公开(公告)号：CN102890404B

公开(公告)日：2015-10-21

申请号：CN201210211232.2

申请日：2012-06-21

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 铃木理人 ,  河野拓也 ,  高桑真步 ,  福原和也

IPC: G03F7/00

CPC classification number: G03F9/7042 ,  B29C2043/025 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002

Abstract: 本发明涉及压印方法和压印系统。根据一个实施例，一种压印方法包括：在要处理的膜上涂敷光固性有机材料，使模板的凹凸图形接触所述光固性有机材料，在使所述模板接触所述光固性有机材料的状态下向所述模板施加力，通过在使所述模板接触所述光固性有机材料的状态下将光辐射到所述光固性有机材料来固化所述光固性有机材料，以及在光辐射之后将所述模板撤离所述光固性有机材料。施加到所述模板的力对应于在所述要处理的膜的表面和所述模板之间的间隙。

公开(公告)号：CN102890404A

公开(公告)日：2013-01-23

申请号：CN201210211232.2

申请日：2012-06-21

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 铃木理人 ,  河野拓也 ,  高桑真步 ,  福原和也

IPC: G03F7/00

CPC classification number: G03F9/7042 ,  B29C2043/025 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002

Abstract: 本发明涉及压印方法和压印系统。根据一个实施例，一种压印方法包括：在要处理的膜上涂敷光固性有机材料，使模板的凹凸图形接触所述光固性有机材料，在使所述模板接触所述光固性有机材料的状态下向所述模板施加力，通过在使所述模板接触所述光固性有机材料的状态下将光辐射到所述光固性有机材料来固化所述光固性有机材料，以及在光辐射之后将所述模板撤离所述光固性有机材料。施加到所述模板的力对应于在所述要处理的膜的表面和所述模板之间的间隙。

公开(公告)号：CN1421746A

公开(公告)日：2003-06-04

申请号：CN02153821.2

申请日：2002-11-28

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 高桑真步 ,  浅沼庆太 ,  东木达彦

IPC: G03F7/20 ,  G03F9/02 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70525 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/70458 ,  G03F7/70541 ,  G03F7/70633

Abstract: 使用扫描曝光装置，当在下层图形上重叠地形成上层图形之时，谋求提高重叠精度。在所用的各曝光装置，对控制晶片，检测各发射区内在扫描方向4个以上，而且步进方向4个以上矩阵排列形成的，多个标记位置信息的步骤；运算与从重叠层曝光使用的扫描曝光装置得到的标记位置信息的各坐标分量的差分的步骤；由算出的差分，求出各自表示透镜象差参数的步骤；以及根据由求出的参数获得的校正参数，进行上述重叠曝光的步骤。

公开(公告)号：CN1216403C

公开(公告)日：2005-08-24

申请号：CN02153821.2

申请日：2002-11-28

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 高桑真步 ,  浅沼庆太 ,  东木达彦

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20 ,  G03F9/02

CPC classification number: G03F7/70525 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/70458 ,  G03F7/70541 ,  G03F7/70633

Abstract: 使用扫描曝光装置，当在下层图形上重叠地形成上层图形之时，谋求提高重叠精度。在所用的各曝光装置，对控制晶片，检测各发射区内在扫描方向4个以上，而且步进方向4个以上矩阵排列形成的，多个标记位置信息的步骤；运算与从重叠层曝光使用的扫描曝光装置得到的标记位置信息的各坐标分量的差分的步骤；由算出的差分，求出各自表示透镜象差参数的步骤；以及根据由求出的参数获得的校正参数，进行上述重叠曝光的步骤。