公开(公告)号：CN1832973A

公开(公告)日：2006-09-13

申请号：CN200480022886.4

申请日：2004-08-19

Applicant: 旭硝子株式会社

Inventor： 武部洋子 ,  江田昌隆 ,  横小路修

IPC: C08F236/20 ,  C08L47/00 ,  G03F7/039 ,  G03F7/033

Abstract: 本发明提供具有官能团、在宽广的波长区域中具有高透明性的含氟聚合物和由该含氟聚合物构成的抗蚀用组合物。具有来源于下述式(1)所表示的含氟二烯环化聚合的单体单元的单元以及来源于其它的环化聚合的单体单元的单元或来源于丙烯酸类单体聚合的单体单元的单元的含氟共聚体，以及将它们作为基本聚合物的抗蚀组合物。CF2＝CFCH2CH(CH2C(CF3)2(OR1)CH2CH＝CH2(1)，式中，R1为氢原子、可以具有醚性氧原子的碳原子数小于等于20的烷基、碳原子数小于等于6的烷氧羰基或者CH2R2，R2为碳原子数小于等于6的烷氧羰基。

公开(公告)号：CN102027570B

公开(公告)日：2013-04-24

申请号：CN200980114703.4

申请日：2009-02-20

Applicant: 瑞萨电子株式会社 ,  旭硝子株式会社

Inventor： 石桥健夫 ,  寺井护 ,  萩原琢也 ,  横小路修 ,  武部洋子

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/09

CPC classification number: G03F7/16 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041

Abstract: 本发明提供可抑制由浸渍液所导致的被曝光基板背面的污染并且可提高被加工膜与其正上方的有机膜的附着性以抑制膜剥离且操作性优良的被曝光基板用防水剂组合物、抗蚀图形的形成方法及通过该形成方法制造的电子器件、被曝光基板的防水处理方法、被曝光基板用防水剂套装以及使用该套装的被曝光基板的防水处理方法。本发明使用被曝光基板用防水剂组合物，该组合物至少包含以下述通式(1)表示的有机硅化合物和溶剂。式中，R1为碳原子数14～30的1价有机基团，R2、R3、R4分别独立地为碳原子数1～10的1价有机基团或水解性基团，R2、R3、R4中的至少1个为水解性基团。

公开(公告)号：CN102027570A

公开(公告)日：2011-04-20

申请号：CN200980114703.4

申请日：2009-02-20

Applicant: 瑞萨电子株式会社 ,  旭硝子株式会社

Inventor： 石桥健夫 ,  寺井护 ,  萩原琢也 ,  横小路修 ,  武部洋子

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/09

CPC classification number: G03F7/16 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041

Abstract: 本发明提供可抑制由浸渍液所导致的被曝光基板背面的污染并且可提高被加工膜与其正上方的有机膜的附着性以抑制膜剥离且操作性优良的被曝光基板用防水剂组合物、抗蚀图形的形成方法及通过该形成方法制造的电子器件、被曝光基板的防水处理方法、被曝光基板用防水剂套装以及使用该套装的被曝光基板的防水处理方法。本发明使用被曝光基板用防水剂组合物，该组合物至少包含以下述通式(1)表示的有机硅化合物和溶剂。式中，R1为碳原子数14～30的1价有机基团，R2、R3、R4分别独立地为碳原子数1～10的1价有机基团或水解性基团，R2、R3、R4中的至少1个为水解性基团。

公开(公告)号：CN101296890A

公开(公告)日：2008-10-29

申请号：CN200680040042.1

申请日：2006-10-25

Applicant: 旭硝子株式会社

Inventor： 王舒钟 ,  村田浩一 ,  大春一也 ,  森泽义富 ,  横小路修 ,  代田直子

IPC: C07C17/363 ,  C07C23/38 ,  C07C29/38 ,  C07C31/44 ,  C08F18/20

Abstract: 本发明提供新的氟代金刚烷衍生物、新的聚合性的氟代金刚烷衍生物、新的含氟聚合物及制备方法。提供下述化合物(3)、下述化合物(4)、使化合物(4)聚合而得的聚合物及其制备方法，其中，Q表示－CHF－或－CF2－(6个Q可以相同也可以不同)，Z表示－H、－F或－CH2OH(3个Z可以相同也可以不同)，W表示－H或碳数1～10的烃基，R表示－H、－F、－CH3或－CF3，J表示－H、－F、－CHWOH或－CHWOCOCR＝CH2(3个J可以相同也可以不同)。

公开(公告)号：CN102549714A

公开(公告)日：2012-07-04

申请号：CN201080038908.1

申请日：2010-09-01

Applicant: 旭硝子株式会社

Inventor： 武部洋子 ,  横小路修

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F9/7096 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/7095 ,  G03F7/70958 ,  Y10T428/3154

Abstract: 本发明涉及浸液曝光装置用涂布材料组合物，用于在照射曝光光束并经由液体将基材曝光的浸液曝光装置的构件表面形成斥液层，其含有在主链上具有重复单元的含氟聚合物，所述重复单元具有在环结构内包含彼此不相邻的2个或3个醚性氧原子的含氟脂肪族环结构。

公开(公告)号：CN101646696B

公开(公告)日：2012-07-04

申请号：CN200880010074.6

申请日：2008-02-20

Applicant: 旭硝子株式会社

Inventor： 村田浩一 ,  代田直子 ,  横小路修 ,  武部洋子

IPC: C08F36/20 ,  C07C51/09 ,  C07C51/38 ,  C07C57/52 ,  C07C67/04 ,  C07C67/343 ,  C07C69/65

CPC classification number: C07C57/32 ,  C07C69/65 ,  C07C2601/08 ,  C07C2601/14 ,  C07C2602/42 ,  C07C2603/74 ,  C07D307/20 ,  C08F14/18 ,  C08F36/20 ,  C08F214/18 ,  Y10S430/146 ,  C08F2/00

Abstract: 本发明提供新的含氟化合物、含氟聚合物及其制造方法。式：CF2＝CFCF2C(X)(C(O)OZ)(CH2)nCR＝CHR表示的化合物(其中，X为氢原子、氰基或式-C(O)OZ表示的基团，Z为氢原子或碳数1～20的1价有机基团，n为0、1或2，R为氢原子或碳数1～20的1价有机基团、其制造方法以及使该化合物聚合而得的含氟聚合物。

公开(公告)号：CN101421673A

公开(公告)日：2009-04-29

申请号：CN200780013266.8

申请日：2007-03-30

Applicant: 旭硝子株式会社

Inventor： 武部洋子 ,  王舒钟 ,  横小路修 ,  代田直子 ,  松川泰久 ,  白川大祐

IPC: G03F7/11 ,  C08F20/24 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明提供浸没式光刻用抗蚀剂保护膜材料。包含聚合物(F)的碱溶性的浸没式光刻用抗蚀剂保护膜材料，所述聚合物(F)包含通过具有含氟桥环结构的聚合性化合物(fm)的聚合而形成的重复单元(FU)。例如，重复单元(FU)为通过选自下述化合物(f1)～(f4)的化合物(f)的聚合而形成的重复单元；RF表示H、F、碳数1～3的烷基或碳数1～3的氟代烷基，XF表示F、OH或CH2OH。

公开(公告)号：CN1993393A

公开(公告)日：2007-07-04

申请号：CN200580025573.9

申请日：2005-07-22

Applicant: 旭硝子株式会社

Inventor： 武部洋子 ,  江田昌隆 ,  横小路修 ,  佐佐木崇

IPC: C08F36/20 ,  C07C33/42 ,  C07C43/17 ,  G03F7/039 ,  G03F7/11

CPC classification number: Y02P20/582

Abstract: 本发明提供具有官能团、在较宽的波长范围内具有高透明度的含氟聚合物及由该含氟聚合物形成的抗蚀用组合物及抗蚀剂保护膜组合物。具有下述式(1)表示的含氟二烯环化聚合而得的单体单元的含氟聚合物，CF2＝CFCF2C(CF3)(OR1)－(CH2)nCR2＝CHR3…(1)，式(1)中，R1表示氢原子、碳数20以下的烷基或(CH2)aCOOR4，其中a为0或1，R4为氢原子或碳数20以下的烷基，R2及R3分别独立地表示氢原子或碳数12以下的烷基，n表示0或2，但n＝0时，R1、R2及R3中的至少一方为氢原子以外的基团。

公开(公告)号：CN1711291A

公开(公告)日：2005-12-21

申请号：CN200380102894.5

申请日：2003-11-06

Applicant: 旭硝子株式会社

Inventor： 川口泰秀 ,  冈田伸治 ,  武部洋子 ,  横小路修 ,  金子勇

IPC: C08F36/20 ,  C08F8/48 ,  C08F16/12

CPC classification number: C08F214/18 ,  C08F36/20 ,  C08F2/60

Abstract: 本发明提供一种适合用作250nm以下的准分子激光的抗蚀材料用的原料聚合物的含氟聚合物。含氟聚合物具有环化聚合下式(3)所示的含氟二烯而成的单体单元，CF2＝CFCF2－C(CF3)(R5)－CH2CH＝CH2(3)，式中，R5表示被－CHR7－O－R8保护了的羟基或者具有该羟基的有机基；R8表示可具有取代基的环烷基等的环式饱和烃、具有该环式饱和烃的有机基。

公开(公告)号：CN1675268A

公开(公告)日：2005-09-28

申请号：CN03819683.2

申请日：2003-08-21

Applicant: 旭硝子株式会社

Inventor： 儿玉俊一 ,  金子勇 ,  横小路修 ,  冈田伸治 ,  武部洋子 ,  川口泰秀

IPC: C08F36/20

CPC classification number: C08F36/20 ,  C08F36/16 ,  C08F214/18 ,  C08F2/60

Abstract: 本发明提供了官能团浓度高、可获得充分的官能团特性、且Tg不会下降的含氟聚合物。该聚合物是具有通过式(1)（如图）表示的含官能团的含氟二烯的环化聚合而形成的单体单元的含氟聚合物。式中，R1～R4互相独立，表示氢原子、氟原子、碳原子数小于等于8的烷基或环状脂肪族烃基，其中至少1个为环状脂肪族烃基，烷基及环状脂肪族烃基中的氢原子可被氟原子、烷基或氟烷基取代；Q表示2价有机基团，该基团是具有通过酸可显现酸性基的嵌段化酸性基或可转变为该嵌段化酸性基的基团的有机基团。