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公开(公告)号：CN116917082A
公开(公告)日：2023-10-20
申请号：CN202280017070.0
申请日：2022-02-08
Applicant: 应用材料公司
IPC: B24B37/30
Abstract: 抛光系统包括平台，平台具有用于支撑主抛光垫的顶面。平台可绕旋转轴线旋转，所述旋转轴线穿过平台的大致中心。环形凸缘从平台径向向外突出以支撑外抛光垫。环形凸缘具有内边缘，所述内边缘固定到平台并可随平台旋转的，并且相对于平台的顶面垂直固定。环形凸缘可垂直偏转，使得环形凸缘的外边缘可相对于内边缘垂直移动。致动器在角度受限区域中向环形凸缘的下侧施加压力，并且承载头保持基板与抛光垫接触并且可移动以选择性地将基板的一部分定位在外抛光垫上方。
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公开(公告)号：CN113874167A
公开(公告)日：2021-12-31
申请号：CN202080037438.0
申请日：2020-05-27
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 本公开的实施例总体上涉及制造用于化学机械抛光(CMP)系统的抛光台板的方法以及由其形成的抛光台板。一种制造抛光台板的方法包括将抛光台板定位在制造系统的支撑件上。所述制造系统包括支撑件和面向支撑件的切割工具。此处，抛光台板包括圆柱形金属体，所述圆柱形金属体的表面上设置有聚合物层，并且所述聚合物层的厚度为约100μm或以上。所述方法还包括使用切割工具去除聚合物层的至少一部分，以形成抛光垫安装表面。有利地，所述方法可以用于形成具有期望的平坦度或形状(诸如凹入形状或凸出形状)的垫安装表面。
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公开(公告)号：CN113874167B
公开(公告)日：2024-05-07
申请号：CN202080037438.0
申请日：2020-05-27
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 本公开的实施例总体上涉及制造用于化学机械抛光(CMP)系统的抛光台板的方法以及由其形成的抛光台板。一种制造抛光台板的方法包括将抛光台板定位在制造系统的支撑件上。所述制造系统包括支撑件和面向支撑件的切割工具。此处，抛光台板包括圆柱形金属体，所述圆柱形金属体的表面上设置有聚合物层，并且所述聚合物层的厚度为约100μm或以上。所述方法还包括使用切割工具去除聚合物层的至少一部分，以形成抛光垫安装表面。有利地，所述方法可以用于形成具有期望的平坦度或形状(诸如凹入形状或凸出形状)的垫安装表面。
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