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公开(公告)号：CN111868583B
公开(公告)日：2022-05-31
申请号：CN201980019761.2
申请日：2019-03-18
Applicant: 日本瑞翁株式会社
IPC: G02B5/30 , B29C48/305 , B29C55/04 , C08F297/04 , B29K25/00 , B29L7/00 , B29L11/00
Abstract: 本发明提供一种相位差膜，其由包含共聚物P的树脂C形成，上述共聚物P包含聚合单元A和聚合单元B，该相位差膜包含显现结构性双折射的柱状(Cylinder)的相分离结构，上述相分离结构包含以上述聚合单元A作为主要成分的相(A)和以上述聚合单元B作为主要成分的相(B)，该相位差膜满足下述条件(1)或(2)。条件(1)：D(A)＞D(B)、且f(B)＞0.5、且面内方向中提供最大的折射率的方向与上述相分离结构中的柱的取向方向平行。条件(2)：D(A)＞D(B)、且f(A)＞0.5、且面内方向中提供最大的折射率的方向与上述相分离结构中的柱的取向方向正交。在此f(A)、f(B)、D(A)及D(B)如说明书的定义所述。
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公开(公告)号：CN112313257A
公开(公告)日：2021-02-02
申请号：CN201980040303.7
申请日：2019-06-10
Applicant: 日本瑞翁株式会社
Inventor： 安祐辅
IPC: C08F297/04 , C08F8/04
Abstract: 本发明提供一种可以成为嵌段共聚物氢化物前体的嵌段共聚物。嵌段共聚物包含聚合物嵌段[A]和[B]。聚合物嵌段[A]包含至少具有2个选自芳香族烃单环和芳香族杂单环中的单环的多环芳香族乙烯基单体单元。嵌段共聚物中的1,2‑乙烯基键的含有比例与1,4‑乙烯基键的含有比例的质量比为5/95以上且90/10以下。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111971345A
公开(公告)日：2020-11-20
申请号：CN201980025377.3
申请日：2019-04-18
Applicant: 日本瑞翁株式会社
Inventor： 安祐辅
IPC: C08L101/02 , C08F8/30 , C08K5/5475
Abstract: 本发明使用包含含烯属双键聚合物、下述式(1)所表示的含氰基化合物及氢氰化催化剂的聚合物组合物来制造含氰基聚合物。R‑C2H4‑CN···(1)[式(1)中，R表示氢原子、能够具有取代基的烷基、能够具有取代基的芳香环基、氰基、羟基或环烷基]。
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公开(公告)号：CN111886524B
公开(公告)日：2022-07-12
申请号：CN201980019560.2
申请日：2019-03-18
Applicant: 日本瑞翁株式会社
IPC: G02B5/30 , B29C48/305 , B29C55/04 , C08F297/04 , B29K25/00 , B29L7/00 , B29L11/00
Abstract: 本发明提供了一种相位差膜，其由包含共聚物P的树脂C形成，上述共聚物P包含聚合单元A和聚合单元B，上述相位差膜包含显现结构性双折射的层状相分离结构，上述相分离结构包含以上述聚合单元A为主成分的相(A)和以上述聚合单元B为主成分的相(B)，满足式(1A)∶f(A)＞0.5和式(2)∶D(A)＞D(B)，或者满足式(1B)∶f(B)＞0.5和式(2)。f(A)表示上述共聚物P中的上述聚合单元A的总重量比率，f(B)表示上述共聚物P中的上述聚合单元B的总重量比率，D(A)＝ReA(450)/ReA(550)，D(B)＝ReB(450)/ReB(550)，ReA(450)、ReA(550)、ReB(450)及ReB(550)的定义如说明书所述。
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公开(公告)号：CN112424240A
公开(公告)日：2021-02-26
申请号：CN201980046951.3
申请日：2019-06-25
Applicant: 日本瑞翁株式会社
IPC: C08F12/32 , C07B63/00 , C07C7/12 , C07C15/58 , C08F12/00 , C08F24/00 , C08F26/00 , C08F236/10 , C08F257/00 , C08F297/02
Abstract: 本发明提供了一种单体组合物的纯化方法，上述单体组合物包含至少具有2个选自芳香族烃单环和芳香族杂单环中的单环的多环芳香族乙烯基化合物。该纯化方法包括从单体组合物中至少除去硫的除杂工序。
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公开(公告)号：CN111886524A
公开(公告)日：2020-11-03
申请号：CN201980019560.2
申请日：2019-03-18
Applicant: 日本瑞翁株式会社
IPC: G02B5/30 , B29C48/305 , B29C55/04 , C08F297/04 , B29K25/00 , B29L7/00 , B29L11/00
Abstract: 本发明提供了一种相位差膜，其由包含共聚物P的树脂C形成，上述共聚物P包含聚合单元A和聚合单元B，上述相位差膜包含显现结构性双折射的层状相分离结构，上述相分离结构包含以上述聚合单元A为主成分的相(A)和以上述聚合单元B为主成分的相(B)，满足式(1A)∶f(A)＞0.5和式(2)∶D(A)＞D(B)，或者满足式(1B)∶f(B)＞0.5和式(2)。f(A)表示上述共聚物P中的上述聚合单元A的总重量比率，f(B)表示上述共聚物P中的上述聚合单元B的总重量比率，D(A)＝ReA(450)/ReA(550)，D(B)＝ReB(450)/ReB(550)，ReA(450)、ReA(550)、ReB(450)及ReB(550)的定义如说明书所述。
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公开(公告)号：CN111868583A
公开(公告)日：2020-10-30
申请号：CN201980019761.2
申请日：2019-03-18
Applicant: 日本瑞翁株式会社
IPC: G02B5/30 , B29C48/305 , B29C55/04 , C08F297/04 , B29K25/00 , B29L7/00 , B29L11/00
Abstract: 本发明提供一种相位差膜，其由包含共聚物P的树脂C形成，上述共聚物P包含聚合单元A和聚合单元B，该相位差膜包含显现结构性双折射的柱状(Cylinder)的相分离结构，上述相分离结构包含以上述聚合单元A作为主要成分的相(A)和以上述聚合单元B作为主要成分的相(B)，该相位差膜满足下述条件(1)或(2)。条件(1)：D(A)＞D(B)、且f(B)＞0.5、且面内方向中提供最大的折射率的方向与上述相分离结构中的柱的取向方向平行。条件(2)：D(A)＞D(B)、且f(A)＞0.5、且面内方向中提供最大的折射率的方向与上述相分离结构中的柱的取向方向正交。在此f(A)、f(B)、D(A)及D(B)如说明书的定义所述。
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