公开(公告)号：CN103137144B

公开(公告)日：2015-09-30

申请号：CN201210490621.3

申请日：2012-11-27

Applicant: 昭和电工株式会社

Inventor： 幸松孝治 ,  松村有希久 ,  末冈义人 ,  岸本纯一

IPC: G11B5/84 ,  G11B5/73

CPC classification number: G11B23/0028 ,  G01B7/28 ,  G01B11/30 ,  G06F15/00 ,  G11B5/7315 ,  G11B5/8404 ,  G11B23/0021 ,  Y10T428/2424 ,  Y10T428/24355

Abstract: 本发明提供表面平滑性优异的磁记录介质用基板、磁记录介质、磁记录介质用基板的制造方法及表面检查方法。是具有中心孔的圆盘状的磁记录介质用基板，其主面的表面粗糙度以周向的起伏空间周期(L)为10~1000μm的范围的均方根粗糙度(Rq)计为以下，并且对于表面粗糙度进行光谱分析，在以其空间周期(L)为横轴[μm]、以其功率谱密度(PSD)为纵轴(k为常数)的双对数图上示出的曲线S上，在将连接空间周期(L)为10μm的点A和空间周期(L)为1000μm的点B的线段Z的纵轴方向的分量设为H、且将曲线S的纵轴方向的分量相对于该线段Z变为最大时的位移设为ΔH时，用ΔH/H×100[%]表示的值(P)为15%以下。

公开(公告)号：CN103137144A

公开(公告)日：2013-06-05

申请号：CN201210490621.3

申请日：2012-11-27

Applicant: 昭和电工株式会社

Inventor： 幸松孝治 ,  松村有希久 ,  末冈义人 ,  岸本纯一

IPC: G11B5/84 ,  G11B5/73

CPC classification number: G11B23/0028 ,  G01B7/28 ,  G01B11/30 ,  G06F15/00 ,  G11B5/7315 ,  G11B5/8404 ,  G11B23/0021 ,  Y10T428/2424 ,  Y10T428/24355

Abstract: 本发明提供表面平滑性优异的磁记录介质用基板、磁记录介质、磁记录介质用基板的制造方法及表面检查方法。是具有中心孔的圆盘状的磁记录介质用基板，其主面的表面粗糙度以周向的起伏空间周期(L)为10~1000μm的范围的均方根粗糙度(Rq)计为以下，并且对于表面粗糙度进行光谱分析，在以其空间周期(L)为横轴[μm]、以其功率谱密度(PSD)为纵轴(k为常数)的双对数图上示出的曲线S上，在将连接空间周期(L)为10μm的点A和空间周期(L)为1000μm的点B的线段Z的纵轴方向的分量设为H、且将曲线S的纵轴方向的分量相对于该线段Z变为最大时的位移设为ΔH时，用ΔH/H×100[%]表示的值(P)为15%以下。