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公开(公告)号：CN111378963A
公开(公告)日：2020-07-07
申请号：CN201911364646.7
申请日：2019-12-26
Applicant: 昭和电工株式会社
Abstract: 本发明为磁记录介质用铝合金基板、磁记录介质用基板、磁记录介质、硬盘驱动器。本发明提供一种刚性高且镀敷性优异的磁记录介质用铝合金基板。一种磁记录介质用铝合金基板，其分散有平均粒径在超过2μm且为20μm以下的范围内的粗大晶体颗粒，每0.042mm2面积的前述粗大晶体颗粒的平均个数为100个以上，且表面粗糙度Ra为0.2μm以下。
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公开(公告)号：CN107017010B
公开(公告)日：2019-05-03
申请号：CN201611150375.1
申请日：2016-12-14
Applicant: 昭和电工株式会社
Abstract: 一种磁记录介质用基底，包括：衬底，其由铝合金制成；以及膜，其由NiP基合金制成并设置在所述衬底上，其中，所述衬底的铝合金含有0.2质量％～6质量％范围内的Mg、3质量％～17质量％范围内的Si、0.05质量％～2质量％范围内的Zn、及0.001质量％～1质量％范围内的Sr，所述衬底的合金结构中的Si颗粒的平均粒径为2μm以下，所述膜具有10μm以上厚度，所述衬底具有53mm以上的外径、0.9mm以下的厚度、及79GPa以上的杨氏模量。
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公开(公告)号：CN107017010A
公开(公告)日：2017-08-04
申请号：CN201611150375.1
申请日：2016-12-14
Applicant: 昭和电工株式会社
CPC classification number: G11B5/7315 , C22C21/04 , C22C21/08 , G11B5/73 , G11B5/82
Abstract: 一种磁记录介质用基底，包括：衬底，其由铝合金制成；以及膜，其由NiP基合金制成并设置在所述衬底上，其中，所述衬底的铝合金含有0.2质量％～6质量％范围内的Mg、3质量％～17质量％范围内的Si、0.05质量％～2质量％范围内的Zn、及0.001质量％～1质量％范围内的Sr，所述衬底的合金结构中的Si颗粒的平均粒径为2μm以下，所述膜具有10μm以上厚度，所述衬底具有53mm以上的外径、0.9mm以下的厚度、及79GPa以上的杨氏模量。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111383667A
公开(公告)日：2020-07-07
申请号：CN201911353188.7
申请日：2019-12-25
Applicant: 昭和电工株式会社
Abstract: 本发明提供一种磁记录介质用基板、磁记录介质、硬盘驱动器，磁记录介质用基板为3.5英寸型HDD用尺寸，不容易由于物理性冲击而在表面形成隆起部，并且因颤振所致的位移的幅度小。该磁记录介质用基板具有Al合金基板以及设置于Al合金基板的表面的Ni合金镀覆覆膜，该基板是直径为95～98mm、在中央具有内径为19～26mm的孔的圆盘状，厚度为0.48～0.64mm，质量为9.0～15.0g；Al合金基板的杨氏模量E为74GPa以上、密度ρ为2.75g/cm3以下、杨氏模量E与密度ρ之比E/ρ为27以上；Ni合金镀覆覆膜的厚度处于4～7μm，将前端为正四棱锥状的金刚石压头相对于Ni合金镀覆覆膜的表面沿垂直方向以0.49N的试验力压入10秒而形成压痕后，在压痕的周围生成的隆起部的平均高度处于10～50nm。
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公开(公告)号：CN103137144A
公开(公告)日：2013-06-05
申请号：CN201210490621.3
申请日：2012-11-27
Applicant: 昭和电工株式会社
CPC classification number: G11B23/0028 , G01B7/28 , G01B11/30 , G06F15/00 , G11B5/7315 , G11B5/8404 , G11B23/0021 , Y10T428/2424 , Y10T428/24355
Abstract: 本发明提供表面平滑性优异的磁记录介质用基板、磁记录介质、磁记录介质用基板的制造方法及表面检查方法。是具有中心孔的圆盘状的磁记录介质用基板，其主面的表面粗糙度以周向的起伏空间周期(L)为10~1000μm的范围的均方根粗糙度(Rq)计为以下，并且对于表面粗糙度进行光谱分析，在以其空间周期(L)为横轴[μm]、以其功率谱密度(PSD)为纵轴(k为常数)的双对数图上示出的曲线S上，在将连接空间周期(L)为10μm的点A和空间周期(L)为1000μm的点B的线段Z的纵轴方向的分量设为H、且将曲线S的纵轴方向的分量相对于该线段Z变为最大时的位移设为ΔH时，用ΔH/H×100[%]表示的值(P)为15%以下。
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公开(公告)号：CN111383668A
公开(公告)日：2020-07-07
申请号：CN201911354363.4
申请日：2019-12-25
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: G11B5/73 , G11B5/733 , C22C19/03 , C21D9/00 , C23C18/50 , C22C21/02 , C22F1/043 , C22F1/04 , C22C21/00 , C22C21/08 , C22F1/047
Abstract: 本发明提供一种磁记录介质用基板、磁记录介质、硬盘驱动器，磁记录介质用基板为2.5英寸型硬盘驱动器用尺寸，不容易由于物理性冲击而在表面形成隆起部，并且因颤振所致的位移的幅度小。该磁记录介质用基板具有Al合金基板以及设置于Al合金基板的表面的Ni合金镀覆覆膜，该基板是直径为54～70mm、在中央具有内径为19～26mm的孔的圆盘状；Al合金基板的杨氏模量E为74GPa以上、密度ρ为2.75g/cm3以下、杨氏模量E与密度ρ之比E/ρ为27以上；Ni合金镀覆覆膜的厚度处于4～7μm，将前端为正四棱锥状的金刚石压头相对于Ni合金镀覆覆膜的表面沿垂直方向以0.49N的试验力压入10秒而形成压痕后，在压痕的周围生成的隆起部的平均高度处于10～50nm。
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公开(公告)号：CN103137144B
公开(公告)日：2015-09-30
申请号：CN201210490621.3
申请日：2012-11-27
Applicant: 昭和电工株式会社
CPC classification number: G11B23/0028 , G01B7/28 , G01B11/30 , G06F15/00 , G11B5/7315 , G11B5/8404 , G11B23/0021 , Y10T428/2424 , Y10T428/24355
Abstract: 本发明提供表面平滑性优异的磁记录介质用基板、磁记录介质、磁记录介质用基板的制造方法及表面检查方法。是具有中心孔的圆盘状的磁记录介质用基板，其主面的表面粗糙度以周向的起伏空间周期(L)为10~1000μm的范围的均方根粗糙度(Rq)计为以下，并且对于表面粗糙度进行光谱分析，在以其空间周期(L)为横轴[μm]、以其功率谱密度(PSD)为纵轴(k为常数)的双对数图上示出的曲线S上，在将连接空间周期(L)为10μm的点A和空间周期(L)为1000μm的点B的线段Z的纵轴方向的分量设为H、且将曲线S的纵轴方向的分量相对于该线段Z变为最大时的位移设为ΔH时，用ΔH/H×100[%]表示的值(P)为15%以下。
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