异质结双极晶体管及其制造方法

    公开(公告)号:CN100369221C

    公开(公告)日:2008-02-13

    申请号:CN200510005992.8

    申请日:2005-02-01

    CPC classification number: H01L29/66318 H01L29/0817 H01L29/7371

    Abstract: 本发明旨在提供一种在高功率输出的操作下具有提高的击穿电压的异质结双极晶体管,所述异质结双极晶体管包括:一个GaAs半导体衬底;一个n+型GaAs亚集电极层110;一个n型GaAs集电极层120;一个p型GaAs基区层130;一个发射极层140;一个n型GaAs发射极覆盖层150;以及一个n型InGaAs发射极接触层160。所述发射极层140具有一个多层结构,包括依次层叠的一个n型或非掺杂第一发射极层141和一个n型第二发射极层142。所述第一发射层141由包含Al的一种半导体材料制成,而所述第二发射层142由InxGa1-xP(0<x<1)制成。

    异质结双极晶体管及其制造方法

    公开(公告)号:CN1667804A

    公开(公告)日:2005-09-14

    申请号:CN200510005992.8

    申请日:2005-02-01

    CPC classification number: H01L29/66318 H01L29/0817 H01L29/7371

    Abstract: 本发明旨在提供一种在高功率输出的操作下具有提高的击穿电压的异质结双极晶体管,所述异质结双极晶体管包括:一个GaAs半导体衬底;一个n+型GaAs亚集电极层110;一个n型GaAs集电极层120;一个p型GaAs基区层130;一个发射极层140;一个n型GaAs发射极覆盖层150;以及一个n型InGaAs发射极接触层160。所述发射极层140具有一个多层结构,包括依次层叠的一个n型或非掺杂第一发射极层141和一个n型第二发射极层142。所述第一发射层141由包含Al的一种半导体材料制成,而所述第二发射层142由InxGa1-xP(0<x<1)制成。

Patent Agency Ranking