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公开(公告)号：CN101342524A
公开(公告)日：2009-01-14
申请号：CN200810135904.X
申请日：2008-07-03
Applicant: 日东电工株式会社
CPC classification number: B05C5/005
Abstract: 本发明提供一种金属型涂料机及其调整方法以及光学薄膜的制造方法。采用比较简单的结构，且减少因时效性变化而进行再调整的频度，并能以均匀的厚度涂填涂敷液。该金属型涂料机的其特征在于，其包括：第一组件和第二组件，它们相对配置而在前端部形成作为涂敷液排出口的狭缝；垫片，其被该第一组件和第二组件夹持。上述狭缝的宽度可根据该垫片的厚度进行调节，并且在该垫片的表面上，在上述狭缝的长度方向上形成局部的凹坑。
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公开(公告)号：CN112083522B
公开(公告)日：2024-06-28
申请号：CN202010489763.2
申请日：2020-06-02
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: G02B5/30 , G02B1/14 , B65H21/00 , B65H23/032
Abstract: 本发明提供能够减少因对保护薄膜实施的拼接处理而产生的偏光薄膜的浪费的偏光薄膜的制造方法等。在本发明中，对于贴合于偏振片(F1)的双面的保护薄膜(F2a、F2b)，将它们分别自卷绕于放出辊(60)的放出位置输送至贴合位置，并利用拼接处理装置(40)对它们分别实施拼接处理。本发明包含：剩余长度计算工序，在该工序中，利用剩余长度计算部件(20)分别计算卷绕于放出辊的保护薄膜的剩余长度；以及拼接处理工序，在该工序中，在保护薄膜的剩余长度中的至少任意一者为预定的阈值以下时，利用控制部件(30)来控制实施时刻而使贴合位置处的保护薄膜的拼接部(Sa、Sb)的位置偏移(L)处于规定范围内，实施针对保护薄膜的拼接处理。
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公开(公告)号：CN112083522A
公开(公告)日：2020-12-15
申请号：CN202010489763.2
申请日：2020-06-02
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: G02B5/30 , G02B1/14 , B65H21/00 , B65H23/032
Abstract: 本发明提供能够减少因对保护薄膜实施的拼接处理而产生的偏光薄膜的浪费的偏光薄膜的制造方法等。在本发明中，对于贴合于偏振片(F1)的双面的保护薄膜(F2a、F2b)，将它们分别自卷绕于放出辊(60)的放出位置输送至贴合位置，并利用拼接处理装置(40)对它们分别实施拼接处理。本发明包含：剩余长度计算工序，在该工序中，利用剩余长度计算部件(20)分别计算卷绕于放出辊的保护薄膜的剩余长度；以及拼接处理工序，在该工序中，在保护薄膜的剩余长度中的至少任意一者为预定的阈值以下时，利用控制部件(30)来控制实施时刻而使贴合位置处的保护薄膜的拼接部(Sa、Sb)的位置偏移(L)处于规定范围内，实施针对保护薄膜的拼接处理。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101342524B
公开(公告)日：2013-03-06
申请号：CN200810135904.X
申请日：2008-07-03
Applicant: 日东电工株式会社
CPC classification number: B05C5/005
Abstract: 本发明提供一种金属型涂料机及其调整方法以及光学薄膜的制造方法。采用比较简单的结构，且减少因时效性变化而进行再调整的频度，并能以均匀的厚度涂填涂敷液。该金属型涂料机的其特征在于，其包括：第一组件和第二组件，它们相对配置而在前端部形成作为涂敷液排出口的狭缝；垫片，其被该第一组件和第二组件夹持。上述狭缝的宽度可根据该垫片的厚度进行调节，并且在该垫片的表面上，在上述狭缝的长度方向上形成局部的凹坑。
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公开(公告)号：CN203759287U
公开(公告)日：2014-08-06
申请号：CN201420090334.8
申请日：2014-02-28
Applicant: 日东电工株式会社
Abstract: 本实用新型涉及一种偏光膜的制造装置，利用该偏光膜的制造装置制造出的偏光膜损伤、皱纹以及条纹少，没有折痕，外观优异。本实用新型的偏光膜的制造装置，其具备对原料膜实施膨润处理的浴槽、实施染色处理的浴槽和实施交联处理的浴槽，在至少一个所述浴槽中对所述原料膜进行拉伸，所述偏光膜的制造装置的特征在于，所述原料膜由驱动辊驱动，在所述浴槽中经由包含至少一根舒展辊的多个导向辊而被输送。在将该偏光膜的制造装置应用于偏光膜的湿式拉伸方法时，通过设置舒展辊，从而能够更有效地使原料膜被从该舒展辊的中央部向两端侧挤出，从而消除所得到的偏光膜上的褶皱。
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公开(公告)号：CN203894430U
公开(公告)日：2014-10-22
申请号：CN201420275151.3
申请日：2014-05-27
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: G02B5/30 , G02F1/1335
Abstract: 本实用新型提供一种面积效率得到提高、且可以削减操作人数，从而可以削减制造成本的偏光膜生产线(1a)，其至少具备原料膜供给部(2a)、染色拉伸处理部(3a)、干燥处理部(4a)、光固化性粘接剂涂布及透明保护膜贴合部(5a)、光固化处理部(6a)、偏光膜检查部(7a)、以及偏光膜卷取部(8a)，且上述各部分均设置在同一楼层。
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公开(公告)号：CN204143272U
公开(公告)日：2015-02-04
申请号：CN201420549180.4
申请日：2014-09-23
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: G05D23/20
Abstract: 本实用新型提供一种染色拉伸浴的液温控制装置，其特征在于，设有：装处理液的浴槽、第一热交换器、第二热交换器、电加热器、液温传感器、控制装置，处理液通过与浴槽相连的处理液循环配管及送液泵的作用进行循环，所述控制装置通过安装于浴槽内部的液温传感器来获得与处理液温度相关的信息，根据液温传感器的测定结果，当处理液温度高时，利用第一热交换器将处理液加热，对处理液温度进行粗调，并利用电加热器对处理液温度进行微调，当处理液温度低时，利用第二热交换器对处理液进行冷却。本实用新型提供的染色拉伸浴的液温控制装置能够使染色拉伸浴中处理液的液温保持恒定。
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