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公开(公告)号：CN112138959B
公开(公告)日：2024-01-12
申请号：CN202010257979.6
申请日：2020-04-03
Applicant: 日东电工株式会社
Abstract: 本发明提供偏振片的制造方法和偏振片的制造装置，制造光学上缺陷较少的偏振片。偏振片的制造方法具有：湿式处理工序，在该工序中，将含有亲水性聚合物的长条带状的膜卷材(B)沿长边方向输送，利用染色液将所述膜卷材(B)染色，并且将所述膜卷材(B)延伸；以及清洗工序，在该工序中，利用清洗液对进行了所述湿式处理的膜卷材(B)进行清洗，所述清洗工序具有清洗液涂布工序，在该清洗液涂布工序中，使用涂敷辊(6)将所述清洗液涂布于所述膜卷材(B)的一面。
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公开(公告)号：CN112138959A
公开(公告)日：2020-12-29
申请号：CN202010257979.6
申请日：2020-04-03
Applicant: 日东电工株式会社
Abstract: 本发明提供偏振片的制造方法和偏振片的制造装置，制造光学上缺陷较少的偏振片。偏振片的制造方法具有：湿式处理工序，在该工序中，将含有亲水性聚合物的长条带状的膜卷材(B)沿长边方向输送，利用染色液将所述膜卷材(B)染色，并且将所述膜卷材(B)延伸；以及清洗工序，在该工序中，利用清洗液对进行了所述湿式处理的膜卷材(B)进行清洗，所述清洗工序具有清洗液涂布工序，在该清洗液涂布工序中，使用涂敷辊(6)将所述清洗液涂布于所述膜卷材(B)的一面。
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公开(公告)号：CN112083522B
公开(公告)日：2024-06-28
申请号：CN202010489763.2
申请日：2020-06-02
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: G02B5/30 , G02B1/14 , B65H21/00 , B65H23/032
Abstract: 本发明提供能够减少因对保护薄膜实施的拼接处理而产生的偏光薄膜的浪费的偏光薄膜的制造方法等。在本发明中，对于贴合于偏振片(F1)的双面的保护薄膜(F2a、F2b)，将它们分别自卷绕于放出辊(60)的放出位置输送至贴合位置，并利用拼接处理装置(40)对它们分别实施拼接处理。本发明包含：剩余长度计算工序，在该工序中，利用剩余长度计算部件(20)分别计算卷绕于放出辊的保护薄膜的剩余长度；以及拼接处理工序，在该工序中，在保护薄膜的剩余长度中的至少任意一者为预定的阈值以下时，利用控制部件(30)来控制实施时刻而使贴合位置处的保护薄膜的拼接部(Sa、Sb)的位置偏移(L)处于规定范围内，实施针对保护薄膜的拼接处理。
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公开(公告)号：CN112083522A
公开(公告)日：2020-12-15
申请号：CN202010489763.2
申请日：2020-06-02
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: G02B5/30 , G02B1/14 , B65H21/00 , B65H23/032
Abstract: 本发明提供能够减少因对保护薄膜实施的拼接处理而产生的偏光薄膜的浪费的偏光薄膜的制造方法等。在本发明中，对于贴合于偏振片(F1)的双面的保护薄膜(F2a、F2b)，将它们分别自卷绕于放出辊(60)的放出位置输送至贴合位置，并利用拼接处理装置(40)对它们分别实施拼接处理。本发明包含：剩余长度计算工序，在该工序中，利用剩余长度计算部件(20)分别计算卷绕于放出辊的保护薄膜的剩余长度；以及拼接处理工序，在该工序中，在保护薄膜的剩余长度中的至少任意一者为预定的阈值以下时，利用控制部件(30)来控制实施时刻而使贴合位置处的保护薄膜的拼接部(Sa、Sb)的位置偏移(L)处于规定范围内，实施针对保护薄膜的拼接处理。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN205229502U
公开(公告)日：2016-05-11
申请号：CN201521013458.7
申请日：2015-12-09
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: G02B5/30
Abstract: 本实用新型提供一种偏光膜制造系统，包括：原料膜供给装置；偏光片制造装置，其具有对原料膜实施拉伸处理的拉伸处理部，拉伸处理部具有供待处理的原料膜进入的入口和将处理完的原料膜送出的出口；保护膜供给装置；贴合处理装置，其将偏光片与保护膜贴合，形成偏光膜；偏光膜卷取装置，其卷取来自贴合处理装置的偏光膜；入口侧宽度检测装置，其设置在拉伸处理部的入口附近，检测即将被该拉伸处理部实施拉伸处理的原料膜的宽度；出口侧宽度检测装置，其设置在拉伸处理部的出口附近，检测被该拉伸处理部实施了拉伸处理后的原料膜的宽度；运算处理装置，其根据宽度检测结果计算原料膜的拉伸倍率。由此，能够确保原料膜的拉伸倍率合乎要求。
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公开(公告)号：CN204134843U
公开(公告)日：2015-02-04
申请号：CN201420549357.0
申请日：2014-09-23
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: B05C11/10
Abstract: 一种光固化粘接剂的供液系统(2)，其向涂覆光固化粘结剂的涂覆装置(13)供应光固化粘结剂，包括：供应罐(201)，其储存待供应的光固化粘结剂；供应泵(202)，其从供应罐(201)向涂覆装置(13)供应光固化粘结剂；过滤器(203)，其过滤向涂覆装置(13)供应的光固化粘结剂中的杂质；供应流路(204)，其相对于光固化粘结剂的流动依次连接所述供应罐(201)、供应泵(202)、以及过滤器(203)，并经由过滤器(203)连接到涂覆装置(13)；在供应流路(204)上进一步设置光固化粘结剂的状态监测装置。根据该供液系统(2)，可以对进入涂覆装置(13)之前的光固化粘结剂进行监测，在被供应的光固化粘结剂状态有异常的情况下，可以更早地发现异常，以便采取更加及时有效的措施。
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公开(公告)号：CN203919955U
公开(公告)日：2014-11-05
申请号：CN201420305497.3
申请日：2014-06-10
Applicant: 日东电工株式会社
Abstract: 本实用新型提供一种基材膜剥离装置以及偏光膜制造装置。该基材膜剥离装置利用楔形剥离机构从包含偏光片、贴合在偏光片一侧的保护膜、贴合在偏光片另一侧的基材膜的层积型光学膜上剥离所述基材膜。该基材膜剥离装置具备第一输送机构、楔形剥离机构、卷绕机构和第二输送机构，所述第一输送机构将所述层积型光学膜输送到规定的剥离位置，所述楔形剥离机构设置在所述规定的剥离位置，并从所述层积型光学膜上剥离所述基材膜，所述卷绕机构卷绕被剥离的所述基材膜，所述第二输送机构输送被剥离了所述基材膜的所述层积型光学膜。通过该剥离机构，能够从层积型光学膜上顺畅、干净地剥离基材膜。
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公开(公告)号：CN209454204U
公开(公告)日：2019-10-01
申请号：CN201822239044.6
申请日：2018-12-28
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: B29D11/00
Abstract: 本实用新型提供处理膜的制造装置，能够防止来自处理槽的蒸汽向外部飞散，能够确保作业者的安全性，并且能够抑制区域传感器的误检测。处理膜的制造装置包括：输送辊，其输送树脂膜；处理槽，其收纳处理液；升降机构，其设于处理槽的上方且具有升降辊，通过沿上下方向升降而使升降辊在处理液内和处理液的上方之间升降；开闭部，其配置于处理槽的外侧，将处理槽及升降机构与外部隔开，并且构成为能够开闭；区域传感器，其配置于处理槽的外侧，对作业者进行检测；停止机构，其在区域传感器检测到作业者的情况下，使升降机构的升降停止；检测机构，其根据开闭部的开闭切换区域传感器的接通和断开。
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公开(公告)号：CN204142990U
公开(公告)日：2015-02-04
申请号：CN201420568529.9
申请日：2014-09-29
Applicant: 日东电工株式会社
Abstract: 本实用新型的偏光膜制造系统，包括：供给由偏光片和基材膜层叠而成的层叠体的层叠体供给装置；供给保护膜的保护膜供给装置；粘结剂涂敷装置，向来自层叠体供给装置的层叠体的偏光片侧和/或来自保护膜供给装置的保护膜涂覆光固化粘结剂；贴合处理装置，利用上述光固化粘结剂将层叠体的偏光片侧与保护膜贴合，形成偏光膜；光固化照射装置，对来自贴合处理装置的偏光膜实施光固化处理；偏光膜卷取装置，卷取来自光固化照射装置的偏光膜；固化前温度测定装置，设置在贴合处理装置的下游侧且光固化照射装置的上游侧，测定从贴合处理装置向光固化照射装置输送的偏光膜的表面温度。由此，能够容易地确认是否确保了偏光片与保护膜的光固化粘结质量。
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