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公开(公告)号：CN110397735B
公开(公告)日：2020-12-22
申请号：CN201910734171.X
申请日：2015-08-10
Applicant: 日本ITF株式会社 , 本田技研工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种活塞环及其制造方法，使用并不具有特别的功能的通常的成膜装置且无需精密的控制地制造并提供低摩擦性与耐磨耗性优异的活塞环。所述活塞环，其为在环状基材的表面上被覆有非晶碳膜的活塞环，并且非晶碳膜是使用CVD法而成膜，且自基材表面朝向膜表面交替形成有sp2键相对于sp3键的比率sp2/sp3比连续增加的增加区域以及sp2/sp3比连续减少的减少区域，并且在增加区域与减少区域的边界中sp2/sp3比连续地发生变化，由此以交替层叠的方式形成sp2/sp3比低的软质膜与sp2/sp3比高的硬质膜，且减少区域构成为与增加区域相比为相同数量或少1个区域。
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公开(公告)号：CN107923533B
公开(公告)日：2020-02-07
申请号：CN201580082326.6
申请日：2015-08-10
Applicant: 日本ITF株式会社 , 本田技研工业株式会社
IPC: F16J9/26
Abstract: 本发明提供一种活塞环及其制造方法，使用并不具有特别的功能的通常的成膜装置且无需精密的控制地制造并提供低摩擦性与耐磨耗性优异的活塞环。所述活塞环，其为在环状基材的表面上被覆有非晶碳膜的活塞环，并且非晶碳膜是使用CVD法而成膜，且自基材表面朝向膜表面交替形成有sp2键相对于sp3键的比率sp2/sp3比连续增加的增加区域以及sp2/sp3比连续减少的减少区域，并且在增加区域与减少区域的边界中sp2/sp3比连续地发生变化，由此以交替层叠的方式形成sp2/sp3比低的软质膜与sp2/sp3比高的硬质膜，且减少区域构成为与增加区域相比为相同数量或少1个区域。
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公开(公告)号：CN107923532B
公开(公告)日：2020-06-23
申请号：CN201580082324.7
申请日：2015-08-10
Applicant: 日本ITF株式会社 , 本田技研工业株式会社
IPC: F16J9/26
Abstract: 提供一种在外周滑动面与上下面上生产性良好地形成有以与各面的要求性能相适应的方式得到最优化的膜质的碳膜的活塞环，并且提供一种使用此种活塞环的高性能的发动机。一种活塞环，其为在外周滑动面及上下面上形成有碳膜的活塞环，且碳膜为层叠膜质不同的至少两种碳膜层而成的碳膜，且两种碳膜层的层厚比在外周滑动面与上下面中不同。一种活塞环，其中碳膜是通过层叠形成于活塞环本体侧的第1碳膜层以及形成于表面侧的第2碳膜层而形成，且上下面中的第2碳膜层的层厚比外周滑动面中的第2碳膜层的层厚薄，并且第2碳膜层的层厚相对于第1碳膜层的层厚的比率是外周滑动面中大于上下面中。
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公开(公告)号：CN110397735A
公开(公告)日：2019-11-01
申请号：CN201910734171.X
申请日：2015-08-10
Applicant: 日本ITF株式会社 , 本田技研工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种活塞环及其制造方法，使用并不具有特别的功能的通常的成膜装置且无需精密的控制地制造并提供低摩擦性与耐磨耗性优异的活塞环。所述活塞环，其为在环状基材的表面上被覆有非晶碳膜的活塞环，并且非晶碳膜是使用CVD法而成膜，且自基材表面朝向膜表面交替形成有sp2键相对于sp3键的比率sp2/sp3比连续增加的增加区域以及sp2/sp3比连续减少的减少区域，并且在增加区域与减少区域的边界中sp2/sp3比连续地发生变化，由此以交替层叠的方式形成sp2/sp3比低的软质膜与sp2/sp3比高的硬质膜，且减少区域构成为与增加区域相比为相同数量或少1个区域。
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公开(公告)号：CN107923533A
公开(公告)日：2018-04-17
申请号：CN201580082326.6
申请日：2015-08-10
Applicant: 日本ITF株式会社 , 本田技研工业株式会社
IPC: F16J9/26
Abstract: 使用并不具有特别的功能的通常的成膜装置且无需精密的控制地制造并提供低摩擦性与耐磨耗性优异的活塞环。一种活塞环，其为在环状基材的表面上被覆有非晶碳膜的活塞环，并且非晶碳膜是使用CVD法而成膜，且自基材表面朝向膜表面交替形成有sp2键相对于sp3键的比率sp2/sp3比连续增加的增加区域以及sp2/sp3比连续减少的减少区域，并且在增加区域与减少区域的边界中sp2/sp3比连续地发生变化，由此以交替层叠的方式形成sp2/sp3比低的软质膜与sp2/sp3比高的硬质膜，且减少区域构成为与增加区域相比为相同数量或少1个区域。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107923532A
公开(公告)日：2018-04-17
申请号：CN201580082324.7
申请日：2015-08-10
Applicant: 日本ITF株式会社 , 本田技研工业株式会社
IPC: F16J9/26
Abstract: 提供一种在外周滑动面与上下面上生产性良好地形成有以与各面的要求性能相适应的方式得到最优化的膜质的碳膜的活塞环，并且提供一种使用此种活塞环的高性能的发动机。一种活塞环，其为在外周滑动面及上下面上形成有碳膜的活塞环，且碳膜为层叠膜质不同的至少两种碳膜层而成的碳膜，且两种碳膜层的层厚比在外周滑动面与上下面中不同。一种活塞环，其中碳膜是通过层叠形成于活塞环本体侧的第1碳膜层以及形成于表面侧的第2碳膜层而形成，且上下面中的第2碳膜层的层厚比外周滑动面中的第2碳膜层的层厚薄，并且第2碳膜层的层厚相对于第1碳膜层的层厚的比率是外周滑动面中大于上下面中。
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公开(公告)号：CN110612361B
公开(公告)日：2022-01-25
申请号：CN201880030988.2
申请日：2018-05-09
Applicant: 日本ITF株式会社
Abstract: 本发明涉及一种硬质碳膜与其制造方法及滑动构件。所述硬质碳膜，其为形成滑动构件的滑动面的硬质碳膜，含有与碳原子键结的封端用原子，具有一部分自表面突出的多个隆起状形态部，并且多个隆起状形态部的周围分别由封端用原子封端。一种硬质碳膜的制造方法，其为使用将石墨作为蒸发源的电弧蒸镀法在滑动构件的滑动面成膜硬质碳膜的硬质碳膜的制造方法，导入含有与碳原子键结的封端用原子的气体，并且一边利用封端用原子与碳原子键结使多个隆起状形态部周围进行封端，一边使多个隆起状形态部在硬质碳膜的表面成长。
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公开(公告)号：CN108368602B
公开(公告)日：2020-08-25
申请号：CN201680073541.4
申请日：2016-12-16
Abstract: 提供一种技术，其为PVD法，却可将耐久性优异的厚膜的硬质碳膜成膜，并且可使经成膜的硬质碳膜的耐碎片性与耐磨损性并存，并且可改善低摩擦性与耐剥离性。一种被覆膜，其为被覆于基材的表面上的被覆膜，且在利用明视场TEM图像观察截面时，在厚度方向上交替层叠有相对地以白显示的白色的硬质碳层、与以黑显示的黑色的硬质碳层且具有超过1μm且50μm以下的总膜厚，并且白色的硬质碳层具有在厚度方向上呈扇状成长的区域。一种被覆膜的制造方法，其为使用PVD法在基材的表面上将所述被覆膜成膜的制造方法。一种PVD装置，其为所述的被覆膜的制造方法中使用的电弧式物理气相沉积装置。一种活塞环，其至少在外周滑动面上具有所述的被覆膜。
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公开(公告)号：CN110770362B
公开(公告)日：2022-03-22
申请号：CN201880040572.9
申请日：2018-06-15
Abstract: 本发明的课题是提供具有示出一定且稳定的抗削性和耐磨损性、并且耐剥离性(密合性)优异的包覆膜的滑动构件、及该包覆膜。其解决方法是滑动构件(10)，其在基材(11)的滑动面(16)具有由硬质碳层形成的包覆膜(1)，上述包覆膜(1)如下所述地构成：通过明视野TEM图像观察包覆膜(1)的剖面时，包含相对地由黑色表示的黑色硬质碳层(B)和相对地由白色表示的白色硬质碳层(W)的重复单元在厚度方向上层叠，且具有1μm～50μm的范围内的厚度，包覆膜(1)具有设置于基材侧的倾斜区域(2)和设置于滑动构件(10)的表面侧的均质区域(3)，在上述倾斜区域(2)，重复单元中的白色硬质碳层(W)的厚度在厚度方向上逐渐变大，在上述均质区域(3)，重复单元中的白色硬质碳层(W)的厚度在厚度方向上相同或大致相同，从而解决了上述问题。
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公开(公告)号：CN108368602A
公开(公告)日：2018-08-03
申请号：CN201680073541.4
申请日：2016-12-16
Abstract: 提供一种技术，其为PVD法，却可将耐久性优异的厚膜的硬质碳膜成膜，并且可使经成膜的硬质碳膜的耐碎片性与耐磨损性并存，并且可改善低摩擦性与耐剥离性。一种被覆膜，其为被覆于基材的表面上的被覆膜，且在利用明视场TEM图像观察截面时，在厚度方向上交替层叠有相对地以白显示的白色的硬质碳层、与以黑显示的黑色的硬质碳层且具有超过1μm且50μm以下的总膜厚，并且白色的硬质单素层具有在厚度方向上呈扇状成长的区域。一种被覆膜的制造方法，其为使用PVD法在基材的表面上将被覆膜成膜的被覆膜的制造方法，且以基材在超过50℃且200℃以下的低温区域与超过200℃且300℃以下的高温区域之间交替重复进行升温与降温的方式控制对基材的成膜条件，并且使基材自转和/或公转。
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