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公开(公告)号:CN117981043A
公开(公告)日:2024-05-03
申请号:CN202280064304.7
申请日:2022-07-01
Applicant: 应用材料公司
Inventor: 王智勇 , 哈伯特·冲 , 约翰·C·福斯特 , 艾琳娜·H·威索克 , 石铁峰 , 符钢 , 雷努·辉格 , 基思·A·米勒 , S·R·V·雷迪 , 雷建新 , 汪荣军 , 龚则敬 , 克兰库玛尔·纽拉桑德拉·萨凡迪亚 , 阿维纳什·纳亚克 , 周磊
Abstract: 本文提供了用于处理基板的方法及装置。例如,一种用于处理基板的处理腔室包含:溅射靶材;腔室壁,至少部分地界定处理腔室之内的内部空间并且连接至地;电源,包含射频电源;处理套组,围绕溅射靶材及基板支撑件;自动电容调谐器(ACT),连接至地及溅射靶材;及控制器,被构造为激发安置在处理腔室的内部空间中的清洁气体以产生等离子体,并且使用ACT调谐溅射靶材以在蚀刻工艺期间保持内部空间中的等离子体与处理套组之间的预定电位差,以从处理套组中移除溅射材料,其中该预定电位差基于ACT的谐振点。
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公开(公告)号:CN119998917A
公开(公告)日:2025-05-13
申请号:CN202380070020.3
申请日:2023-06-13
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 本文所提供的实施方式一般包括用于在一个电源的多个频带上进行动态阻抗匹配的装置、等离子体处理系统和方法。一个示例方法包括:放大宽带信号;将所述被放大的宽带信号在与阻抗匹配网络耦合的多个通道路径上进行分离;以及至少部分地基于与所述宽带信号相关联的反馈,调整与所述阻抗匹配网络相关联的至少一个第一阻抗,以实现在一个阈值内的第二阻抗。所述阻抗匹配网络包括与等离子体激发电路系统耦合的多个阻抗匹配电路,并且所述阻抗匹配电路中的每一者与所述多个通道路径中一个不同的路径和一个输出节点耦合。
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