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公开(公告)号:CN1316777A
公开(公告)日:2001-10-10
申请号:CN01119032.9
申请日:2001-04-04
Applicant: 株式会社东金
CPC classification number: H01L23/552 , H01L23/66 , H01L2223/6627 , H01L2224/274 , H01L2924/01019 , H01L2924/19032 , H01L2924/3011
Abstract: 在半导体裸芯片(57)的前表面上形成集成电路,在半导体裸芯片的背侧表面上形成磁损耗薄膜55。