公开(公告)号：CN102417109A

公开(公告)日：2012-04-18

申请号：CN201110263797.0

申请日：2011-09-07

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 高桥正彦 ,  深津健太 ,  木村修一 ,  寺口和宏

IPC: B65G49/07 ,  B65G47/74

CPC classification number: H01L21/67772

Abstract: 本实施方式的一个方式的搬运机构，在相互使开口部侧对置配置的处理室和搬运箱之间，一边维持气密状态一边交接工件，其中，具备：处理室盖部，使上述处理室的开口部开闭自由且气密地覆盖上述处理室的开口部，并且在上述搬运箱侧具有凹部；引导机构，向上述处理室的内部侧引导该处理室盖部；工件支撑部，设置于上述处理室内；搬运箱盖部，使上述搬运箱的开口部开闭自由且气密地覆盖上述搬运箱的开口部，并且气密地嵌入上述凹部；以及结合部，上述处理室的开口部周围的前面部与上述搬运箱的开口部周围的前面部气密地结合而成。

公开(公告)号：CN1667708A

公开(公告)日：2005-09-14

申请号：CN200410075796.3

申请日：2004-11-29

Applicant: 日本先锋公司 ,  株式会社东芝 ,  松下电器产业株式会社 ,  三星电子株式会社 ,  株式会社日立制作所

Inventor： 泽边孝夫 ,  谷口昭史 ,  永井宏一 ,  小林忠 ,  山口博之 ,  赤平信夫 ,  高祯完 ,  高桥正彦 ,  榑林正明

IPC: G11B7/00 ,  G11B7/0045 ,  G11B20/12

CPC classification number: G11B20/1217 ,  G11B7/0037 ,  G11B7/0045 ,  G11B7/00736 ,  G11B19/26 ,  G11B20/10 ,  G11B2020/10981 ,  G11B2020/1275 ,  G11B2220/2562

Abstract: 一种可以以一种或几种类型的记录速度在其上记录记录信息的记录介质。该记录介质包括记录有记录信息的记录区，和当在记录介质上记录记录信息时必要使用的记录速度范围信息记录区，其至少包含针对每种类型的记录介质预置的基本记录速度，其上还记录有记录速度范围信息，表示针对每种类型记录介质预置的记录速度范围。

公开(公告)号：CN101306536A

公开(公告)日：2008-11-19

申请号：CN200810097091.X

申请日：2008-05-14

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 中川惠美子 ,  古矢正明 ,  高桥正彦

IPC: B25J15/06 ,  B25J19/00 ,  B23Q7/00

CPC classification number: B65G47/918 ,  B65G47/252 ,  H01L21/6838

Abstract: 工件姿势改变设备和方法，设备包括：包括吸引口的第一吸嘴，吸引口能吸引工件第一表面，工件具有多个处于不同平面上的表面；与第一吸嘴具有预定倾斜角的第二吸嘴，第二吸嘴包括处于与第一吸嘴的吸引口不同平面上的吸引口，第二吸嘴的吸引口能吸引工件第二表面；真空压力切换装置，用来将真空压力施加于第一吸嘴以使其吸引口吸引工件第一表面，真空压力切换装置停止向第一吸嘴供应真空压力并将真空压力施加于第二吸嘴以使其吸引口吸引工件第二表面，并将工件从第一吸嘴传送至第二吸嘴。方法包括：利用第一吸嘴的吸引口吸引工件第一表面；利用真空压力切换装置将真空压力从第一吸嘴施加至第二吸嘴；利用第二吸嘴的吸引口吸引工件以改变工件姿势。

公开(公告)号：CN100414615C

公开(公告)日：2008-08-27

申请号：CN200410075796.3

申请日：2004-11-29

Applicant: 日本先锋公司 ,  株式会社东芝 ,  松下电器产业株式会社 ,  三星电子株式会社 ,  株式会社日立制作所

Inventor： 泽辺孝夫 ,  谷口昭史 ,  永井宏一 ,  小林忠 ,  山口博之 ,  赤平信夫 ,  高祯完 ,  高桥正彦 ,  榑林正明

IPC: G11B7/00 ,  G11B7/0045 ,  G11B20/12

Abstract: 一种可以以一种或几种类型的记录速度在其上记录记录信息的记录介质。该记录介质包括记录有记录信息的记录区，和当在记录介质上记录记录信息时必要使用的记录速度范围信息记录区，其至少包含针对每种类型的记录介质预置的基本记录速度，其上还记录有记录速度范围信息，表示针对每种类型记录介质预置的记录速度范围。