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公开(公告)号：CN111378963A
公开(公告)日：2020-07-07
申请号：CN201911364646.7
申请日：2019-12-26
Applicant: 昭和电工株式会社
Abstract: 本发明为磁记录介质用铝合金基板、磁记录介质用基板、磁记录介质、硬盘驱动器。本发明提供一种刚性高且镀敷性优异的磁记录介质用铝合金基板。一种磁记录介质用铝合金基板，其分散有平均粒径在超过2μm且为20μm以下的范围内的粗大晶体颗粒，每0.042mm2面积的前述粗大晶体颗粒的平均个数为100个以上，且表面粗糙度Ra为0.2μm以下。
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公开(公告)号：CN101331542A
公开(公告)日：2008-12-24
申请号：CN200680046929.1
申请日：2006-11-29
Applicant: 昭和电工株式会社
Abstract: 本发明涉及一种磁盘基底，其中通过使用用于通用盘的干涉仪在5.0mm的测量波长下测得的在表面上的波纹的振幅Wa在0.1nm至0.5nm的范围内，通过使用用于三维表面结构分析的显微镜方法在30μm至200μm的测量波长下测得的在波纹上产生的微波纹的平均振幅Wb为0.3nm以下，并且通过将微波纹的平均振幅Wb除以波纹的振幅Wa计算得到的值为0.6以上。
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公开(公告)号：CN101010401A
公开(公告)日：2007-08-01
申请号：CN200580028933.0
申请日：2005-08-29
Applicant: 昭和电工株式会社
CPC classification number: B24B37/04 , C03C17/36 , C03C17/3634 , C03C17/3639 , C03C19/00 , C03C2218/152 , C03C2218/154 , C09K3/1463 , G11B5/8404
Abstract: 本发明提供了一种就待抛光表面的缺陷和光滑度而言具有优异效果的低成本抛光浆料。该抛光浆料包含氧化硅磨料和氧化铈磨料，其中基于全部抛光浆料，氧化硅磨料含量低于3质量％，氧化铈磨料含量低于1质量％。此外，本发明提供了一种用于信息记录介质的结晶玻璃基材的制造方法，其中该方法使用本发明的浆料。此外，本发明提供了一种信息记录介质的制造方法，包括在通过本方法制得的用于信息记录介质的结晶玻璃基材上形成记录层。
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公开(公告)号：CN101010168A
公开(公告)日：2007-08-01
申请号：CN200580029021.5
申请日：2005-08-26
Applicant: 昭和电工株式会社
CPC classification number: B24B37/042 , C03C19/00 , G11B5/8404
Abstract: 为了减小磁盘上的磁头漂浮高度，本发明提供一种磁盘基底的制造方法，能够有效地抛光玻璃基底，直到该玻璃基底的平坦度(TIR值)为5微米或更小。本发明涉及一种通过使用研磨盘片研磨的方法来抛光玻璃基底的磁盘基底制造方法，其特征在于，盘片精度被设定到180微米或更小，并且抛光一直进行到所述玻璃基底的平坦度(TIR值)变为5微米或更小为止。通过在这种磁盘基底上形成磁记录层来获得磁盘。
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公开(公告)号：CN101005924A
公开(公告)日：2007-07-25
申请号：CN200580028158.9
申请日：2005-08-26
Applicant: 昭和电工株式会社
CPC classification number: B24B37/042 , G11B5/8404
Abstract: 当使用抛光载体抛光玻璃基底时，本发明提供：一种制造磁盘基底的方法，无论抛光载体的形状、材料和硬度如何，都可应用该方法，并且该方法能够防止在玻璃基底的外端面上出现划痕；一种通过这种方法获得的磁盘玻璃基底，其具有卓越的特性；一种制造磁盘的方法，其特征在于，在这种磁盘玻璃基底上形成磁记录层；以及一种磁盘。当玻璃基底的玻璃包含碱金属时，本发明能够防止出现突起，所述突起可以由钠离子和锂离子在磁性膜、保护膜等上移动引起。当玻璃基底由抛光载体保持并被抛光时，使用抛光载体进行抛光，该抛光载体的内表面能够与玻璃基底的外端面接触并且涂敷有树脂。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100562927C
公开(公告)日：2009-11-25
申请号：CN200580028742.4
申请日：2005-08-26
Applicant: 昭和电工株式会社
CPC classification number: C03C17/28 , C03C19/00 , C03C23/0075 , G11B5/8404
Abstract: 本发明可以提供能够减少玻璃基材表面缺陷数的磁盘基材的制造方法。当使用所得磁盘基材制造磁盘时，产率以及可靠性可以得到改善。在磁盘基材表面抛光后对其进行洗涤时，在经抛光的玻璃基材表面保持润湿状态的同时，将玻璃基材浸到洗涤溶液中。玻璃基材表面的润湿状态包括浸入可以包含表面活性剂的水中的状态和其中液膜形成在几乎整个表面上的状态。
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公开(公告)号：CN101010735A
公开(公告)日：2007-08-01
申请号：CN200580028742.4
申请日：2005-08-26
Applicant: 昭和电工株式会社
CPC classification number: C03C17/28 , C03C19/00 , C03C23/0075 , G11B5/8404
Abstract: 本发明可以提供能够减少玻璃基材表面缺陷数的磁盘基材的制造方法。当使用所得磁盘基材制造磁盘时，产率以及可靠性可以得到改善。在磁盘基材表面抛光后对其进行洗涤时，在经抛光的玻璃基材表面保持润湿状态的同时，将玻璃基材浸到洗涤溶液中。玻璃基材表面的润湿状态包括浸入可以包含表面活性剂的水中的状态和其中液膜形成在几乎整个表面上的状态。
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公开(公告)号：CN1993298A
公开(公告)日：2007-07-04
申请号：CN200580025834.7
申请日：2005-08-04
Applicant: 昭和电工株式会社
CPC classification number: C03C19/00 , G11B5/8404
Abstract: 本发明涉及一种制造用于磁记录介质的玻璃基底的方法，包括用磨料粒抛光玻璃基底，然后用0.02－0.3％的氢氟酸水溶液洗涤该基底；还涉及一种通过该方法制造的用于磁记录介质的玻璃基底。制造了一种用于磁记录介质的抛光玻璃基底，由此在抛光该玻璃基底后的洗涤过程中可以使基底的基底表面缺陷和全波纹的出现最小化，并由此可以在后续的纹理化步骤中以均匀的方式形成纹理，而不会在基底间造成差异。
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公开(公告)号：CN111383668A
公开(公告)日：2020-07-07
申请号：CN201911354363.4
申请日：2019-12-25
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: G11B5/73 , G11B5/733 , C22C19/03 , C21D9/00 , C23C18/50 , C22C21/02 , C22F1/043 , C22F1/04 , C22C21/00 , C22C21/08 , C22F1/047
Abstract: 本发明提供一种磁记录介质用基板、磁记录介质、硬盘驱动器，磁记录介质用基板为2.5英寸型硬盘驱动器用尺寸，不容易由于物理性冲击而在表面形成隆起部，并且因颤振所致的位移的幅度小。该磁记录介质用基板具有Al合金基板以及设置于Al合金基板的表面的Ni合金镀覆覆膜，该基板是直径为54～70mm、在中央具有内径为19～26mm的孔的圆盘状；Al合金基板的杨氏模量E为74GPa以上、密度ρ为2.75g/cm3以下、杨氏模量E与密度ρ之比E/ρ为27以上；Ni合金镀覆覆膜的厚度处于4～7μm，将前端为正四棱锥状的金刚石压头相对于Ni合金镀覆覆膜的表面沿垂直方向以0.49N的试验力压入10秒而形成压痕后，在压痕的周围生成的隆起部的平均高度处于10～50nm。
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公开(公告)号：CN101010401B
公开(公告)日：2011-12-14
申请号：CN200580028933.0
申请日：2005-08-29
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: G11B5/73
CPC classification number: B24B37/04 , C03C17/36 , C03C17/3634 , C03C17/3639 , C03C19/00 , C03C2218/152 , C03C2218/154 , C09K3/1463 , G11B5/8404
Abstract: 本发明提供了一种就待抛光表面的缺陷和光滑度而言具有优异效果的低成本抛光浆料。该抛光浆料包含氧化硅磨料和氧化铈磨料，其中基于全部抛光浆料，氧化硅磨料含量低于3质量％，氧化铈磨料含量低于1质量％。此外，本发明提供了一种用于信息记录介质的结晶玻璃基材的制造方法，其中该方法使用本发明的浆料。此外，本发明提供了一种信息记录介质的制造方法，包括在通过本方法制得的用于信息记录介质的结晶玻璃基材上形成记录层。
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