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公开(公告)号:CN102150234B
公开(公告)日:2014-11-05
申请号:CN200980135993.0
申请日:2009-11-05
Applicant: 株式会社东芝
IPC: H01L21/027 , G03F7/16 , H01L21/31 , H01L21/312 , H01L21/316
CPC classification number: H01L21/6715 , B05D1/005 , B05D3/0486 , G03F7/162 , H01L21/67253
Abstract: 本发明提供一种成膜装置(1),具有:负载涂布对象物(W)的平台(2),使平台(2)在水平面内旋转的旋转机构(3),在平台(2)上负载的涂布对象物(W)上的规定区域中涂布材料而形成涂布膜(M)的涂布部(4),产生能溶解涂布膜(M)的溶剂蒸气的供气部(5),对在平台(2)上负载的涂布对象物(W)上的涂布膜(M)喷吹由供气部(5)产生的溶剂蒸气的喷吹部(6),控制由喷吹部(6)喷吹的上述溶剂蒸气量,使其为能溶解涂布膜(M)、涂布膜(M)的表层侧部分的粘度比涂布对象物(W)侧部分的粘度低的量的控制部(9)。
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公开(公告)号:CN101622076A
公开(公告)日:2010-01-06
申请号:CN200880006435.X
申请日:2008-02-27
CPC classification number: H01L21/67028 , B05D3/105 , G02F1/1303 , H01L21/6715 , H01L21/6776
Abstract: 在涂布装置(1)中,包括:液滴喷射部,所述液滴喷射部向涂布对象物(2)喷射第一溶液的液滴,在涂布对象物(2)上涂布液滴;重新润湿干燥部(6),所述重新润湿干燥部(6)赋予涂布到涂布对象物(2)上的第一溶液残留物能够溶解残留物的溶剂,形成作为溶质包含残留物的第二溶液的涂布体,使形成的第二溶液涂布体干燥。
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公开(公告)号:CN101041148A
公开(公告)日:2007-09-26
申请号:CN200610142977.2
申请日:2006-10-26
Applicant: 株式会社东芝
Inventor: 木村修一
CPC classification number: B41J3/28 , B05B17/0607 , B41J11/0015 , H01L51/0005
Abstract: 本发明的目的是,能不麻烦地、容易地对液滴喷射涂敷头组件充填液体。液滴喷射涂敷头组件(3)备有液滴喷射涂敷头(13)和容器(14)。液滴喷射涂敷头(13),具有收容液体的液室和若干个与该液室连通的喷嘴,从喷嘴喷射液滴。容器(14)收容要供给液室的液体,并与液室连通。液滴喷射涂敷头(13)与容器(14)由连接部件(17)连接。在连接部件(17)与液滴喷射涂敷头(13)之间,夹设着旋转式接头(18)。
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公开(公告)号:CN101622076B
公开(公告)日:2013-06-26
申请号:CN200880006435.X
申请日:2008-02-27
CPC classification number: H01L21/67028 , B05D3/105 , G02F1/1303 , H01L21/6715 , H01L21/6776
Abstract: 在涂布装置(1)中,包括:液滴喷射部,所述液滴喷射部向涂布对象物(2)喷射第一溶液的液滴,在涂布对象物(2)上涂布液滴;重新润湿干燥部(6),所述重新润湿干燥部(6)赋予涂布到涂布对象物(2)上的第一溶液残留物能够溶解残留物的溶剂,形成作为溶质包含残留物的第二溶液的涂布体,使形成的第二溶液涂布体干燥。
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公开(公告)号:CN102417109A
公开(公告)日:2012-04-18
申请号:CN201110263797.0
申请日:2011-09-07
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: H01L21/67772
Abstract: 本实施方式的一个方式的搬运机构,在相互使开口部侧对置配置的处理室和搬运箱之间,一边维持气密状态一边交接工件,其中,具备:处理室盖部,使上述处理室的开口部开闭自由且气密地覆盖上述处理室的开口部,并且在上述搬运箱侧具有凹部;引导机构,向上述处理室的内部侧引导该处理室盖部;工件支撑部,设置于上述处理室内;搬运箱盖部,使上述搬运箱的开口部开闭自由且气密地覆盖上述搬运箱的开口部,并且气密地嵌入上述凹部;以及结合部,上述处理室的开口部周围的前面部与上述搬运箱的开口部周围的前面部气密地结合而成。
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公开(公告)号:CN102150234A
公开(公告)日:2011-08-10
申请号:CN200980135993.0
申请日:2009-11-05
Applicant: 株式会社东芝
IPC: H01L21/027 , G03F7/16 , H01L21/31 , H01L21/312 , H01L21/316
CPC classification number: H01L21/6715 , B05D1/005 , B05D3/0486 , G03F7/162 , H01L21/67253
Abstract: 本发明提供一种成膜装置(1),具有:负载涂布对象物(W)的平台(2),使平台(2)在水平面内旋转的旋转机构(3),在平台(2)上负载的涂布对象物(W)上的规定区域中涂布材料而形成涂布膜(M)的涂布部(4),产生能溶解涂布膜(M)的溶剂蒸气的供气部(5),对在平台(2)上负载的涂布对象物(W)上的涂布膜(M)喷吹由供气部(5)产生的溶剂蒸气的喷吹部(6),控制由喷吹部(6)喷吹的上述溶剂蒸气量,使其为能溶解涂布膜(M)、涂布膜(M)的表层侧部分的粘度比涂布对象物(W)侧部分的粘度低的量的控制部(9)。
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