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公开(公告)号：CN114318282A
公开(公告)日：2022-04-12
申请号：CN202111093101.4
申请日：2021-09-17
Applicant: 日东电工株式会社
Abstract: 本发明提供适合于在卷对卷方式的工艺中确保配置于比等离子体处理室靠下游的位置的成膜室的稳定的低压状态的光学薄膜的制造方法和光学薄膜制造装置。本发明的制造方法是一边以卷对卷方式输送工件薄膜一边制造光学薄膜的方法，包含等离子体处理室中的工序和成膜室(第2成膜室)中的工序。等离子体处理室具有在输送方向上配置于比室内的等离子体源靠上游的位置的第1排气口。在等离子体处理工序中，经由第1排气口对等离子体处理室进行排气，并对工件薄膜进行等离子体处理。在成膜工序中，在经由成膜室的第2排气口对成膜室进行排气从而将成膜室内维持在比等离子体处理室内的压力低的压力的同时，利用干式覆膜法在工件薄膜上进行成膜。
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