公开(公告)号：CN115803858A

公开(公告)日：2023-03-14

申请号：CN202180044620.3

申请日：2021-11-09

Applicant: 朗姆研究公司

Inventor： 郭健 ,  萨珊·罗汉姆 ,  卡皮尔·索拉尼 ,  金晓强 ,  米卡尔·达内克 ,  布莱恩·约瑟夫·威廉姆斯 ,  纳坦·所罗门

IPC: H01L21/67 ,  G05B23/02

Abstract: 本文中的各种实施方式涉及用于半导体制造设备的预测性维护系统和方法。在一些实施方式中，预测性维护系统包括处理器，该处理器被配置成：接收指示对应于进行制造工艺的制造设备的历史操作条件和历史制造信息的离线数据；通过使用将离线数据作为输入的训练模型来计算预测设备健康状态信息；接收指示制造设备的当前操作条件的实时数据；通过使用将实时数据作为输入的训练模型来计算估计设备健康状态信息；通过结合预测设备健康状态信息和估计设备健康状态信息来计算调整设备健康状态信息；以及呈现包括制造设备的至少一个部件的预期剩余使用寿命(RUL)的调整设备健康状态信息。

公开(公告)号：CN115702486A

公开(公告)日：2023-02-14

申请号：CN202180043943.0

申请日：2021-10-22

Applicant: 朗姆研究公司

Inventor： 卡尔·弗雷德里克·利瑟 ,  布兰得利·约翰·贝克 ,  阿伦·克沙瓦穆尔蒂 ,  萨珊·罗汉姆

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/687 ,  C23C16/455 ,  C23C16/458 ,  H01J37/32

Abstract: 一种吹扫环，其包括被配置用于接收气体的供应端口。外部通道连接到供应端口。出口网络被配置用于接近吹扫环内径的气体出口流。吹扫环包括多个通道，其被配置用于使气体沿径向方向从外部通道流向出口网络。吹扫环包括多个过道，其被配置用于减少在外部通道和出口网络之间沿径向方向的气体流。多个通道和多个过道被配置用于提供穿过出口网络圆周的均匀压力的气体出口流。

公开(公告)号：CN115812207A

公开(公告)日：2023-03-17

申请号：CN202280005400.4

申请日：2022-01-10

Applicant: 朗姆研究公司

Inventor： 萨珊·罗汉姆 ,  米卡尔·达内克 ,  卡皮尔·索拉尼

IPC: G06N3/0464

Abstract: 本文中的各种实施例涉及用于产生半导体制造设备的数字孪生体的系统、方法和媒体。在一些实施例中，提供一种半导体制造设备的处理室的数字孪生体，包括一或多个非暂时性机器可读媒体，所述一或多个非暂时性机器可读媒体包括配置成实施以下的逻辑：处理室的第一位置的第一模型；和处理室的第二位置的第二模型，其中将第一模型耦合到第二模型，且其中第一模型和第二模型是为以下中的一个的模型类型中的每一个：1)AI/ML模型；2)HFS模型；和3)闭式解，且其中第一模型和第二模型各自表示为以下中的一个的一类物理现象：1)热特性；2)等离子体特性；3)流体动力学；4)结构特性；和5)化学反应。

公开(公告)号：CN115023798A

公开(公告)日：2022-09-06

申请号：CN202180011337.0

申请日：2021-01-26

Applicant: 朗姆研究公司

Inventor： 卡皮尔·优曼许·萨维拉尼 ,  迈克尔·达内克 ,  拉维·韦兰基 ,  桑杰·戈皮纳特 ,  大卫·G·科恩 ,  萨珊·罗汉姆 ,  萨拉瓦纳普里亚·西里拉曼 ,  本杰明·艾伦·哈斯凯尔 ,  李·J·布罗根

IPC: H01L21/66 ,  G05B15/02 ,  G05B17/02 ,  G06N20/00

Abstract: 提出了用于预测半导体制造设备操作的性能的方法、系统和计算机程序。一种方法包括用于获得机器学习(ML)模型的操作，每个模型都与预测半导体制造工具的操作的性能度量有关。此外，每个ML模型都利用为ML模型定义输入的特征。该方法还包括用于接收用于利用半导体制造工具制造产品的工艺定义的操作。使用一个或多个ML模型来估计半导体制造工具中使用的工艺定义的性能。此外，该方法包括在显示器上呈现显示产品的制造的性能的估计的结果。在某些方面，混合模型的使用通过利用由基于物理的模型提供的增强来增强数据驱动模型的能力来提高系统的预测准确性。

公开(公告)号：CN111033232A

公开(公告)日：2020-04-17

申请号：CN201880056746.0

申请日：2018-08-06

Applicant: 朗姆研究公司

Inventor： 克里斯蒂安·赛拉迪 ,  吕克·阿尔巴雷德 ,  亚辛·卡布兹 ,  爱德华·J·麦金纳尼 ,  萨珊·罗汉姆

IPC: G01N21/3504 ,  G01N21/05 ,  G01N33/00 ,  G02B5/08

Abstract: 提供了一种排放气体副产物的测量系统。气体腔室被构造成用于接收来自所述排放输出口的排放物。光源、光检测器和至少一个光学元件被定位成使得来自所述光源的光束在到达所述光检测器之前被导向至所述至少一个光学元件多次。至少一个加热器向所述至少一个光学元件提供热量。多个吹扫气体喷嘴与所述光学腔流体连接。高流量管线流体连接在吹扫气体源和所述多个吹扫气体喷嘴之间。低流量管线流体连接在所述吹扫气体源和所述多个吹扫气体喷嘴之间。至少一个流量控制器管理包含高流量及低流量的多个流率。