-
公开(公告)号：CN110904503A
公开(公告)日：2020-03-24
申请号：CN201910202118.5
申请日：2019-03-18
Applicant: 株式会社东芝 , 东芝电子元件及存储装置株式会社
Abstract: 本发明的实施方式涉及添加剂、添加剂分散液、蚀刻原料单元、添加剂供给装置、蚀刻装置及蚀刻方法。提供用于制备能够实现高的处理效率的硅的蚀刻液的添加剂及添加剂分散液、和使用了该添加剂及添加剂分散液的蚀刻技术。一实施方式所涉及的添加剂为用于制备在硅的蚀刻中所使用的蚀刻液的添加剂。添加剂包含固体状硅材料。固体状硅材料的比表面积大于12.6cm2/g。固体状硅材料的表面的至少一部分被氧化。
-
公开(公告)号：CN102435600B
公开(公告)日：2015-02-25
申请号：CN201110252145.7
申请日：2011-08-30
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: C12Q1/28 , C12Q1/26 , G01N21/7703 , G01N21/78
Abstract: 本发明涉及测试元件，测试试剂盒，测试装置和测试方法。根据一个实施方式，所述测试元件包括：基板，一对光学元件单元，光波导单元，检测单元和保持单元。基板具有透光性。一对光学元件单元彼此分开排列在基板主表面。光波导单元设置于基板主表面。检测单元设置于光学元件单元之间的光波导单元的主表面。光波导单元的主表面是接触基板的侧的对侧。保持单元是框架形状，且保持单元的一端设置为从检测单元的主表面突出。检测单元包括发色剂及保持所述发色剂的膜形成体。
-
公开(公告)号：CN102735832A
公开(公告)日：2012-10-17
申请号：CN201210090898.7
申请日：2012-03-30
Applicant: 株式会社东芝
IPC: G01N33/543 , G01N21/31
CPC classification number: G01N33/54326 , G01N15/0656 , G01N33/5434 , G01N33/54373 , G01N33/585
Abstract: 根据一个实施方式，提供一种使用了光波导的测定系统。测定系统具有光波导、磁性微粒、磁场施加部、光源及受光元件。光波导具有感应区，该感应区固定化了和测定对象物质特异性结合的第1物质。各个磁性微粒固定化了和上述测定对象物质特异性结合的第2物质。磁场施加部生成使上述磁性微粒移动的磁场。光源使光入射到上述光波导。受光元件接收从上述光波导出射的光。
-
公开(公告)号：CN110857913B
公开(公告)日：2022-08-12
申请号：CN201910193622.3
申请日：2019-03-14
Applicant: 株式会社东芝
IPC: G01N21/3577
Abstract: 本发明提供能够测定溶液中的微量硅浓度的测定器、蚀刻系统、硅浓度测定方法及硅浓度测定程序。根据实施方式，提供一种测定器，其包含输入输出部、存储器和处理器。输入输出部被输入测定值信息，所述测定值信息表示测定对象液的磷酸、第2酸和水的浓度，所述测定对象液包含磷酸、具有比磷酸的第1酸解离指数pKa1小的酸解离指数pK的第2酸和水。存储器保持变动值信息，所述变动值信息包含在基准液中按照成为基准硅浓度的方式添加硅时的磷酸、第2酸和水的浓度变化与基准硅浓度的关系，所述基准液含有磷酸、第2酸和水。处理器基于输入至输入输出部的测定值信息和从存储器读出的变动值信息，得到相当于测定值信息的测定对象液的硅浓度。
-
公开(公告)号：CN100584273C
公开(公告)日：2010-01-27
申请号：CN200710149401.3
申请日：2007-07-20
Applicant: 株式会社东芝
IPC: A61B5/1477 , G01N21/78 , C12Q1/00
CPC classification number: C12Q1/002 , C12Q1/006 , G01N21/552 , G01N21/78
Abstract: 本发明提供抑制乃至防止传感检测膜中的第1、第2酶随时间推移的劣化可能的光学式葡萄糖测定仪片。该光学式葡萄糖测定仪片具备基片，在基片的主面上形成的、用于使光入射到上述基片内、使光放出到上述基片外的一对光学元件，在位于光学元件之间的上述基片主面上形成的葡萄糖传感检测膜，该传感检测膜含有发色剂、使葡萄糖氧化或者还原的第1酶、通过和该第1酶的生成物反应而产生使上述发色剂发色的物质的第2酶和负离子性纤维素衍生物，上述传感检测膜具有上述第1、第2酶中的任一个酶用放入缓冲剂的离子性聚合物被覆，而且这些酶和发色剂保持在上述负离子性纤维素衍生物上的结构。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101108128A
公开(公告)日：2008-01-23
申请号：CN200710149401.3
申请日：2007-07-20
Applicant: 株式会社东芝
IPC: A61B5/1477 , G01N21/78 , C12Q1/00
CPC classification number: C12Q1/002 , C12Q1/006 , G01N21/552 , G01N21/78
Abstract: 本发明提供抑制乃至防止传感检测膜中的第1、第2酶随时间推移的劣化可能的光学式葡萄糖测定仪片。该光学式葡萄糖测定仪片具备基片，在基片的主面上形成的、用于使光入射到上述基片内、使光放出到上述基片外的一对光学元件，在位于光学元件之间的上述基片主面上形成的葡萄糖传感检测膜，该传感检测膜含有发色剂、使葡萄糖氧化或者还原的第1酶、通过和该第1酶的生成物反应而产生使上述发色剂发色的物质的第2酶和负离子性纤维素衍生物，上述传感检测膜具有上述第1、第2酶中的任一个酶用放入缓冲剂的离子性聚合物被覆，而且这些酶和发色剂保持在上述负离子性纤维素衍生物上的结构。
-
公开(公告)号：CN109478509B
公开(公告)日：2024-01-12
申请号：CN201880002785.2
申请日：2018-03-13
Applicant: 株式会社东芝
IPC: H01L21/308
Abstract: 本发明的实施方式的蚀刻液是用于氮化硅的蚀刻的蚀刻液，其包含磷酸、具有比磷酸的第1酸解离指数pKa1小的酸解离指数的酸、硅酸化合物和水。磷酸的质量M1与酸的质量M2之比M1/M2在0.82以上且725以下的范围内。
-
公开(公告)号：CN110904503B
公开(公告)日：2022-03-25
申请号：CN201910202118.5
申请日：2019-03-18
Applicant: 株式会社东芝 , 东芝电子元件及存储装置株式会社
Abstract: 本发明的实施方式涉及添加剂、添加剂分散液、蚀刻原料单元、添加剂供给装置、蚀刻装置及蚀刻方法。提供用于制备能够实现高的处理效率的硅的蚀刻液的添加剂及添加剂分散液、和使用了该添加剂及添加剂分散液的蚀刻技术。一实施方式所涉及的添加剂为用于制备在硅的蚀刻中所使用的蚀刻液的添加剂。添加剂包含固体状硅材料。固体状硅材料的比表面积大于12.6cm2/g。固体状硅材料的表面的至少一部分被氧化。
-
公开(公告)号：CN110857913A
公开(公告)日：2020-03-03
申请号：CN201910193622.3
申请日：2019-03-14
Applicant: 株式会社东芝
IPC: G01N21/3577
Abstract: 本发明提供能够测定溶液中的微量硅浓度的测定器、蚀刻系统、硅浓度测定方法及硅浓度测定程序。根据实施方式，提供一种测定器，其包含输入输出部、存储器和处理器。输入输出部被输入测定值信息，所述测定值信息表示测定对象液的磷酸、第2酸和水的浓度，所述测定对象液包含磷酸、具有比磷酸的第1酸解离指数pKa1小的酸解离指数pK的第2酸和水。存储器保持变动值信息，所述变动值信息包含在基准液中按照成为基准硅浓度的方式添加硅时的磷酸、第2酸和水的浓度变化与基准硅浓度的关系，所述基准液含有磷酸、第2酸和水。处理器基于输入至输入输出部的测定值信息和从存储器读出的变动值信息，得到相当于测定值信息的测定对象液的硅浓度。
-
公开(公告)号：CN105428274B
公开(公告)日：2019-01-01
申请号：CN201510567320.X
申请日：2015-09-08
Applicant: 株式会社东芝
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供处理装置及处理液的再利用方法。本实施方式的处理装置具备透析部、处理部和回收部。所述透析部对含有磷酸、硅化合物和水的溶液进行透析。所述处理部使用经所述透析的溶液进行被处理物的处理。所述回收部对在所述被处理物的处理中使用的溶液进行回收并供给至所述透析部。所述透析部具有使阴离子透过的透过部。所述回收部将在所述被处理物的处理中使用的溶液供给至通过所述透过部划分开的所述透析部内的区域。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
19
records
(took 0.021 seconds)
