处理腔室校准
    2.
    发明公开
    处理腔室校准 审中-实审

    公开(公告)号:CN118511264A

    公开(公告)日:2024-08-16

    申请号:CN202380016447.5

    申请日:2023-01-06

    Abstract: 方法包括从传感器接收与经由基板处理装备的处理腔室处理基板相关联的传感器数据。这些传感器数据包括从一或多个第一传感器接收的第一子集合,和从一或多个第二传感器接收的第二子集合,第一子集合被映射至第二子集合。所述方法进一步包括识别模型输入数据与模型输出数据。模型输出数据是基于模型输入数据从基于物理学的模型输出的。所述方法进一步包括利用包括第一子集合与模型输入数据的数据输入及包括第二子集合与模型输出数据的目标输出数据来训练机器学习模型,以调谐机器学习模型的校准参数。校准参数会被基于物理学的模型使用,以实行与处理腔室相关联的校正动作。

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