通过将所述可卸除部分(12)从所述浮起型传送台(3)卸除,形成开孔(S),该开孔(3)自所述传送表面(3a)延伸至所述下表面(3b)。所述光束轮廓测量仪(7)用于经所述开孔(S),对所述激光束(L)的光束轮廓进行测量。

    被处理体搬送装置、半导体制造装置及被处理体搬送方法

    公开(公告)号:CN108352347A

    公开(公告)日:2018-07-31

    申请号:CN201680062296.7

    申请日:2016-10-25

    CPC classification number: H01L21/268 H01L21/677

    Abstract: 一种搬送被处理体的被处理体搬送装置,具有:搬送路径,被处理体在搬送路径中移动;在搬送路径上利用气体使被处理体浮起的气体浮起部;保持通过气体浮起部浮起的被处理体并与被处理体一起在搬送路径上移动的移动保持部;以及位于搬送路径上并具有对被处理体进行规定处理的处理区域的处理区域搬送路径,移动保持部沿着搬送路径的移动方向具有至少两个以上的保持部,各保持部能够在被处理体的移动过程中进行被处理体的保持解除和保持的切换,并进行在处理区域搬送路径中解除保持部对被处理体的保持,在处理区域搬送路径外的搬送路径中进行保持的动作。

    激光处理装置
    10.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102834899B

    公开(公告)日:2015-08-05

    申请号:CN201180018247.0

    申请日:2011-04-08

    CPC classification number: H01L21/268 B23K26/127

    Abstract: 本发明提供一种不必在激光处理装置中设置加载互锁室等、能迅速地搬出、搬入被处理体,而且能在短时间内使处理室内的气氛稳定的激光处理装置。本发明的激光处理装置包括:处理室(2),该处理室(2)收纳被处理体(100),并在进行了调节的气氛下对被处理体(100)照射激光;以及光学系统,该光学系统将激光从外部导向处理室(2)内,处理室(2)具有用于将被处理体(100)从处理室(2)外部装入处理室(2)内部的、可开闭的装入口(7),在处理室(2)内部,包括与装入口(7)相连的加载区域(A)、及与加载区域(A)相连的激光照射区域(B),并具有分隔部,该分隔部将加载区域(A)分隔成装入口侧的空间(A1)和激光照射区域侧的空间(A2),分隔部能使被处理体(100)在装入口侧空间(A1)与激光照射区域侧空间(A2)之间移动。

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