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公开(公告)号：CN118871606A
公开(公告)日：2024-10-29
申请号：CN202380025707.5
申请日：2023-02-27
Applicant: 日本发条株式会社
Abstract: 根据一实施方式，提供了一种热喷涂装置，所述热喷涂装置具备：热喷涂机，其包括用于将材料热喷涂到基材上的热喷涂炬；一个以上的周边装置，其与所述热喷涂机一起使用；以及集中控制面板，其能够对所述热喷涂机和所述一个以上的周边装置统一进行操作。根据一实施方式，提供了一种热喷涂控制方法，其由热喷涂装置执行，所述热喷涂装置包括热喷涂机、与所述热喷涂机一起使用的一个以上的周边装置以及集中控制面板，所述热喷涂控制方法包括由所述集中控制面板对所述热喷涂机和所述一个以上的周边装置统一进行控制。
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公开(公告)号：CN116075922A
公开(公告)日：2023-05-05
申请号：CN202180053924.6
申请日：2021-08-06
Applicant: 日本发条株式会社
IPC: H01L21/3065
Abstract: 载物台包括：基材，其具有包括从上部面凹陷的第一面和从侧面凹陷的第二面的台阶；以及绝缘膜，其包括设置在第一面上的多个第一层和设置在第二面上的多个第二层，在台阶处，第一层的第一端部和第二层的第二端部交替层叠。第一面与第二面可以通过隅部连接，在隅部上可以交替层叠第一端部和第二端部。第一面和第二面可以通过隅部连接，在隅部上可以形成由第一端部和第二端部交替层叠而成的绝缘膜。
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公开(公告)号：CN113454761B
公开(公告)日：2024-11-08
申请号：CN202080012364.5
申请日：2020-02-25
Applicant: 日本发条株式会社
IPC: H01L21/3065 , H01L21/683 , C23C4/129 , C23C4/134
Abstract: 载物台包括：基材，其具有第一面和与第一面相邻的第二面；以及绝缘膜，其包含具有扁平面的多个粒子，扁平面的一部分沿着第一面和第二面而设置，所述基材包括与第一面180度相反方向的第三面，绝缘膜的扁平面的一部分沿着第三面而设置，延长第一面的面与延长第二面的面设置为以90度相交。
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公开(公告)号：CN113169112B
公开(公告)日：2024-05-07
申请号：CN201980081476.3
申请日：2019-12-03
Applicant: 日本发条株式会社
IPC: H01L21/683
Abstract: 本发明的具有流路的板件，其包括：主体部，其形成有使惰性气体流通的流路；以及盖部，其覆盖主体部的流路的形成面，在主体部的流路设置有埋设在该流路的开口的埋设部件，埋设部件包括：埋设部，其固定在流路；以及流通部，其由埋设部保持，使惰性气体从主体部的内部向外部流通，在流通部设置有多个贯通孔，埋设部件与流路通过绝缘性的粘合剂固定，埋设部的外周的直径与包含全部贯通孔的圆中最小的圆的直径的比为1.2以上。
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公开(公告)号：CN112514540A
公开(公告)日：2021-03-16
申请号：CN201980047802.9
申请日：2019-07-17
Abstract: 本发明的等离子体处理装置用部件包括：铝基材；以及氧化被膜，其形成在铝基材上，具有多孔质结构，其中，氧化被膜包括：第一氧化被膜，其形成在铝基材的表面上，第二氧化被膜，其形成在第一氧化被膜的与铝基材侧相反的一侧，以及第三氧化被膜，其形成在第二氧化被膜的与第一氧化被膜侧相反的一侧，第一氧化被膜比第二氧化被膜及第三氧化被膜硬，在第一氧化被膜、第二氧化被膜和第三氧化被膜的各被膜中形成的孔被封孔。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN118369457A
公开(公告)日：2024-07-19
申请号：CN202280077351.5
申请日：2022-11-25
Applicant: 日本发条株式会社
IPC: C23C4/02 , H01L21/683
Abstract: 金属掩模具有具有与工件的表面接触的第一面、第一面的相反侧的第二面、和第一面与所述第二面之间的第三面的主体部以及从主体部连续并从第一面向外侧突出的檐部，檐部配置为远离工件的表面。金属掩模的主体部的第三面(侧面)也可以具有以形成檐部的方式设置的台阶部。另外，主体部所涉及的第三面(侧面)也可以具有从第一面侧向第二面侧扩展的倾斜面且檐部配置在倾斜面的上方的结构。
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公开(公告)号：CN118251757A
公开(公告)日：2024-06-25
申请号：CN202280075827.1
申请日：2022-12-02
Applicant: 日本发条株式会社
IPC: H01L21/683 , B32B9/04 , B32B15/04 , B32B15/20 , C23C14/50 , H01L21/205 , H01L21/31
Abstract: 本发明的层叠结构体是适用于半导体制造装置的层叠结构体，其包括含有铝并具有第一面的基体、配置于基体的第一面的含有氧化铝的中间层、以及配置在中间层上的含有金属原子的覆盖层。中间层具有在与第一面平行的截面形状中形成多个空隙的分隔壁。中间层具有覆盖基体的第一面的边界层。覆盖层配置在中间层中的多个空隙的一部分。多个空隙包含与边界层相邻并与覆盖层分离的空隙。
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公开(公告)号：CN112514540B
公开(公告)日：2024-06-07
申请号：CN201980047802.9
申请日：2019-07-17
Abstract: 本发明的等离子体处理装置用部件包括：铝基材；以及氧化被膜，其形成在铝基材上，具有多孔质结构，其中，氧化被膜包括：第一氧化被膜，其形成在铝基材的表面上，第二氧化被膜，其形成在第一氧化被膜的与铝基材侧相反的一侧，以及第三氧化被膜，其形成在第二氧化被膜的与第一氧化被膜侧相反的一侧，第一氧化被膜比第二氧化被膜及第三氧化被膜硬，在第一氧化被膜、第二氧化被膜和第三氧化被膜的各被膜中形成的孔被封孔。
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公开(公告)号：CN118974304A
公开(公告)日：2024-11-15
申请号：CN202380029407.4
申请日：2023-02-28
Applicant: 日本发条株式会社
IPC: C23C4/12
Abstract: 旋转装置包括：旋转台，其可装拆地支撑基材，所述基材具有规定温度的液体的流入口、流出口及用于连接所述流入口和所述流出口的流动路径；支撑所述旋转台的旋转支柱；用于旋转所述旋转支柱的旋转机构；以及向所述基材供给所述液体的液体供给部，其中，所述旋转台具有向所述基材供给所述液体的液体供给口以及从所述基材排出液体的液体排出口，所述旋转支柱在内部具有连接于所述液体供给口的第一配管以及连接于所述液体排出口的第二配管。另外，热喷涂装置包括上述旋转装置以及热喷涂枪。
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