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公开(公告)号：CN105026608A
公开(公告)日：2015-11-04
申请号：CN201480010487.X
申请日：2014-03-07
Applicant: 应用材料公司
IPC: C23C14/34
CPC classification number: C23C14/3407 , H01J37/3414 , H01J37/3435 , Y10T428/218 , Y10T428/219
Abstract: 在一些实施方式中，一种用于具有处理屏蔽件的基板处理腔室中使用的靶组件可包括：背板，具有第一侧和相对的第二侧，其中该第二侧包含具有第一直径的第一表面，由第一边缘约束该第一表面；靶材料，具有粘合至背板的第一表面的第一侧；其中第一边缘为背板与靶材料之间的界面；和多个槽缝，沿背板的外部外围安置以在使用期间相对于处理屏蔽件对准靶组件，其中在背板的第一侧中形成多个槽缝并且所述多个槽缝仅部分延伸至背板中。
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公开(公告)号：CN107250425B
公开(公告)日：2020-01-07
申请号：CN201680011100.1
申请日：2016-02-23
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 在一些实施方式中，一种将含金属层沉积于设置在物理气相沉积(PVD)腔室中的基板上的方法，包括以下步骤：提供等离子体形成气体至该PVD腔室的处理区域；提供第一量的RF功率至与该基板相对设置的靶组件以在该PVD腔室的该处理区域内形成等离子体；溅射来自该靶组件的源材料以将含金属层沉积于该基板上，其中该源材料是在第一侵蚀状态；以及当该靶从该第一侵蚀状态侵蚀至第二侵蚀状态，溅射源材料以将该基板的表面处的离子能维持在预定范围内的同时，调节与基板支撑件耦接的自动电容调节器。
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公开(公告)号：CN107004628B
公开(公告)日：2020-09-15
申请号：CN201580065413.0
申请日：2015-12-08
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/683
Abstract: 一种静电吸盘，包括圆盘、主体、DC电压感测电路和电感器，所述圆盘具有支撑表面以及相对的第二表面，当基板设置于圆盘上时，支撑表面支撑所述基板，其中一或多个吸附电极嵌入于圆盘中，所述主体具有耦接至所述圆盘的所述第二表面的支撑表面以支撑所述圆盘，所述DC电压感测电路设置于所述圆盘的支撑表面上，所述电感器设置于所述主体中且靠近所述主体的支撑表面，其中所述电感器电耦接至DC电压感测电路，并且其中所述电感器被配置为过滤高频电流以准确地测量所述基板上的DC电位。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105008581B
公开(公告)日：2017-09-12
申请号：CN201480010488.4
申请日：2014-03-07
Applicant: 应用材料公司
IPC: C23C14/34
CPC classification number: C23C14/564 , H01J37/32623 , H01J37/32651 , H01J37/34 , H01J37/3447 , Y10T428/13 , Y10T428/131
Abstract: 一种处理屏蔽件，该处理屏蔽件可包括伸长环形主体，该伸长环形主体具有外表面和内表面；唇，该唇自该主体的外表面(位于该主体的第一端附近)向外径向延伸，使得该主体的第一部分向该第一端延伸超过该唇；多个开口，所述多个开口位于唇中；和销，该销设置于所述多个开口的每一者中，以在盖置放于该处理屏蔽件的顶部上时，使靶组件对准于该处理屏蔽件的顶部上，其中该销包含：伸长主体，该伸长主体具有：第一表面，该第一表面具有斜的周缘，其中该第一表面具有第一直径；第二表面，该第二表面与第一表面相对，其中该第二表面具有第二直径；和侧壁，该侧壁位于该第一表面与该第二表面之间，其中该侧壁具有凹面部分，该凹面部分具有第三直径。
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公开(公告)号：CN104334768B
公开(公告)日：2018-07-20
申请号：CN201380027482.3
申请日：2013-05-23
Applicant: 应用材料公司
CPC classification number: C23C14/50 , H01J37/32577 , H01J37/32697 , H01J37/32715 , H01J37/32724 , H01J37/34
Abstract: 在此提供具有射频(RF)返回路径的基板支撑件的实施方式。在一些实施方式中，基板支撑件可包括介电支撑主体、夹具电极和RF返回路径电极，所述介电支撑主体具有支撑表面和相对的第二表面，所述支撑表面用以在其上支撑基板；所述夹具电极位于支撑主体内并靠近支撑表面；所述RF返回路径电极位于介电支撑主体的第二表面上。在一些实施方式中，基板处理系统可包括处理腔室、屏蔽件和基板支撑件，所述处理腔室具有内容积；所述屏蔽件将内容积分为处理容积和非处理容积，并且所述屏蔽件朝向处理腔室的天花板延伸；基板支撑件位于屏蔽件下方，其中所述基板支撑件如以上所描述。
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公开(公告)号：CN104937134A
公开(公告)日：2015-09-23
申请号：CN201480005804.9
申请日：2014-02-24
Applicant: 应用材料公司
IPC: C23C14/35
CPC classification number: H01J37/3455 , H01J37/3405 , H01J37/3452 , H01J37/3461
Abstract: 本文提供用于磁电管组件的方法和设备。在一些实施方式中，磁电管组件包括：第一底板；第二底板，所述第二底板相对于第一底板在第一位置与第二位置之间是可移动的；外部磁极，所述外部磁极为环形并包括耦接至第一底板的外部磁极区段和耦接至第二底板的外部磁极区段；和内部磁极，所述内部磁极设置于外部磁极内，其中外部磁极和内部磁极限定闭环磁场，并且其中当在第一位置和第二位置两者中设置第二底板时维持所述闭环磁场。
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