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公开(公告)号：CN118402055A
公开(公告)日：2024-07-26
申请号：CN202280082984.5
申请日：2022-12-15
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 詹姆斯·大卫·卡杜奇 , 肯尼思·S·柯林斯 , 迈克尔·R·赖斯 , 卡提克·雷马斯瓦米 , 西尔韦斯特·安东尼·罗德里格斯 , 杨扬
IPC: H01L21/683 , H01L21/687 , H01L21/67 , H01J37/32
Abstract: 本文提供用于在基板处理腔室中使用的基板支撑件的实施方式。在一些实施方式中，一种用于在基板处理腔室中使用的基板支撑件包括：基座，具有经配置以支撑基板的第一侧和与第一侧相对的第二侧；多个基板升降杆，延伸穿过基座，其中多个第一间隙设置在多个基板升降杆与基座中的多个基板升降杆开口的相应基板升降杆开口之间；及真空管线，从多个基板升降杆开口延伸并且经配置以抽空多个基板升降杆开口。
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