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公开(公告)号：CN113614886B
公开(公告)日：2024-10-29
申请号：CN202080021193.2
申请日：2020-01-21
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/304 , H01L21/306
Abstract: 处理条件选择方法包括步骤(S21)以及步骤(S22)。在步骤(S21)中，比较表示在对象物的多个测定位置分别测定出的多个厚度的分布的厚度图案(TM)与预先存储的多个参照图案(RP)，根据规定规则从多个参照图案(RP)中确定与厚度图案(RM)相关度高的参照图案(RP)。在步骤(S22)中，取得与多个参照图案(RP)分别相关联的多个参照处理条件中的、与所确定的参照图案(RP)相关联的参照处理条件而作为对象物的处理条件。多个参照图案(RP)分别表示参照对象物的物理量的分布。多个参照处理条件分别表示过去对具有参照图案(RP)的参照对象物执行了处理时的处理条件。
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公开(公告)号：CN107104074B
公开(公告)日：2020-10-30
申请号：CN201710080441.0
申请日：2017-02-15
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/687
Abstract: 一种包括旋转台和基板旋转保持装置的基板处理装置和基板处理方法。基板旋转保持装置设置成与旋转台一同绕沿铅垂方向的旋转轴线旋转且包括将基板水平地支撑的多个支撑销，支撑销包括具有支撑部的可动销，支撑部设置为可在与基板周缘部抵接的抵接位置与比抵接位置远离旋转轴线的开放位置间移动；基板处理装置还包括驱动用磁铁，其与可动销对应设置且在旋转台的径向上具有规定的磁极方向；按压用磁铁，具有在其与驱动用磁铁之间提供磁吸引力或磁排斥力的磁极，该磁吸引力或者该磁排斥力使支撑部推向抵接位置而使支撑部按压于基板的周缘部；按压力变动单元，其随着旋转台的旋转，将支撑部按压基板的周缘部的按压力大小保持为大于零的同时使大小变动。
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公开(公告)号：CN108701609A
公开(公告)日：2018-10-23
申请号：CN201780014745.5
申请日：2017-03-21
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/304
CPC classification number: H01L21/67046 , B08B3/08 , C11D7/08 , C11D11/0047 , H01L21/02041 , H01L21/02052 , H01L21/67028 , H01L21/67051 , H01L21/68707 , H01L21/68728 , H01L21/68764
Abstract: 一种基板处理方法，包含：含臭氧氢氟酸溶液喷出步骤，从喷嘴对保持在基板保持单元的基板的一个主面，喷出在氢氟酸溶液中溶解有臭氧而成的含臭氧氢氟酸溶液；以及刷清洗步骤，在上述含臭氧氢氟酸溶液喷出步骤后、或与上述含臭氧氢氟酸溶液喷出步骤并行，使清洗刷抵接上述基板的上述一个主面而对该一个主面进行清洗。
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公开(公告)号：CN108701609B
公开(公告)日：2023-03-24
申请号：CN201780014745.5
申请日：2017-03-21
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/304
Abstract: 一种基板处理方法，包含：含臭氧氢氟酸溶液喷出步骤，从喷嘴对保持在基板保持单元的基板的一个主面，喷出在氢氟酸溶液中溶解有臭氧而成的含臭氧氢氟酸溶液；以及刷清洗步骤，在上述含臭氧氢氟酸溶液喷出步骤后、或与上述含臭氧氢氟酸溶液喷出步骤并行，使清洗刷抵接上述基板的上述一个主面而对该一个主面进行清洗。
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公开(公告)号：CN113614886A
公开(公告)日：2021-11-05
申请号：CN202080021193.2
申请日：2020-01-21
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/304 , H01L21/306
Abstract: 处理条件选择方法包括步骤(S21)以及步骤(S22)。在步骤(S21)中，比较表示在对象物的多个测定位置分别测定出的多个厚度的分布的厚度图案(TM)与预先存储的多个参照图案(RP)，根据规定规则从多个参照图案(RP)中确定与厚度图案(RM)相关度高的参照图案(RP)。在步骤(S22)中，取得与多个参照图案(RP)分别相关联的多个参照处理条件中的、与所确定的参照图案(RP)相关联的参照处理条件而作为对象物的处理条件。多个参照图案(RP)分别表示参照对象物的物理量的分布。多个参照处理条件分别表示过去对具有参照图案(RP)的参照对象物执行了处理时的处理条件。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113557594B
公开(公告)日：2025-04-15
申请号：CN202080020030.2
申请日：2020-02-06
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/304 , H01L21/306
Abstract: 基板处理方法包括：以朝向上下方向的中心轴为中心使基板旋转的工序(步骤S11)；向旋转中的基板的上表面以及下表面中的一个主面的中央部供给气体，并且以第1流量向基板的另一个主面的中央部供给冲洗液并使该冲洗液向一个主面的周缘区域绕流，由此，在一个主面上形成气体与冲洗液的气液界面的工序(步骤S13)；以及在步骤S13之后，以流量比第1流量小的第2流量向旋转中的基板的另一个主面的中央部供给药液并使该药液向一个主面的周缘区域绕流，由此，在一个主面上到气液界面供给药液来进行周缘区域的药液处理的工序(步骤S15)。由此，能够抑制药液的液体飞溅地适当进行基板的周缘区域的药液处理。
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公开(公告)号：CN108701606A
公开(公告)日：2018-10-23
申请号：CN201780014056.4
申请日：2017-03-21
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/304
CPC classification number: H01L21/02057 , B08B1/002 , B08B1/04 , B08B3/08 , B08B3/10 , B08B7/04 , B08B2203/005 , H01L21/0209 , H01L21/67028 , H01L21/67046 , H01L21/67051 , H01L21/68728 , H01L21/68792
Abstract: 本发明的基板处理方法，包含：基板保持步骤，使基板保持于基板保持单元；含臭氧氢氟酸溶液供给步骤，对保持于上述基板保持单元的上述基板的一个主面，供给在氢氟酸溶液中溶解有臭氧的含臭氧氢氟酸溶液；刷清洗步骤，在上述含臭氧氢氟酸溶液供给步骤之后，使清洗刷接触上述基板的上述一个主面，由此对该一个主面进行清洗；臭氧水供给步骤，在上述含臭氧氢氟酸溶液供给步骤之后且在上述刷清洗步骤开始之前，或与上述刷清洗步骤并行，对上述基板的上述一个主面供给臭氧水。
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公开(公告)号：CN108701606B
公开(公告)日：2024-01-05
申请号：CN201780014056.4
申请日：2017-03-21
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/304
Abstract: 本发明的基板处理方法，包含：基板保持步骤，使基板保持于基板保持单元；含臭氧氢氟酸溶液供给步骤，对保持于上述基板保持单元的上述基板的一个主面，供给在氢氟酸溶液中溶解有臭氧的含臭氧氢氟酸溶液；刷清洗步骤，在上述含臭氧氢氟酸溶液供给步骤之后，使清洗刷接触上述基板的上述一个主面，由此对该一个主面进行清洗；臭氧水供给步骤，在上述含臭氧氢氟酸溶液供给步骤之后且在上述刷清洗步骤开始之前，或与上述刷清洗步骤并行，对上述基板的上述一个主面供给臭氧水。
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公开(公告)号：CN113557594A
公开(公告)日：2021-10-26
申请号：CN202080020030.2
申请日：2020-02-06
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/304 , H01L21/306
Abstract: 基板处理方法包括：以朝向上下方向的中心轴为中心使基板旋转的工序(步骤S11)；向旋转中的基板的上表面以及下表面中的一个主面的中央部供给气体，并且以第1流量向基板的另一个主面的中央部供给冲洗液并使该冲洗液向一个主面的周缘区域绕流，由此，在一个主面上形成气体与冲洗液的气液界面的工序(步骤S13)；以及在步骤S13之后，以流量比第1流量小的第2流量向旋转中的基板的另一个主面的中央部供给药液并使该药液向一个主面的周缘区域绕流，由此，在一个主面上到气液界面供给药液来进行周缘区域的药液处理的工序(步骤S15)。由此，能够抑制药液的液体飞溅地适当进行基板的周缘区域的药液处理。
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公开(公告)号：CN107104074A
公开(公告)日：2017-08-29
申请号：CN201710080441.0
申请日：2017-02-15
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/687
Abstract: 一种包括旋转台和基板旋转保持装置的基板处理装置和基板处理方法。基板旋转保持装置设置成与旋转台一同绕沿铅垂方向的旋转轴线旋转且包括将基板水平地支撑的多个支撑销，支撑销包括具有支撑部的可动销，支撑部设置为可在与基板周缘部抵接的抵接位置与比抵接位置远离旋转轴线的开放位置间移动；基板处理装置还包括驱动用磁铁，其与可动销对应设置且在旋转台的径向上具有规定的磁极方向；按压用磁铁，具有在其与驱动用磁铁之间提供磁吸引力或磁排斥力的磁极，该磁吸引力或者该磁排斥力使支撑部推向抵接位置而使支撑部按压于基板的周缘部；按压力变动单元，其随着旋转台的旋转，将支撑部按压基板的周缘部的按压力大小保持为大于零的同时使大小变动。
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