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公开(公告)号:CN116917082A
公开(公告)日:2023-10-20
申请号:CN202280017070.0
申请日:2022-02-08
Applicant: 应用材料公司
IPC: B24B37/30
Abstract: 抛光系统包括平台,平台具有用于支撑主抛光垫的顶面。平台可绕旋转轴线旋转,所述旋转轴线穿过平台的大致中心。环形凸缘从平台径向向外突出以支撑外抛光垫。环形凸缘具有内边缘,所述内边缘固定到平台并可随平台旋转的,并且相对于平台的顶面垂直固定。环形凸缘可垂直偏转,使得环形凸缘的外边缘可相对于内边缘垂直移动。致动器在角度受限区域中向环形凸缘的下侧施加压力,并且承载头保持基板与抛光垫接触并且可移动以选择性地将基板的一部分定位在外抛光垫上方。
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公开(公告)号:CN117047656A
公开(公告)日:2023-11-14
申请号:CN202211248829.4
申请日:2022-10-12
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 本申请公开了具有局部内环下压力控制的抛光头。化学机械抛光设备的示例性承载头可包括载具主体。承载头可包括与载具主体耦合的基板安装表面。承载头可包括内环,所述内环尺寸设计成和整形成周向地围绕抵靠基板安装表面定位的基板的外围边缘。所述内环的特征可以是面对所述载具主体的第一表面和并且与所述第一表面相对的第二表面。承载头可包括至少一个下压力控制致动器,所述至少一个下压力控制致动器被设置在所述内环的所述第一表面上方、在绕所述内环的圆周的离散位置处。
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公开(公告)号:CN219666224U
公开(公告)日:2023-09-12
申请号:CN202222689568.1
申请日:2022-10-12
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 本申请公开了具有局部内环下压力控制的抛光头。化学机械抛光设备的示例性承载头可包括载具主体。承载头可包括与载具主体耦合的基板安装表面。承载头可包括内环,所述内环尺寸设计成和整形成周向地围绕抵靠基板安装表面定位的基板的外围边缘。所述内环的特征可以是面对所述载具主体的第一表面和并且与所述第一表面相对的第二表面。承载头可包括至少一个下压力控制致动器,所述至少一个下压力控制致动器被设置在所述内环的所述第一表面上方、在绕所述内环的圆周的离散位置处。
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