一种纳米压印模板及其制备方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119937239A

    公开(公告)日:2025-05-06

    申请号:CN202311466768.3

    申请日:2023-11-06

    Abstract: 本发明涉及纳米压印技术领域,公开一种纳米压印模板及其制备方法,纳米压印模板包括:储气部和压印层,压印层具有压印图案;储气部具有朝向压印层的第一开口,压印层覆盖于第一开口,以与储气部围成储气腔;储气部具有与储气腔连通的进气口。当由进气口向储气腔进气时,储气腔内的压力逐渐变大,并驱动压印层向外部凸出,且压印层的中部位置先凸起,随着进气量的增加逐步向四周凸起,以上过程中,压印层的曲率可通过储气腔进气量的多少进行控制;当进行压印操作时,压印层的中部图案先压印至衬底上,再逐步向四周压印,从而,以步进的方式由中部向四周压印,将空气逐步赶走,避免压印层下方的气体没有排除干净,影响产品良率。

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