-
公开(公告)号：CN114318282A
公开(公告)日：2022-04-12
申请号：CN202111093101.4
申请日：2021-09-17
Applicant: 日东电工株式会社
Abstract: 本发明提供适合于在卷对卷方式的工艺中确保配置于比等离子体处理室靠下游的位置的成膜室的稳定的低压状态的光学薄膜的制造方法和光学薄膜制造装置。本发明的制造方法是一边以卷对卷方式输送工件薄膜一边制造光学薄膜的方法，包含等离子体处理室中的工序和成膜室(第2成膜室)中的工序。等离子体处理室具有在输送方向上配置于比室内的等离子体源靠上游的位置的第1排气口。在等离子体处理工序中，经由第1排气口对等离子体处理室进行排气，并对工件薄膜进行等离子体处理。在成膜工序中，在经由成膜室的第2排气口对成膜室进行排气从而将成膜室内维持在比等离子体处理室内的压力低的压力的同时，利用干式覆膜法在工件薄膜上进行成膜。
-
公开(公告)号：CN119310664A
公开(公告)日：2025-01-14
申请号：CN202410926945.X
申请日：2024-07-11
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: G02B5/08 , G02F1/1335 , G02F1/1333
Abstract: 本发明涉及反射膜。本发明的反射膜(X)具备：基材膜(10)、基材膜(10)上的金属反射层(20)、金属反射层(20)上的无机黑化层(30)以及无机黑化层(30)上的金属氧化物层(40)。无机黑化层(30)为包含金属化合物和单质金属的无机黑化层。
-
公开(公告)号：CN119310663A
公开(公告)日：2025-01-14
申请号：CN202410926944.5
申请日：2024-07-11
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: G02B5/08 , G02F1/1333 , G02F1/1335
Abstract: 本发明涉及反射膜。本发明的反射膜(X)在厚度方向(H)上依次具备：基材膜(10)、金属反射层(20)、金属化合物层(30)以及固化树脂层(40)。
-
Patent Agency Ranking
-
公开(公告)号：CN119986879A
公开(公告)日：2025-05-13
申请号：CN202411590468.0
申请日：2024-11-08
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: G02B5/08 , G02F1/13357
Abstract: 本发明的反射膜(X)在厚度方向(H)上依次具备基材膜(10)、金属反射层(20)以及固化树脂层(50)。固化树脂层(50)的与金属反射层(20)相反侧的外表面(51)的水接触角为80°以下。外表面(51)相对于聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的动摩擦系数为0.23以下。
-
公开(公告)号：CN118489076A
公开(公告)日：2024-08-13
申请号：CN202280068410.2
申请日：2022-10-03
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: G02B5/30 , G02F1/1335 , G02F1/13363 , G02F1/1337 , G09F9/30
Abstract: 本发明提供能抑制金属的腐蚀的薄型的带相位差层的偏振片。本发明的实施方式的带相位差层的偏振片具有：偏振片，其包含偏振膜，该偏振膜包含碘，且具有相互对置的第一主面及第二主面；粘合剂层，其配置于所述偏振膜的所述第二主面侧；相位差层，其配置于所述偏振膜与所述粘合剂层之间；以及无机膜，其配置于所述偏振膜与所述粘合剂层之间，且包含硅；从所述偏振片至与所述粘合剂层相邻的层为止的层叠部分的厚度为50μm以下。
-
公开(公告)号：CN118103741A
公开(公告)日：2024-05-28
申请号：CN202280068406.6
申请日：2022-10-03
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: G02B5/30 , G02F1/1335 , G02F1/13363 , G02F1/1337 , G09F9/30
Abstract: 本发明提供在用于图像显示装置时能抑制脱色的薄型的带相位差层的偏振片。本发明的实施方式的带相位差层的偏振片具有：偏振膜，其包含碘，且具有相互对置的第一主面及第二主面；保护层，其配置于所述偏振膜的所述第一主面侧，且在40℃及92％RH下的透湿度为150g/m2·24h以下；粘合剂层，其配置于所述偏振膜的所述第二主面侧；相位差层，其配置于所述偏振膜与所述粘合剂层之间；以及无机膜，其配置于所述偏振膜与所述粘合剂层之间，且包含硅；从所述保护层至与所述粘合剂层相邻的层为止的层叠部分的厚度为50μm以下。
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
8
records
(took 0.02 seconds)
