半导体元件
    1.
    发明公开
    半导体元件 审中-公开

    公开(公告)号:CN119230671A

    公开(公告)日:2024-12-31

    申请号:CN202410856646.3

    申请日:2024-06-28

    Abstract: 本发明公开一种半导体元件,包括外延结构、第一接触电极以及第二接触电极。外延结构包括第一半导体结构、第二半导体结构以及活性区。第一半导体结构包含第一半导体接触层。第二半导体结构包含第二半导体接触层。活性区介于第一半导体结构与第二半导体结构之间。第一接触电极位于第二半导体接触层上且直接接触第一半导体接触层。第二接触电极位于第二半导体接触层上且直接接触第二半导体接触层。第一半导体接触层的导电型态为n型且包含第一III‑V族半导体材料。第二半导体接触层的导电型态为p型且包含第二III‑V族半导体材料,且第二III‑V族半导体材料为含铟的磷化物。

    发光装置
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN107134522A

    公开(公告)日:2017-09-05

    申请号:CN201710093378.4

    申请日:2017-02-21

    CPC classification number: H01L33/486 H01L33/507 H01L33/60

    Abstract: 本发明公开一种发光装置,包含一发光主体、一透明封装结构、一反射结构与一光学转换结构。发光主体包含一出光面、一位于出光面相对侧的底面、一侧表面、一第一电极、以及一第二电极,其中第一电极与第二电极位于底面上。透明封装结构覆盖出光面,以及侧表面。反射结构具有一环绕透明封装结构的第一反射结构、以及与第一反射结构直接接触的第二反射结构。光学转换结构形成于反射结构与透明封装结构之上。

    发光装置以及其制造方法

    公开(公告)号:CN106531870A

    公开(公告)日:2017-03-22

    申请号:CN201610650286.7

    申请日:2016-08-10

    Abstract: 本发明公开一种发光装置及其制作方法,该发光装置包含一发光元件以及一波长转换层,发光元件包含一顶面、一底面、多个侧面及一第一电性接点。顶面及底面通过多个侧面相互连结,二者间的距离设为第一高度(h1)。第一电性接点形成在底面上,波长转换层包含第一区域(A1)及第二区域(A2),第一区域位于发光元件的顶面上方,第二区域位于发光元件的侧面外围且围绕第一区域。第一区域具有第二高度(h2),第二区域具有第三高度(h3)及第二宽度(w2)。其中,第二高度(h2)大于该第二宽度(w2),第一高度(h1)与第二高度(h2)之合与第三高度(h3)的差值小于15微米。

    发光装置以及其制造方法

    公开(公告)号:CN111883635A

    公开(公告)日:2020-11-03

    申请号:CN202010708374.4

    申请日:2015-12-30

    Abstract: 本发明公开一种发光装置以及其制造方法。该发光装置包含一发光元件、一波长转换层以及一可透光元件。发光元件包含一顶面、一底面、多个侧面及一第一电性接点。其中,顶面及底面通过多个侧面相互连结,第一电性接点形成在底面上。波长转换层包含一透明粘合剂及多颗波长转换粒子且至少覆盖发光元件的顶面。可透光元件包含一出光面且位于波长转换层之上。波长转换粒子的D50不大于10微米,其中波长转换粒子的D50的定义为波长转换粒子的累积颗粒分布达到50%时所对应的粒径。此外,波长转换层的厚度(T)与波长转换粒子的D50的比值介于6至20。

    发光装置及其制造方法
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118712183A

    公开(公告)日:2024-09-27

    申请号:CN202410844085.5

    申请日:2019-01-23

    Abstract: 本发明公开一种发光装置及其制造方法,该发光装置包括第一发光元件、第二发光元件、反射围栏及显色层。第一发光元件发出一波峰不大于500nm的第一光线。第二发光元件发出一波峰不大于500nm的第二光线。反射围栏位于第一发光元件与第二发光元件之间,并环绕第一发光元件与第二发光元件。显色层包括第一区域及第二区域。第一区域覆盖第一发光元件并允许第一光线直接通过,且第二区域覆盖第二发光元件并将第二光线转换成一波峰大于500nm的第三光线。

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