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公开(公告)号：CN114762079B
公开(公告)日：2025-02-28
申请号：CN202080083903.4
申请日：2020-12-02
Applicant: 朗姆研究公司
Inventor： 埃勒·Y·尤科 , 托马斯·利·弗雷德里克 , 卡尔·弗雷德里克·利瑟 , 保罗·康科拉
Abstract: 一种用于向设备提供信号的设备可以包括一个或多个射频信号发生器，以及将来自一个或多个RF信号发生器的信号耦合到制造室的电气小传输线。该装置还可以包括电抗电路，以将电气小传输线的阻抗从相对高阻抗灵敏度的区域转换到相对低阻抗灵敏度的区域。
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公开(公告)号：CN119487608A
公开(公告)日：2025-02-18
申请号：CN202380050871.1
申请日：2023-07-07
Applicant: 朗姆研究公司
Inventor： 大卫·弗伦奇 , 卡尔·弗雷德里克·利瑟
IPC: H01J37/32 , C23C16/50 , C23C16/455 , C23C16/52
Abstract: 一种系统包含室，其包含第一区域和第二区域。该室被配置成在该第二区域内产生和容纳等离子体。该系统包含位于该第一区域的传输线。该传输线包含多个区段，其中该多个区段中的单个区段包含一或多个L‑C滤波器，该些L‑C滤波器具有各自的截止频率。该传输线包含传输线输入。信号源被电耦合至该传输线输入以馈送输入信号至该传输线输入。该一或多个L‑C滤波器传递该输入信号的低频分量，但将该输入信号的高频分量局部化至该传输线的选择区段。
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公开(公告)号：CN119361402A
公开(公告)日：2025-01-24
申请号：CN202411263592.6
申请日：2020-02-07
Applicant: 朗姆研究公司
Inventor： 苏尼尔·卡普尔 , 卡尔·弗雷德里克·利瑟 , 诺亚·贝克 , 孟亮 , 崎山行则
IPC: H01J37/244 , H01J37/32
Abstract: 在特定实施方案中，可以检测和缓解异常等离子体事件，其可以包括在半导体处理室中形成电弧。在某些实施方案中，一种方法可以包含检测等离子体发射的光信号，将光信号转换为电压信号，并形成经调整的电压信号。响应于确定与经调整的电压信号相关联的变化超过阈值，可以调整耦合到室的RF信号的输出功率。这种调整可以缓解在室内发生的异常等离子体事件的形成。
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公开(公告)号：CN117043926A
公开(公告)日：2023-11-10
申请号：CN202280022379.9
申请日：2022-03-11
Applicant: 朗姆研究公司
Inventor： 卡尔·弗雷德里克·利瑟 , 理查德·布兰克 , 雅各布·L·海斯特
IPC: H01L21/683
Abstract: 一种系统包括基座和控制器。基座被布置在处理室中的喷头下方并包含至少三个电极以在处理期间将衬底夹至基座上。控制器被配置成通过感测该至少三个电极与喷头之间的阻抗来测量基座至喷头的间距以及基座与喷头之间的相对倾斜的幅值与方向中的至少一者。
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公开(公告)号：CN115720631A
公开(公告)日：2023-02-28
申请号：CN202180045807.5
申请日：2021-06-22
Applicant: 朗姆研究公司
Inventor： 阿施施·索拉卜 , 卡尔·弗雷德里克·利瑟
IPC: G01R19/252
Abstract: 一种装置可包含能测量耦合至装置的一或多个处理站的功率的一或多个测量传感器。所述装置可额外包含耦合至一或多个测量传感器中的对应一者的输出端口的一或多个模数转换器，所述模数转换器可以提供通过一或多个测量传感器所测量到的RF信号的数字表示。耦合至存储器的处理器可确定信号的数字表示与参考信号水平的相交点，并且可因此确定RF信号的频率内容及特性，其可使一或多个测量传感器的相位迟延失效。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114556542A
公开(公告)日：2022-05-27
申请号：CN202080070853.6
申请日：2020-10-05
Applicant: 朗姆研究公司
Inventor： 文森特·布克哈特 , 卡尔·弗雷德里克·利瑟
IPC: H01L21/683 , H01J37/32 , H01L21/67
Abstract: 一种衬底处理系统包含衬底支撑件和电源电路。所述衬底支撑件被配置成支撑衬底，其中所述衬底支撑件包含一或更多个加热元件。所述电源电路包含：直流‑交流转换器，其被配置成将第一直流电压转换为第一交流电压，其中所述直流‑交流转换器包含至少一个开关；以及隔离电路，其包含耦合电感器或变压器中的一者。所述耦合电感器或所述变压器中的所述一者被配置成将所述第一交流电压转换为第二交流电压，并且将所述一或更多个加热元件与接地隔离。所述电源电路被配置成基于所述第二交流电压而提供输出电压至所述一或更多个加热元件。
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公开(公告)号：CN114514602A
公开(公告)日：2022-05-17
申请号：CN202080067825.9
申请日：2020-09-24
Applicant: 朗姆研究公司
Inventor： 阿施施·索拉卜 , 卡尔·弗雷德里克·利瑟 , 陈欣怡 , 穆克什·达米·辛格 , 特洛伊·戈姆 , 蒂莫西·斯科特·托马斯 , 柯蒂斯·W·贝利
IPC: H01L21/687 , H01L21/683 , H01L21/67 , H01J37/32 , C23C16/458 , C23C16/50
Abstract: 一种用于衬底支撑件的台板的热屏包括本体和吸收‑反射‑传输区域。所述吸收‑反射‑传输区域与所述本体接触，并被配置成进行下列至少一者：影响或调整介于远端基准表面与所述台板之间的热流图案的至少一部分。所述吸收‑反射‑传输区域包括可调式方面以调整所述热流图案的所述至少一部分。
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公开(公告)号：CN113994460A
公开(公告)日：2022-01-28
申请号：CN202080043581.0
申请日：2020-04-14
Applicant: 朗姆研究公司
Inventor： 约翰·福尔登·斯顿夫 , 达米安·隆 , 中岛诺曼 , 卡尔·弗雷德里克·利瑟
Abstract: 在一实施方案中，所公开的设备是用于气体输送箱中的至少一个气体基元基板。所述至少一个气体基元基板中的每一者具有至少一个位置，气体输送部件将安装在所述至少一个位置上。所述至少一个位置具有形成于所述气体基元基板的主体中的至少一个气体输送部件入口端口和气体输送部件出口端口。包含气流路径的至少一对第一镗孔分别形成在所述气体输送部件的位置的上游侧和下游侧。公开了其他设备和系统。
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公开(公告)号：CN113474483A
公开(公告)日：2021-10-01
申请号：CN202080013381.0
申请日：2020-01-28
Applicant: 朗姆研究公司
Inventor： 陈利 , 崎山行则 , 卡尔·弗雷德里克·利瑟
Abstract: 一种等离子体工具，在该等离子体工具中在处理室内用于处理衬底的两种或者更多种等离子体的生成在时间上、空间上或两者上调制。两种等离子体的调制用于在衬底上形成类金刚石碳(DLC)层。一等离子体用于形成非晶碳层，而第二等离子体用于经由离子轰击而将非晶碳层转变为DLC。
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公开(公告)号：CN119343769A
公开(公告)日：2025-01-21
申请号：CN202380045609.8
申请日：2023-05-19
Applicant: 朗姆研究公司
Inventor： 卡尔·弗雷德里克·利瑟 , 埃米尔·查尔斯·德拉佩 , 吴怡德 , 傅高盛
IPC: H01L21/687
Abstract: 一种衬底处理室的侧壁组件具有复合结构，其包含由第一材料组成并且包含向内的面向室表面的内层，由第二材料组成且包围内层的外层，以及设置于内层和外层之间且在内层周围的中间层，其中，中间层将外层热绝缘于内层。
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